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公开(公告)号：CN107421464A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710609100.8
申请日：2017-07-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G01B11/2441 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于表面形貌测量的高精度干涉型双位相光栅位移传感器，它包括激光器、反射型柱面全息位相光栅、对称设置的两个平面反射镜、线密度为反射型柱面全息位相光栅线密度的两倍的参考平面光栅、对称设置的两个光电探测器、分别与两个光电探测器相连接的两个信号处理装置、一端与反射型柱面全息位相光栅相连接的测量杠杆、与测量杠杆的另一端相连接且与待测工件的表面相接触的触针；反射型柱面全息位相光栅并产生衍射角为θ的±1级衍射光，经过两个平面反射镜反射后入射至参考平面光栅上的同一光栅区域并分别在±θ角方向产生两组不同级次的衍射光的干涉条纹，分别由两个光电探测器接收并转换为电信号发送至信号处理装置进行处理。
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公开(公告)号：CN104375227A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201410731545.X
申请日：2014-12-05
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/2022
Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理，在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。
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公开(公告)号：CN101377413B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810156859.6
申请日：2008-09-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法，其特征在于：采用TE/TM线偏振光为入射光，入射角为被测掩模的闪耀角，分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D0(λ)；被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ)；采用比较法，计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ)，对其进行光谱反演，得到掩模的槽形参数：光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测；且可以避免测量系统的误差，对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求，测量方法简单易行。
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公开(公告)号：CN101393303B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810156771.4
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作近红外波段三维光子晶体的方法，利用全息干涉形成一维光子晶体掩模，通过离子束刻蚀或反应离子束刻蚀把掩模转移到硅基底材料上的SiO2层上，在刻蚀过的沟槽里填入高折射率材料，用离子束刻蚀法抛光表面，接着再沉积上SiO2，涂布光刻胶、全息光刻、离子束刻蚀等形成第二层，重复以上步聚，层与层之间采用莫尔条纹法对准，最后使用酸洗法去除SiO2，获得所需的三维光子晶体。本发明充分利用了全息光刻的亚微米分辨率，可以制作大面积的三维光子晶体，之后可根据需要切割成小块，具有高效低成本的优势；同时，在干涉场中，通过改变两束相干光的波前，便于引入大面积、周期性的缺陷。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN118377075A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410811024.9
申请日：2024-06-21
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及直边衍射抑制技术领域，公开一种抑制拼接光栅拼缝的直边衍射效应的方法和光栅，包括：根据不同占空比下栅齿的衍射效率和槽深的对应关系，在拼接光栅的拼缝两侧对称设置不同槽深的栅齿；栅齿沿光栅设置的方向上，顺序排列的栅齿对应的衍射效率呈截断式非规整振幅的超高斯函数、截断式的线性函数或截断式非规整振幅的正弦函数分布。本发明可以抑制拼缝的直边衍射在衍射光场中产生的光场调制、避免调制光强分布中的极大光强对后续光学元件的物理损伤。
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公开(公告)号：CN111065968A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的-1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN108318954B
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201810312061.X
申请日：2018-04-09
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种宽光束扫描曝光系统与方法，为解决制作米级光栅曝光时间过长引起的时效性差以及环境不确定性导致扫描条纹对比度下降问题，采用干涉条纹扫描技术无缝连续拼接光栅；在扫描曝光过程中，运用多维条纹锁定技术，始终以扫描曝光过的潜像光栅的潜像条纹作为锁定条纹，直至扫描曝光结束；在移动曝光中实现了实时闭环的锁定第一曝光光束与第二曝光光束的相位差，条纹周期、以及第一曝光光束与第二曝光光束夹角，从而在一个扫描周期即可获得高质量的且受环境因素影响小的无缝拼接米级光栅；光束整形压缩柱面系统的使用有效增加了光束的利用率，同时保证光束的波面质量，大大缩短了米量级光栅的制备时间。
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公开(公告)号：CN104375227B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410731545.X
申请日：2014-12-05
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理,在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。
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