公开(公告)号：CN103201232A

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201180054499.9

申请日：2011-11-11

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 后藤裕史 ,  岩崎祐纪 ,  得平雅也 ,  米田阳一郎

IPC: C04B35/453 ,  C04B35/00 ,  C04B35/457 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01B1/08 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/6261 ,  C04B35/62695 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/6585 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/80 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414

Abstract: 本发明的氧化物烧结体是将氧化锌、氧化锡和氧化铟的各粉末混合并烧结而得到的氧化物烧结体，在对氧化物烧结体进行X射线衍射时，以Zn2SnO4相为主相，具有在ZnSnO3中固溶有In和/或In2O3的In/In2O3-ZnSnO3固溶体，且未检测到ZnxInyOz相(x、y、z为任意的正整数)。根据本发明，能够提供一种适合用于制造显示装置用氧化物半导体膜的氧化物烧结体，所述氧化物烧结体兼具高导电性和高相对密度，能够使具有高载流子迁移率的氧化物半导体膜成膜。

公开(公告)号：CN100523277C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200480009107.7

申请日：2004-03-22

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 松村仁实 ,  米田阳一郎

IPC: C23C14/34 ,  B23K20/12

CPC classification number: B23K20/22 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/3414

Abstract: 一种由相同材料制成的金属薄片的对接制成的溅射靶被提供，其中连接部分中的金属间化合物具有的平均颗粒直径是非连接部分中的金属间化合物平均颗粒直径的60%至130%。在溅射靶中，连接部分中的金属间化合物的平均颗粒直径与非连接部分中的近似相同。