公开(公告)号：CN101622076A

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200880006435.X

申请日：2008-02-27

Applicant: 株式会社东芝 ,  佳能株式会社

Inventor： 佐藤强 ,  近藤弘康 ,  樱井直明 ,  山边纯成 ,  添田胜之 ,  小泉洋 ,  木村修一 ,  木下静雄

IPC: B05C9/14 ,  B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B05D3/105 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6776

Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。

公开(公告)号：CN101622076B

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN200880006435.X

申请日：2008-02-27

Applicant: 株式会社东芝 ,  佳能株式会社

Inventor： 佐藤强 ,  近藤弘康 ,  樱井直明 ,  山边纯成 ,  添田胜之 ,  小泉洋 ,  木村修一 ,  木下静雄

IPC: B05C9/14 ,  B05C5/00 ,  B05D1/26 ,  B05D3/00

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B05D3/105 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6776

Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。

公开(公告)号：CN102150234B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN200980135993.0

申请日：2009-11-05

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐藤强 ,  近藤弘康 ,  樱井直明 ,  添田胜之 ,  大城健一 ,  木村修一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  H01L21/31 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0486 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种成膜装置(1)，具有：负载涂布对象物(W)的平台(2)，使平台(2)在水平面内旋转的旋转机构(3)，在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的规定区域中涂布材料而形成涂布膜(M)的涂布部(4)，产生能溶解涂布膜(M)的溶剂蒸气的供气部(5)，对在平台(2)上负载的涂布对象物(W)上的涂布膜(M)喷吹由供气部(5)产生的溶剂蒸气的喷吹部(6)，控制由喷吹部(6)喷吹的上述溶剂蒸气量，使其为能溶解涂布膜(M)、涂布膜(M)的表层侧部分的粘度比涂布对象物(W)侧部分的粘度低的量的控制部(9)。

公开(公告)号：CN1622290A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN200410095653.9

申请日：2004-11-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 平林英明 ,  樱井直明 ,  斋藤晶子 ,  佐藤浩史 ,  山田富穗

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: B24B37/24

Abstract: 本发明涉及用于化学机械研磨的研磨布，该研磨布具有由酸值为10～100mg KOH/g、羟值为50～150mgKOH/g的(甲基)丙烯酸共聚物构成的成形体。

公开(公告)号：CN1097490C

公开(公告)日：2003-01-01

申请号：CN97199723.3

申请日：1997-11-12

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 土井敏 ,  黑川祯明 ,  樱井直明

IPC: B08B3/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02 ,  F26B5/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明涉及一种旋转处理被处理物的旋转处理装置，其构成为：由下罩和可以上下自由运动的上罩构成罩体，上罩和下罩之间有一定的间隙；罩体内装有保持被处理物的旋转件；有驱动旋转件转动的驱动装置；及在下罩的底部，连接有进行罩内排气的排气管；其特征为：在上罩内周面装有保持在旋转件上的被处理物周围的飞散防止盖；所述飞散防止盖作成环状，其下端位于旋转件上，比保持的被处理物的上面高，且所述飞散防止盖的下端向径向的外方曲折。

公开(公告)号：CN1275933A

公开(公告)日：2000-12-06

申请号：CN97199723.3

申请日：1997-11-12

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 土井敏 ,  黑川祯明 ,  樱井直明

IPC: B08B3/02 ,  H01L21/304 ,  F26B5/08

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B08B3/02 ,  F26B5/08 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明涉及一种旋转处理装置及处理方法,使得旋转处理被处理物时产生的水雾不附着到被处理物上。该装置有一个罩体,由下罩和相对于下罩运动自如的上罩组成;罩内有一个保持被处理物的旋转件和驱动旋转件旋转的步进电机,且下罩底部连接有进行罩体内排气的排气管;在罩体内旋转件的上部配置着飞散防止盖。

公开(公告)号：CN102201547B

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201110045706.6

申请日：2011-02-23

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 佐野准治 ,  泽田雅人 ,  樱井直明

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/0097 ,  H01L51/5253 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

Abstract: 根据一个实施例，有机发光装置包括：具有挠性的基材；提供于基材上的有机发光元件；以及覆盖有机发光元件的保护膜。保护膜包括：提供于有机发光元件上并覆盖有机发光元件的第一无机层；提供于第一无机层上的含有有机聚合物并具有挠性的挠性层；提供于挠性层上并覆盖挠性层的第二无机层。

公开(公告)号：CN102026433B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201010283873.X

申请日：2010-09-13

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井直明

IPC: H05B6/80

Abstract: 本发明提供一种加热装置，利用微波加热被加热物时能够抑制被加热物中所含的营养素分解。其特征在于：具有：加热室，用于收容被加热物；加热机构，对上述被加热物供给微波，加热上述被加热物；和喷雾机构，对上述被加热物进行抗氧化剂的喷雾。

公开(公告)号：CN102026433A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN201010283873.X

申请日：2010-09-13

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井直明

IPC: H05B6/80

Abstract: 本发明提供一种加热装置，利用微波加热被加热物时能够抑制被加热物中所含的营养素分解。其特征在于：具有：加热室，用于收容被加热物；加热机构，对上述被加热物供给微波，加热上述被加热物；和喷雾机构，对上述被加热物进行抗氧化剂的喷雾。

公开(公告)号：CN1237582C

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN01818564.9

申请日：2001-10-03

Applicant: 株式会社东芝 ,  日本油脂株式会社

Inventor： 平林英明 ,  斋藤晶子 ,  樱井直明 ,  押部义宏 ,  石户谷昌洋

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/042 ,  B24B37/24 ,  B24B49/16 ,  B24D3/28 ,  B24D3/344 ,  B24D11/001

Abstract: 本发明披露了一种具有擦光层的抛光布，所述擦光层包含在含水介质中可水解的聚合物材料并且在没有进行必须的整修处理下能够显示出相对长时间的稳定的抛光性能。