公开(公告)号：CN113474121B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202080002181.5

申请日：2020-03-04

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 山口都章 ,  下元博 ,  矶部壮一 ,  前田幸次 ,  新海健史 ,  矶川英立 ,  吉成大 ,  田村元成 ,  徐海洋 ,  江原俊 ,  浅野建太郎

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/013 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具备研磨部和搬送部。研磨部具有第一研磨单元和第二研磨单元以及研磨部搬送机构。第一研磨单元具有第一研磨装置和第二研磨装置。第二研磨单元具有第三研磨装置和第四研磨装置。第一～第四研磨装置分别具有：研磨台，该研磨台安装有研磨垫；顶环；辅助单元，该辅助单元对研磨中的研磨垫进行处理。在研磨台的周围设置有一对辅助单元安装部，该一对辅助单元安装部用于将辅助单元安装为相对于连结顶环的摆动中心与研磨台的旋转中心的直线能够左右切换，该一对辅助单元安装部设置在相对于所述直线左右对称的位置。

公开(公告)号：CN110651356B

公开(公告)日：2022-12-09

申请号：CN201880030306.8

申请日：2018-05-02

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 矶川英立 ,  稻叶充彦 ,  徐海洋

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明公开一种清洗装置。在一实施方式中，清洗装置具备：清洗构件、移动部、测定部、控制部，控制部在清洗前使清洗构件按压于基准构件，在测定部的测定值到达规定的重设用负载后，使清洗构件在从基准构件离开的方向移动，在测定部对清洗构件每单位移动量的测定值至少连续两次彼此相同的时间点，进行如下重设动作：设定该时间点的所述清洗构件的位置作为清洗时所述清洗构件的基准位置，并且设定所述时间点的所述测定部的测定值作为清洗时的按压基准值。

公开(公告)号：CN111201596A

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201880066176.3

申请日：2018-08-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  稻叶充彦 ,  徐海洋 ,  八嶋哲也

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置具有配置为上下两层的第一处理单元及第二处理单元。第一处理单元及第二处理单元分别具有：多个处理槽，该多个处理槽串联排列；隔壁，该隔壁划分出在多个处理槽的外侧沿排列方向延伸的输送空间；输送机构，该输送机构配置于输送空间，且在各处理槽之间沿着排列方向输送基板；以及导风管道，该导风管道在输送空间以沿着所述排列方向延伸的方式设置。在导风管道连接有风扇过滤单元。在各处理槽连接有排气管道。在导风管道中的与各处理槽相对的部分分别形成有开口。第一处理单元的输送空间和第二处理单元的输送空间被隔壁上下分离。

公开(公告)号：CN107068590B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201710025972.X

申请日：2017-01-13

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 徐海洋 ,  宫崎充

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可捕捉附着于分隔壁的清洗液以防止基板污染的清洗装置及基板处理装置。清洗装置及基板处理装置具备：用于清洗基板(W)的清洗室(16)；邻接于清洗室(16)，用于搬送基板(W)的搬送室(17)；划分清洗室(16)与搬送室(17)的分隔壁(40)；固定于分隔壁(40)的流槽(51)；及连接于流槽(51)的底部(51a)的排出管(52)。在分隔壁(40)形成有第一通过口(45)及位于第一通过口(45)下方的第二通过口(46)。流槽(51)位于第一通过口(45)与第二通过口(46)之间，且从分隔壁(40)的一方侧端(40a)延伸至另一方侧端(40b)。