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公开(公告)号：CN105938318A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201610368279.8
申请日：2016-05-30
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G03H1/12 , G02B27/2271
Abstract: 本发明属于计算全息与三维显示领域，具体涉及一种基于时分复用的彩色全息三维显示方法及其系统。该显示系统利用CCD摄像机或计算机图形学的方法获取彩色目标物体的多视角二维图像，经预处理变换过程后生成一组适用于位相型全息图计算的目标图像；应用迭代傅里叶变换算法计算相应的位相型全息图，并分时地加载到空间光调制器上，同步控制电路控制红、绿、蓝三色光源同步顺序显示，在重构平面分时产生三个单色全息再现像，将相应的再现像像素定向衍射到像素型纳米光栅的固定的位置，形成不同的视点，得到多视角彩色再现像，实现真彩色三维立体显示。结合空间光调制器对全息图的快速刷新加载，实现目标物的多视角真彩色全视差动态全息三维再现。
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公开(公告)号：CN104375227A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201410731545.X
申请日：2014-12-05
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/2022
Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理，在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。
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公开(公告)号：CN101320207B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200810023121.2
申请日：2008-07-14
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息-离子束刻蚀制备光栅的方法，首先进行全息光刻，获得光刻胶光栅掩模，然后进行离子束刻蚀，最后去除残余的光刻胶，获得所需的光栅，其特征在于：所述离子束刻蚀为，先用氩离子束进行刻蚀1至3分钟，再用三氟甲烷反应离子束刻蚀至所需槽形深度。本发明在离子束刻蚀中，采用了两步法，首先进行氩离子束刻蚀，对光刻胶光栅掩模进行形貌修正，再采用三氟甲烷进行刻蚀，从而可以获得较小占宽比的光栅；通过对氩离子束刻蚀的时间控制，实现对光栅占宽比的控制，方法简便、易于实现，是控制刻蚀光栅占宽比的有效方法。
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公开(公告)号：CN101377413B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810156859.6
申请日：2008-09-28
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法，其特征在于：采用TE/TM线偏振光为入射光，入射角为被测掩模的闪耀角，分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D0(λ)；被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ)；采用比较法，计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ)，对其进行光谱反演，得到掩模的槽形参数：光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测；且可以避免测量系统的误差，对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求，测量方法简单易行。
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公开(公告)号：CN101393303B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810156771.4
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作近红外波段三维光子晶体的方法，利用全息干涉形成一维光子晶体掩模，通过离子束刻蚀或反应离子束刻蚀把掩模转移到硅基底材料上的SiO2层上，在刻蚀过的沟槽里填入高折射率材料，用离子束刻蚀法抛光表面，接着再沉积上SiO2，涂布光刻胶、全息光刻、离子束刻蚀等形成第二层，重复以上步聚，层与层之间采用莫尔条纹法对准，最后使用酸洗法去除SiO2，获得所需的三维光子晶体。本发明充分利用了全息光刻的亚微米分辨率，可以制作大面积的三维光子晶体，之后可根据需要切割成小块，具有高效低成本的优势；同时，在干涉场中，通过改变两束相干光的波前，便于引入大面积、周期性的缺陷。
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公开(公告)号：CN1821883A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN1096617C
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN99116873.9
申请日：1999-09-13
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及一种全息窄带带阻滤光片，玻璃基片[2]上涂敷有一层介质层，该介质层为带有反射。全息衍射层的重铬酸明胶层[1]，所述的重铬酸明胶层[1]上涂敷有环氧树脂层[3]，所述的环氧树脂层[3]上粘结固定有封片玻璃[4]，其特征在于：由重铬酸明胶层[1]制成的反射全息衍射层的折射率调制度n1(z)、折射率变化空间频率的改变G(z)按公式分布，按此分布规律制成的窄带带阻滤光片的半宽度在10nm以下，光密度可达6D以上。
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公开(公告)号：CN111065968A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的-1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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