公开(公告)号：CN102655073A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201110306186.X

申请日：2011-10-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 宇根英康 ,  田中浩平 ,  滨本成显 ,  藤田秀树

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供离子束照射方法和离子束照射装置，在用两台离子束供给装置对基板的上半部分和下半部分进行离子照射的串联式离子束照射装置中，即使在一台离子束供给装置停止或在处理中途异常结束的情况下，也可以对基板的整个面注入所希望的剂量。在进行一个往返的离子束照射处理后，控制基板转动机构，使基板转动180度后，再将基板放入离子束照射装置，对没有完成离子束照射处理的范围进行离子束照射，从而对基板的整个面进行离子束照射。

公开(公告)号：CN101192499B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200710193462.X

申请日：2007-11-27

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 藤田秀树

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 一种离子注入装置，其具有被设置成跨带状离子束路径在Y方向上相互面对的第一和第二磁体。第一和第二磁体与带状离子束行进方向交叉。第一和第二磁体的每一个都具有在离子束入口侧和出口侧的一对磁极。在第一磁体和第二磁体之间其极性相反。