公开(公告)号：CN105609397A

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201510569675.2

申请日：2015-09-09

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 平井裕也 ,  山元徹朗 ,  松本武

IPC: H01J37/317

Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等，能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中，所述控制装置执行：权重系数计算步骤，计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数；以及灯丝理论电流计算步骤，根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数，计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。

公开(公告)号：CN104103554A

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：CN201310567012.8

申请日：2013-11-14

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏 ,  立道润一 ,  松本武

IPC: H01L21/67 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67757 ,  H01J37/185 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/32412 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67754

Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。

公开(公告)号：CN103515172A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201310081172.1

申请日：2013-03-14

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 松本武

IPC: H01J37/08 ,  H01J27/02

Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业；以及离子束供给部（101），用于向处理室（5）供给离子束（3），与至少一次的基板更换作业并行地，对离子束供给部（101）的运转参数进行设定变更并对离子束供给部（101）内进行清洗。

公开(公告)号：CN102376513A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110137140.X

申请日：2011-05-24

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 松本武

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洗方法，可以在构成离子源引出电极系统的电极的广阔区域上高速去除堆积物。代替向离子源(2)的等离子体生成部(4)中导入可电离气体并引出离子束，向构成引出电极系统(10)的第一电极(11)和第二电极(12)之间供给清洗用气体(48)，在将第一电极(11)和第二电极(12)之间的气压保持在高于离子束引出时的气压的状态下，从辉光放电用电源(60)向第一电极(11)和第二电极(12)之间施加电压，在两电极(11)、(12)之间使清洗用气体(48)产生辉光放电(80)。