在内表面上具有薄膜的中空成型品的形成方法与装置

    公开(公告)号:CN101879769A

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN201010206728.1

    申请日:2006-09-28

    Inventor: 西田正三

    Abstract: 本发明涉及在内表面上具有薄膜的中空成型品的形成方法与装置。本发明的方法采用固定模和可滑动的活动模,所述固定模具有淀积凹槽,在淀积凹槽内部配备有诸如靶电极之类的淀积元件。执行一次成型,以形成在其开口周围具有接合部分的本体部分和盖部件。在用淀积凹槽紧密覆盖后,对留在垂直滑动模中的本体部分进行淀积。接下来,将留在模中的淀积过的本体部分和盖部件对齐并合模,注射熔融金属以使接合部分一体化。

    真空成膜方法及真空成膜装置

    公开(公告)号:CN103060763B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201210402473.5

    申请日:2012-10-19

    Abstract: 本发明提供一种紧凑且使用方便、初期成本和运行成本均低廉的真空成膜装置及真空成膜方法。在成膜室(2)内设置工件支架(10)和磁控管电极(15)。在磁控管电极(15)设置第一靶材料(16),且与之重叠地设置第二靶材料(17)。第二靶材料(17、17)能够采用覆盖第一靶材料(16)的位置和敞开的位置这两个位置。向工件支架(10)与第一、二靶材料(16、17)之间能够选择地施加直流电压和高频电压。

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