公开(公告)号：CN104375227B

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：CN201410731545.X

申请日：2014-12-05

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李朝明 ,  吴建宏 ,  陈新荣 ,  胡祖元 ,  钱国林 ,  邹文龙

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理,在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。

公开(公告)号：CN104375227A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201410731545.X

申请日：2014-12-05

Applicant: 苏州大学

Inventor： 李朝明 ,  吴建宏 ,  陈新荣 ,  胡祖元 ,  钱国林 ,  邹文龙

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/1857 ,  G03F7/2022

Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理，在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。