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公开(公告)号：CN1840248A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610073365.2
申请日：2006-03-31
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明揭示一种洗涤方法及洗涤装置，洗涤装置具备：提供碱性的洗涤用液体的洗涤用水供给部(50)、提供高压空气的高压空气供给部(40)、以及使所提供的洗涤用水与高压空气混合以使其形成雾状，向半导体晶片(W)喷射的双流体喷嘴(30)。
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公开(公告)号：CN103301992B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310070532.8
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且，第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液，第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN1712144B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200510082384.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B08B3/12 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供的超声波清洗装置，利用超声波授予头对被清洗物的被清洗面上的清洗液授予超声波并清洗所述被清洗面，所述超声波授予头具备：与所述被清洗面对向配置的、在位于所述被清洗面侧的第1面上具有曲面部的超声波传输部件，设置在位于所述超声波传输部件的第1面的相反侧的第2面上的、在振荡超声波的同时通过所述超声波传输部件将该超声波授予被清洗面上的清洗液的超声波振动器，以及设置在所述超声波传输部件上的、防止授予所述清洗液的超声波由所述被清洗面反射并通过所述超声波传输部件入射到所述超声波振动器的防止部。
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公开(公告)号：CN1712144A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510082384.7
申请日：2005-06-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B08B3/12 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供的超声波清洗装置，利用超声波授予头对被清洗物的被清洗面上的清洗液授予超声波并清洗所述被清洗面，所述超声波授予头具备：与所述被清洗面对向配置的、在位于所述被清洗面侧的第1面上具有曲面部的超声波传输部件，设置在位于所述超声波传输部件的第1面的相反侧的第2面上的、在振荡超声波的同时通过所述超声波传输部件将该超声波授予被清洗面上的清洗液的超声波振动器，以及设置在所述超声波传输部件上的、防止授予所述清洗液的超声波由所述被清洗面反射并通过所述超声波传输部件入射到所述超声波振动器的防止部。
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公开(公告)号：CN103301992A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310070532.8
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且，第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液，第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。
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