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公开(公告)号：CN104508860A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380039207.3
申请日：2013-07-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M2/16 , H01M4/485 , H01M10/04 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M2/162 , H01M2/1673 , H01M4/485 , H01M10/0525
Abstract: 实施方式的二次电池具备外包装容器和收纳在所述外包装容器内的电极结构体及电解质。所述电极结构体(24)含有正极(18)、负极(20)和配置在正极(18)与负极(20)之间的隔膜。隔膜含有堆积在正极及负极中的至少一方上的有机纤维层(23)。有机纤维层(23)具有有机纤维交叉、且其交叉的形态根据抗拉应力而变化的接点。
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公开(公告)号：CN103456515A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310075221.0
申请日：2013-03-08
CPC classification number: H01M4/48 , H01G9/2027 , H01G9/2059 , H01L31/022425 , H01M4/366 , H01M4/66 , Y02E10/542 , Y02P70/521 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明提供电池用电极材料、电池用电极材料糊剂及使用其的太阳能电池、蓄电池及太阳能电池的制造方法。所述电池用电极材料在氧化钨粉末或氧化钨复合材料粉末上具备被膜部，所述被膜部含有选自金属氧化物、硅氧化物、金属氮化物、硅氮化物之中的至少1种以上。
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公开(公告)号：CN102194984A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110042922.5
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H05B33/145 , H01L33/504 , H01L2224/32245 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/73265 , H01L2933/0041 , H05B33/10 , Y10T29/41 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 根据一个实施方案，发光装置包括壳体部件、设置于壳体部件中的发光元件、第一发光体层和第二发光体层。所述第一发光体层设置于所述发光元件上并含有第一发光体。第二发光体层设置于所述第一发光体层上并含有第二发光体。所述第一发光体的发光效率高于所述第二发光体的发光效率。
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公开(公告)号：CN101622076A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200880006435.X
申请日：2008-02-27
CPC classification number: H01L21/67028 , B05D3/105 , G02F1/1303 , H01L21/6715 , H01L21/6776
Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。
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公开(公告)号：CN1721082A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510084066.4
申请日：2005-07-12
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H05K3/125 , B05C9/08 , B05C13/02 , B41M5/0011 , B41M5/0047 , B41M5/007 , B41M7/0027 , H05K2203/013 , H05K2203/0783
Abstract: 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷的涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行，并可防止涂敷物的不均，且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发，而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中，于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前，使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境，保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1712144A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510082384.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B08B3/12 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供的超声波清洗装置，利用超声波授予头对被清洗物的被清洗面上的清洗液授予超声波并清洗所述被清洗面，所述超声波授予头具备：与所述被清洗面对向配置的、在位于所述被清洗面侧的第1面上具有曲面部的超声波传输部件，设置在位于所述超声波传输部件的第1面的相反侧的第2面上的、在振荡超声波的同时通过所述超声波传输部件将该超声波授予被清洗面上的清洗液的超声波振动器，以及设置在所述超声波传输部件上的、防止授予所述清洗液的超声波由所述被清洗面反射并通过所述超声波传输部件入射到所述超声波振动器的防止部。
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公开(公告)号：CN102683045A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210067449.0
申请日：2012-03-14
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H01G9/2077 , H01G9/2031 , H01G9/2059 , Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 根据一个实施方案，太阳能电池包括第一基板、第二基板、第一电极、第二电极、负载单元、密封单元、渗透抑制单元和电解液。第一电极设置在第一基板的主表面上。第二电极设置在第二基板的主表面上。负载单元设置在第二电极上。负载单元设置为用来负载敏化染料。密封单元设置为用来密封第一基板的外周缘和第二基板的外周缘。渗透抑制单元设置在密封单元内侧的负载单元周围。电解液设置在渗透抑制单元内侧。
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公开(公告)号：CN1712144B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200510082384.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B08B3/12 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供的超声波清洗装置，利用超声波授予头对被清洗物的被清洗面上的清洗液授予超声波并清洗所述被清洗面，所述超声波授予头具备：与所述被清洗面对向配置的、在位于所述被清洗面侧的第1面上具有曲面部的超声波传输部件，设置在位于所述超声波传输部件的第1面的相反侧的第2面上的、在振荡超声波的同时通过所述超声波传输部件将该超声波授予被清洗面上的清洗液的超声波振动器，以及设置在所述超声波传输部件上的、防止授予所述清洗液的超声波由所述被清洗面反射并通过所述超声波传输部件入射到所述超声波振动器的防止部。
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公开(公告)号：CN100484644C
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200510084066.4
申请日：2005-07-12
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H05K3/125 , B05C9/08 , B05C13/02 , B41M5/0011 , B41M5/0047 , B41M5/007 , B41M7/0027 , H05K2203/013 , H05K2203/0783
Abstract: 本发明是有关于一种可使基片上所涂敷的涂敷液的干燥在基片的被涂敷的区域内均匀进行，并可防止涂敷物的不均，且使干燥后的涂敷物的形状有效地均匀形成的涂敷装置及涂敷方法。该涂敷方法在将含有溶质和溶剂的涂敷液在基片上的设定区域上进行涂敷并使溶剂挥发，而在前述基片上形成溶质的固化物的过程中，于结束向前述基片上的设定区域的涂敷之前，使前述基片上进行了涂敷的区域附近的环境，保持为一种对前述溶剂的挥发进行抑制的环境。
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