便携式加热保温控湿套件

    公开(公告)号:CN103948329B

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201410210887.7

    申请日:2014-05-19

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明涉及一种便携式加热保温控湿套件,其包括保温腔体、加热腔体、控湿腔体、传感模块、中央控制单元、调节模块、信号处理电路和显示电路;所述传感模块置于所述保温腔体内部,包括用于检测所述保温腔体内部空气的温度传感器和湿度传感器;所述加热腔体内设有加热器;所述控湿腔体内设有干燥剂放置槽、排水口和半导体制冷片;所述加热腔体与所述控湿腔体之间通过换气扇加速气体交换;所述传感模块、所述加热腔体、所述控湿腔体的物理信号由所述中央控制单元、所述信息处理电路和所述调节模块进行控制、调节;所述显示电路具有数字显示等功能。本发明结构简单紧凑,使用方便,适应性好,节能环保,干净卫生,安全可靠。

    一种PMOS触发LDMOS-SCR结构的高维持电压ESD保护器件

    公开(公告)号:CN105489603A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201610008442.X

    申请日:2016-01-06

    Applicant: 江南大学

    CPC classification number: H01L27/0266 H01L27/027

    Abstract: 一种PMOS触发LDMOS-SCR结构的高维持电压ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、N阱、P阱、第一P+注入区、第二P+注入区、N+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该LDMOS-SCR结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第三P+注入区、第二多晶硅栅及其覆盖的薄栅氧化层、N阱、第四P+注入区构成的PMOS泄放路径,提高器件的维持电压、降低器件的触发电压;另一方面由所述第四P+注入区、所述N阱、所述P阱、所述第二P+注入区构成一条PNPN结构的ESD电流泄放路径,以提高器件的二次失效电流、增强器件的ESD鲁棒性。

    一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件

    公开(公告)号:CN104485329B

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201410521877.5

    申请日:2014-09-28

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、高压N阱、N阱、P阱、第一P+注入区、第二P+注入区、N+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该IGBT结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第三P+注入区、N阱、高压N阱、P阱、N+注入区形成具有PNPN结构的电流泄放路径,提高器件的失效电流、增强器件的ESD鲁棒性;另一方面由第三P+注入区、N阱、第四P+注入区、第一P+注入区、P阱以及第二P+注入区形成寄生PNP三极管和寄生电阻串联的另一条电流泄放路径,以提高器件的维持电压,增强器件的抗闩锁能力。

    一种LDMOS-SCR类叉指结构的高压ESD保护器件

    公开(公告)号:CN104409457B

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201410766937.X

    申请日:2014-12-11

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种LDMOS-SCR类叉指结构的高压ESD保护器件,可用于片上高压IC的ESD保护电路。主要由P型衬底、N型埋层、N阱、P阱、若干个P+注入区、若干个N+注入区、多晶硅双栅和若干场氧隔离区构成。该ESD保护器件可在高压ESD脉冲作用下,形成两条由LDMOS-SCR结构并联构成的ESD电流泄放路径。该电流泄放路径均以寄生的NPN管和P阱电阻为公共支路,以降低器件的电子发射率,提高维持电压和ESD鲁棒性。另一方面,通过在器件内部设计一个寄生的NPN晶体管控制一个浮空LDMOS结构,既可以降低LDMOS-SCR器件的电子发射率,提高维持电压;又能增强浮空LDMOS结构的N型导电沟道的电流泄放能力,提高器件的ESD鲁棒性。

    一种具有高维持电流强鲁棒性的LDMOS-SCR结构的ESD自保护器件

    公开(公告)号:CN103730462B

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201410024428.X

    申请日:2014-01-20

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电流强鲁棒性的LDMOS-SCR结构的ESD自保护器件,可用于片上IC高压ESD自保护电路。主要由P衬底、P阱、N阱、第一P+注入区、第一N+注入区、第二P+注入区、第三P+注入区、第二N+注入区、第一场氧隔离区、薄栅氧化层、第二场氧隔离区、第三场氧隔离区、第四场氧隔离区和多晶硅栅构成。本发明设计的LDMOS-SCR结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,可分别形成寄生LDMOS-SCR结构和两个二极管与LDMOS导电沟道相连的ESD电流泄放路径,快速泄放ESD电流,提高器件触发回滞后的维持电流和失效电流、增强器件的ESD鲁棒性,适用于高压电路的ESD自保护。

