一种高效低损伤金刚石研磨液及其制备方法

    公开(公告)号:CN115725242A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202211577200.4

    申请日:2022-12-09

    Abstract: 本发明涉及一种高效低损伤金刚石研磨液,由以下重量份数的原料组成:金刚石微粉0.5‑15份;反应型增稠剂1‑10份;减粘流平剂0.1‑5份;润滑剂1‑20份;消泡剂0.001‑0.1份;水:10‑90份。该金刚石研磨液用于双面研磨时,可均匀分布于硬质研磨盘面,无返稀或分布缺失问题发生,可减少划伤产生,避免局部温度过高造成几何参数失控;同时其增稠减粘特性,在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时,也可实现研磨液的及时更新,稳定研磨加工性能。

    一种流体磨具均匀性的无损检测装置及测试方法

    公开(公告)号:CN115096943A

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202210708047.8

    申请日:2022-06-21

    Abstract: 本发明提出了一种流体磨具均匀性的无损检测装置及测试方法,分别抽取样品中最大组分原料为xmax样品与最小组分原料为xmin样品,依据xmax样品与xmin样品的检测值计算得到相对标准偏差,随后利用绝对均匀状态与50%不均匀状态下两特征点进行线性回归求出均匀性系数,依次抽取n个被检测产品样品,根据检测结果相对标准偏差Sr与均匀性Hg,实现对产品均匀性的评估。本发明大大提升了检测设备的智能化程度与检测效率,降低了检测人员的工作量,保障产品质量均匀性,为其加工均匀稳定性保驾护航,提升客户工件品质,减少返工返修和报废,在检测过程中实现了样品的无损检测,保证检测后的样本可继续使用,降低了检测成本。

    一种浓缩型水性研磨助剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN115926747B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202211571493.5

    申请日:2022-12-08

    Abstract: 本发明涉及一种浓缩型水性研磨助剂,其由以下重量份数的原料组成:去离子水30‑50份,复合型触变剂5‑10份,乳液稳定剂5‑10份,润滑剂20‑30份,杀菌剂1‑5份,消泡剂1‑5份。将本发明浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工,可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本;同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮,并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力,增加润滑性,有效改善研磨表面质量,并大大缩短后道晶圆抛光时间。

    一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液及其制备方法

    公开(公告)号:CN115746789A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211588554.9

    申请日:2022-12-12

    Abstract: 本发明涉及一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液,其由下述重量份数的原料组成:金刚石微粉0.5‑15份,密度调节剂1‑50份,悬浮剂0.01‑10份,流动性调节剂0.1‑5份,粘度调节剂0.1‑5份,润滑剂1‑50份,消泡剂0.0001‑0.5份,水10‑90份。相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液,本发明产品具有更好的产品品质观感;将其应用于研磨加工时性能稳定,有更好的加工效率和加工表面质量;应用于研磨抛光液的批量化生产时,无沉降聚集造成灌装不均的隐忧,可实现批量化稳定生产。

    一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN112592663B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202011523862.4

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法,属于超精密研磨抛光技术领域,所述抛光液由以下重量份数的原料组成:水50‑85份;金刚石微粉0.5‑15份;分散剂0.1‑5份;悬浮剂0.1‑5份;润滑剂1‑40份;消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm,所述金刚石微粉中,耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1,其中,圆度Fc>0.950为圆形磨粒;0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成,在耐磨磨粒提高抛光效率的同时,借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度,从而实现对抛光划伤的控制。

    一种喷雾型金刚石研磨液及其制备方法

    公开(公告)号:CN113265224A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110471142.6

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明涉及一种喷雾型金刚石研磨液,其由以下重量份数的原料组成:水50‑85份,金刚石微粉0.5‑15份,复配型乳化分散剂0.1‑5份,复配型液体增粘剂0.2‑5份,保水剂10‑40份,消泡剂0.001‑0.1份。将该研磨液用于喷雾供液系统时,可有效减少雾化飞散液滴的产生,并可加速液滴沉降,在提升研磨液利用率的同时可以显著避免雾化吸入,从而降低对操作人员的身心伤害。

    一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN112592663A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202011523862.4

    申请日:2020-12-22

    Abstract: 本发明公开一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法,属于超精密研磨抛光技术领域,所述抛光液由以下重量份数的原料组成:水50‑85份;金刚石微粉0.5‑15份;分散剂0.1‑5份;悬浮剂0.1‑5份;润滑剂1‑40份;消泡剂0.001‑0.1份,金刚石微粉粒度10‑1000nm,所述金刚石微粉中,耐磨磨粒/圆形磨粒颗粒数比值为1‑15:1,其中,圆度Fc>0.950为圆形磨粒;0.900≤Fc≤0.950为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成,在耐磨磨粒提高抛光效率的同时,借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度,从而实现对抛光划伤的控制。

    一种水包油乳化型金刚石研磨液及其制备方法

    公开(公告)号:CN105349046A

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201510744230.3

    申请日:2015-11-04

    CPC classification number: C09G1/02 C09K3/1463

    Abstract: 本发明公开了一种水包油乳化型金刚石研磨液及其制备方法,属于精密超精密研磨加工技术领域。该乳化型金刚石研磨液由以下质量份数的组分制成:金刚石磨料0.1~5份,硅烷偶联剂0.1~3份,阴离子表面活性剂0.05~1.5份,两性离子表面活性剂0.05~1.5份,改性聚脲的N-甲基吡咯烷酮1~5份,N-甲基吡咯烷酮0.1~0.5份,C12~C16的饱和烷烃5~10份,乙二醇和/或聚乙二醇10~30份,水43.5~83.6份。该研磨液同时具有水性研磨液良好的冷却性、清洗性以及油性研磨液优越的润滑性。

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