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公开(公告)号：CN1200902C
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN100478411C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN03157777.6
申请日：2003-08-28
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C09D183/00 , C09D5/30 , H01J5/08 , C03C17/30
Abstract: 本发明提供了透明薄膜形成用涂布液、利用该涂布液形成的带透明导电性薄膜的基体材料及具备该基体材料的显示装置。使用该涂布液形成透明薄膜时不会产生裂缝，且在导电层形成于下层时，包括导电层在内均匀地收缩，因此可形成不会产生裂缝、膜强度和导电性得到提高的透明薄膜。本发明的透明薄膜形成用涂布液包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量%的范围内。上述基质前体为四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
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公开(公告)号：CN1312035C
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200310121304.5
申请日：2003-12-11
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C01B33/14 , C01B33/141 , C01B33/143
Abstract: 在种粒子分散液中添加规定大小的活性硅酸粒子，可以使种粒子迅速增大。本发明提供一种硅溶胶的制造方法，其特征是在下述(a)的种粒子分散液中，边加热边连续或间断地添加下述(b)的活性硅酸粒子分散液，由此使活性硅酸粒子附着在种粒子上使粒子增大。(a)种粒子的分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLS)在5～1000nm范围内的种粒子的水性分散液，pH在7～12范围内；(b)活性硅酸粒子分散液，是通过激光用动态光散射法测定的平均粒径(DLF)在2～50nm范围内(但是，平均粒径(DLF)小于平均粒径(DLS))、并且用NaOH滴定法测定的平均粒径(DNaF)在0.9～6nm的范围内，再者，上述平均粒径(DLF)与上述平均粒径(DNaF)之比(DLF)/(DNaF)在1.8～30范围内的活性硅酸粒子的水性分散液，pH在5～11范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1241974C
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN99802769.3
申请日：1999-01-29
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: C08G77/16 , C08G77/06 , C08L83/06 , G02F1/1339
CPC classification number: C08G77/06 , C08G77/16 , G02F1/13392
Abstract: 主要由聚硅氧烷制成的有机聚硅氧烷细颗粒，该聚硅氧烷具有与硅原子直接相连的烃基(a)和与硅原子直接相连的OH基团(b)，其中：(i)所述烃基(a)中的碳占所述细颗粒重量的5-35%；(ii)每克细颗粒中OH基团(b)的量占1-8毫克当量；(iii)10%压缩弹性模量为150-900kg/mm2；(iv)平均压缩变形(Cr)m为20-60%；(v)平均弹性回复率(Rr)m为60-90%；(vi)平均粒径为0.5-50微米。
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公开(公告)号：CN1673144A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510054846.4
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供了一种无机化合物颗粒，它包括：壳，以及封入壳中的多孔物质或空腔。还提供了制备所述无机化合物颗粒的方法，它包括以下步骤：分别制备二氧化硅源(原材料)和非二氧化硅无机化合物源(原材料)的碱性水溶液，或者预先制备二氧化硅源和非二氧化硅无机化合物源的混合物的水溶液；从多孔材料前体颗粒中至少部分地将非二氧化硅的无机化合物(除了硅和氧以外的元素)选择性地除去；将可水解的有机硅化合物或硅酸溶液加入步骤2中制得的多孔材料颗粒(包括壳中有空腔的颗粒的前体)的分散液中。
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公开(公告)号：CN1599697A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN02824068.5
申请日：2002-10-29
Applicant: 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: B82Y30/00 , B01J21/063 , B01J21/066 , B01J35/004 , B01J37/036 , B01J37/16 , C01G23/00 , C01G23/04 , C01G23/0536 , C01G25/00 , C01P2002/52 , C01P2004/03 , C01P2004/13 , C01P2004/54 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/40 , H01G9/2031 , Y02E10/542 , Y10T428/2975 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明制备管形氧化钛颗粒的方法包括：通过将(i)氧化钛颗粒和/或(ii)包含氧化钛和除氧化钛外的其他氧化物的氧化钛型复合氧化物颗粒分散在水中，制得水分散溶胶，所述颗粒的平均粒径为2－100nm，将制得的水分散溶胶在碱金属氢氧化物存在下进行水热处理。水热处理后，可进行还原处理(包括氮化处理)。采用这种方法制得的管形氧化钛颗粒可用作催化剂、催化剂载体、吸附剂、光催化剂、装饰材料、光学材料和光电转换材料。尤其当颗粒用于光伏电池的半导体膜或光催化剂时，具有显著的促进效果。
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公开(公告)号：CN1436156A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN01807058.2
申请日：2001-06-20
Applicant: 株式会社东芝 , 旭硝子株式会社 , 触媒化成工业株式会社
CPC classification number: C03C17/3655 , C03C17/007 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/3676 , C03C2217/425 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , C03C2217/76 , C03C2217/78 , Y10T428/249953 , Y10T428/249962 , Y10T428/249998 , Y10T428/25 , Y10T428/2982 , Y10T428/2984 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
Abstract: 提供一种透明涂膜基片，它具有折射指数较小、收缩性能较低的透明膜；该透明膜对基片或在基片上形成的透明导电膜有极好的附着性，并且具有极好的膜强度、防水性、耐化学性等性质。透明涂膜基片由基片和在基片的表面上形成的透明涂膜形成，透明涂膜包含(i)含有具有氟代烷基的聚硅酮的基质，(ii)由壳和封入壳中的多孔物质或空腔构成的无机化合物颗粒，所述多孔物质或空腔在所形成的透明涂膜中保持不变。
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公开(公告)号：CN1418610A
公开(公告)日：2003-05-21
申请号：CN02148605.0
申请日：2002-11-12
Applicant: 触媒化成工业株式会社
IPC: A61K6/04
CPC classification number: C04B35/63 , A61K6/0008 , A61K6/0076 , A61K6/0088 , A61K6/0235 , A61K6/024 , A61K6/0245 , A61K6/0255 , C04B35/62655 , C04B38/009 , C04B2111/00836 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3284 , C04B2235/3409 , C04B2235/3418 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/9646 , C04B12/04 , C04B22/08 , C04B28/24 , C04B40/0082 , A61K6/083 , C08L43/04 , C08L33/14 , C08L33/10
Abstract: 本发明提供由二氧化硅与二氧化硅以外的无机氧化物组成的、非晶质的、X射线不透明性高的牙科材料用无机粒子。该牙科材料用无机粒子，由含量为70－98重量％的二氧化硅和选自Zr、Ti、La、Ba、Sr、Hf、Y、Zn、Al、B中1种或2种以上元素的氧化物组成，其中二氧化硅的5－70重量％来自于酸性硅酸溶液，二氧化硅的30－95重量％来自于硅溶胶。该牙科材料用无机粒子，其平均粒径在1－10μm的范围内，比表面积在50－350m2/g的范围内，细孔容积在0.05－0.5ml/g的范围内，由X射线衍射得到的结晶性为无定型，折射率在1.47－1.60的范围内。
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