公开(公告)号：CN101963679A

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：CN201010236257.9

申请日：2010-07-21

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 山本拓史 ,  比留间宣夫 ,  高田元生 ,  小野公三 ,  吉松昌裕 ,  高桥岳宽

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/282 ,  G02B7/006

Abstract: 本发明提供一种防止在形成于光学板的光学薄膜上产生缺损、以及防止在光学板的主表面的外周端部上产生细小的裂缝、并且成品率高的光学滤光片。该光学滤光片包括在光学板的一个主表面的外周端部上形成倒棱部(2)、并且对湿式蚀刻具有各向同性的光学板(3)，倒棱部(2)以剖面图来看在光学板(3)的内部方向上为呈凹面状的圆弧状，并且通过湿式蚀刻形成，该光学滤光片(1)的特征为：形成倒棱部(2)的凹面与一个主表面的交叉角以及凹面与形成倒棱部(2)的光学板(3)的侧表面的交叉角θG、θH为100°以上且不到180°。

公开(公告)号：CN101464534A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810179282.0

申请日：2008-12-16

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 高田元生 ,  龟卦川伸也 ,  西利真 ,  石川裕人

IPC: G02B5/20 ,  C23C14/24

CPC classification number: G02B5/285

Abstract: 一种光学多层膜滤波器及其制造方法，通过形成光学多层膜滤波器(30)来取代氧化铟锡(ITO)，使得光学多层膜滤波器(30)的表面具有导电性，从而消除来自光学低通滤波器的静电。光学多层膜滤波器(30)是互相交替地层叠多个由高折射率材料构成的高折射率薄膜(32)和由低折射率材料构成的低折射率薄膜(33)的多层膜形成在透明基板(20)上的光学多层膜滤波器。其次，在最终层上形成由小于高折射率材料及低折射率材料的原子量组成的蒸镀材料(31)。

公开(公告)号：CN101319301A

公开(公告)日：2008-12-10

申请号：CN200810098274.3

申请日：2008-05-28

Applicant: 日本电波工业株式会社

Inventor： 龟卦川伸也 ,  西利真 ,  高田元生

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L21/203

CPC classification number: C23C14/541 ,  C23C14/505 ,  Y10T428/12396 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495

Abstract: 本发明提供一种光学薄膜的成膜方法，在光学基板(OE)上不仅使物理膜厚(d)均匀，也使折射率(n)也均匀，由此能够使光学膜厚(nd)在整体上均匀。根据本发明所述光学薄膜的成膜方法是在设置于真空室(12)内的基板上成膜光学薄膜的方法，包括在具有基板保持部的多个保持框上保持基板的保持工序(S11)、加热基板的加热工序(S12)、从蒸镀源放出蒸镀材料的放出工序(S15)，保持框使基板整体成为被均匀加热的状态。