    一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件

    公开(公告)号:CN104485329A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201410521877.5

    申请日:2014-09-28

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、高压N阱、N阱、P阱、第一P+注入区、第二P+注入区、N+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该IGBT结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第三P+注入区、N阱、高压N阱、P阱、N+注入区形成具有PNPN结构的电流泄放路径,提高器件的失效电流、增强器件的ESD鲁棒性;另一方面由第三P+注入区、N阱、第四P+注入区、第一P+注入区、P阱以及第二P+注入区形成寄生PNP三极管和寄生电阻串联的另一条电流泄放路径,以提高器件的维持电压,增强器件的抗闩锁能力。

    一种便携式加热保温控湿套件

    公开(公告)号:CN103948329A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201410210887.7

    申请日:2014-05-19

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 本发明涉及一种便携式加热保温控湿套件,其包括保温腔体、加热腔体、控湿腔体、传感模块、中央控制单元、调节模块、信号处理电路和显示电路;所述传感模块置于所述保温腔体内部,包括用于检测所述保温腔体内部空气的温度传感器和湿度传感器;所述加热腔体内设有加热器;所述控湿腔体内设有干燥剂放置槽、排水口和半导体制冷片;所述加热腔体与所述控湿腔体之间通过换气扇加速气体交换;所述传感模块、所述加热腔体、所述控湿腔体的物理信号由所述中央控制单元、所述信息处理电路和所述调节模块进行控制、调节;所述显示电路具有数字显示等功能。本发明结构简单紧凑,使用方便,适应性好,节能环保,干净卫生,安全可靠。

    一种具有高维持电压内嵌GDPMOS的SCR器件

    公开(公告)号:CN104241277A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410521878.X

    申请日:2014-09-28

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电压内嵌GDPMOS的SCR器件,可用于高压片上IC的ESD保护电路。主要由P衬底、N阱、P阱、第一N+注入区、第一P+注入区、第二P+注入区、第二N+注入区、第三N+注入区、第三P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该具有高维持电压内嵌GDPMOS的SCR器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第一P+注入区、N阱、第二N+注入区、P阱、第三N+注入区形成寄生SCR电流泄放路径,提高器件的失效电流、增强器件的ESD鲁棒性;另一方面利用第一P+注入区、多晶硅栅、薄栅氧化层与第二P+注入区形成的PMOS管,通过栅极接高电位形成GDPMOS管,以抑制SCR器件发生强回滞,提高器件的维持电压,增强器件的抗闩锁能力。

    一种具有高维持电压的LDMOS结构的ESD保护器件

    公开(公告)号:CN103715233A

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201410011734.X

    申请日:2014-01-10

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电压的LDMOS结构的ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、高压N阱、N阱、P阱、P下沉掺杂、P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该LDMOS结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由P下沉掺杂、N阱、高压N阱、P阱、第一N+注入区形成寄生SCR电流泄放路径,提高器件的失效电流、增强器件的ESD鲁棒性;另一方面利用第二N+注入区与P下沉掺杂之间形成的反偏PN结,提高器件的维持电压,增强器件的抗闩锁能力。

    一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件

    公开(公告)号:CN204167320U

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201420575238.2

    申请日:2014-09-28

    Applicant: 江南大学

    Abstract: 一种具有高维持电压的IGBT结构的ESD保护器件,可用于片上IC高压ESD保护电路。主要由P衬底、高压N阱、N阱、P阱、第一P+注入区、第二P+注入区、N+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、金属阳极、金属阴极、多晶硅栅、薄栅氧化层和若干场氧隔离区构成。该IGBT结构的ESD保护器件在高压ESD脉冲作用下,一方面由第三P+注入区、N阱、高压N阱、P阱、N+注入区形成具有PNPN结构的电流泄放路径,提高器件的失效电流、增强器件的ESD鲁棒性;另一方面由第三P+注入区、N阱、第四P+注入区、第一P+注入区、P阱以及第二P+注入区形成寄生PNP三极管和寄生电阻串联的另一条电流泄放路径,以提高器件的维持电压,增强器件的抗闩锁能力。

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