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公开(公告)号：CN107287555A
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201710340300.8
申请日：2017-05-15
Applicant: 广东工业大学
CPC classification number: C23C14/0676 , B82Y40/00 , C23C14/0036 , C23C14/0084 , C23C14/022 , C23C14/325 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开一种自组装纳米氧氮化物涂层的制备方法，采用传统PVD技术制备，根据靶材不同距离范围内等离子体能量和密度分布不同的现象，通过调整样品转架自转及公转速度，改变样品在不同等离子体区域停留的时间，从而制备自组装纳米多层氧氮化物涂层。该涂层包括富氧层和富氮层，富氧层和富氮层交替沉积在基体上，涂层成分为Al：20～35at.％，Cr:10～25at.％，Si：0～15at.％，O：5～50at.％，N：10～50at.％。本发明的制备工艺简单，成本低廉，适应性好，兼顾氮化物以及氧化物涂层的优势，有很大的应用推广潜力。
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公开(公告)号：CN107190229A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201710339023.9
申请日：2017-05-15
Applicant: 广东工业大学
CPC classification number: C23C14/325 , B23B27/00 , B82Y40/00 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/022 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开一种自组装纳米氧氮化物耐高温涂层的制备方法，采用电弧离子镀和磁控溅射方法，以AlTiN涂层为支撑层，根据靶材不同距离范围内等离子体能量和密度分布不同的现象，通过调整样品转架自转及公转速度，改变样品在不同等离子体区域停留的时间，从而实现涂层中纳米多层的自组装生成。该涂层在AlTiN支撑层的基础上由富氧层和富氮层构成，富氧层和富氮层交替沉积在硬质合金或陶瓷基体上。涂层的总厚度控制在2～10μm，其中AlTiN支撑层控制在1.5～3.5μm，富氧层和富氮层的单层厚度分别控制在2～20nm和5～100nm。该涂层主要应用在刀具产品表面的防护领域。
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公开(公告)号：CN119800278A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411970109.8
申请日：2024-12-30
Applicant: 广东工业大学 , 广东佛山市陶瓷研究所控股集团股份有限公司
Abstract: 本申请公开了一种防静电的硬质涂层及制备方法，硬质涂层包括金属过渡层、金属碳化物层和双元掺杂层，金属过渡层沉积于基体表面，金属过渡层中的金属MA为Ti、Cr、Zr中的一种；金属碳化物层沉积于金属过渡层的表面，金属碳化物的化合物成分为MAC；双元掺杂层沉积于金属碳化物层的表面，双元掺杂层的化合物成分为ta‑C：MB/Si，MB为Cu、Ag、Au中的一种。本申请中通过设计多元多层结构的硬质涂层，获得静电阻抗适中、耐腐蚀性优良、摩擦系数低、耐磨性优异等性能，提高了硬质涂层在不同基体上的适应性、结合力和承载性。本申请可广泛应用于硬质涂层技术领域。
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公开(公告)号：CN115612996B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202211153811.6
申请日：2022-09-21
Applicant: 厦门金鹭特种合金有限公司 , 广东工业大学
Abstract: 本申请涉及刀具涂层技术领域，特别涉及一种刀具、TiBx涂层及其制备方法和应用。该TiBx涂层制备方法包括以下步骤：在基体上沉积TiBx涂层：在Ar气氛中，高功率脉冲磁控溅射TiB2靶材，同时开启离子源辅助沉积，使TiBx涂层沉积于基体表面以制备TiBx涂层。该TiBx涂层制备方法通过高功率脉冲磁控溅射TiB2靶材，同时Ar+离子源辅助沉积TiBx涂层，通过简便的工艺和操作，即可实现TiBx涂层中组元含量原子比B/Ti的可控调节，制得的TiBx涂层具有结构致密、高硬度、高韧性、低应力的优异性能，使得该TiBx涂层可广泛应用于金属表面处理或金属加工中。
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公开(公告)号：CN114000115B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202111195151.3
申请日：2021-10-13
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明公开了一种Ti‑B‑N纳米复合涂层及其制备方法，涉及过渡金属硼氮化物涂层的制备方法领域。本发明提供了一种Ti‑B‑N纳米复合涂层的制备方法，包括如下步骤：(1)将基体进行机械研磨、抛光、清洗处理；(2)使用高功率脉冲磁控电源，在基体上溅射TiB2靶，得到Ti‑B‑N纳米复合涂层。本发明通过控制脉冲宽度、N2的体积流量，采用HiPIMS制备得到硬度高、且具有nc‑TiN、nc‑TiB2纳米复合结构的TiBx涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114411093A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111590494.X
申请日：2021-12-23
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明涉及物理气相沉积涂层及其制备方法技术领域，且公开了一种阴极电弧蒸发制备低残余应力、长切削寿命涂层的制备方法，包括以下步骤：步骤一、将基体进行机械研磨、抛光、清洗处理；步骤二、使用阴极电弧蒸发电源，于基体前电弧蒸发金属靶材，采用加载高低交替变化偏压或通入N2分压高低交替变化的气氛的方法，沉积制备氮化物涂层。
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公开(公告)号：CN112577645A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011362502.0
申请日：2020-11-27
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明属于传感领域，公开了一种耐磨防护一体化集成式多功能薄膜传感器及其制备方法。该方法包括以下步骤：在经过研磨抛光后的基体表面上制备一层绝缘膜；在绝缘膜基础上，采用掩膜法在一半绝缘膜上制备压阻传感薄膜；在压阻传感薄膜的绝缘膜基础上，采用掩膜法在另一半绝缘膜上制备热阻传感薄膜；压阻传感薄膜和热阻传感薄膜统称为传感层；继续采用掩膜法，制备出一层电极层；电极层与传感层接触，还与绝缘层接触；在电极层制备完毕后，最后再制备一层耐磨防护层；耐磨防护层覆盖住全部传感层与部分电极层。所述传感器能对被集成元件所受到的压力、温度进行实时检测，还能对传感器和被集成元件进行防护，能减少传感器和被集成元件所受到的损耗。
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公开(公告)号：CN108220875B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201810038868.9
申请日：2018-01-16
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明提供一种Ti‑Al氮化物多层涂层刀具，包括刀具基体和复合在所述刀具基体表面的Ti‑Al氮化物多层涂层；所述Ti‑Al氮化物多层涂层包括富Ti层和富Al层，所述富Ti层和富Al层交替沉积在所述刀具基体上；所述Ti‑Al氮化物多层涂层包含以下原子百分比的组分：Al：20～35％，Ti：10～30％，N：50～60％。该涂层可以实现高硬度、高耐磨性和高温抗氧化性好的效果，工艺简单，可操作性强，可控性好，成本低廉，适应性好，适用于机械零部件、刀模具等产品表面的防护，具有较好的经济效益。本发明还提供了一种Ti‑Al氮化物多层涂层刀具的制备方法。
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公开(公告)号：CN109161841A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201810842580.7
申请日：2018-07-27
Applicant: 广东工业大学
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/022 , C23C14/0641
Abstract: 本发明属于刀具涂层制备技术领域，公开了一种AlCrN/AlCrSiN超硬纳米复合多层涂层及其制备方法和应用。本发明采用脉冲电弧离子镀技术制备，制备过程中先沉积0.2～1μm厚的AlCrN层作为涂层与基体之间的过渡层，为纳米多层结构提供支撑；通过工件转架的旋转实现纳米多层结构；AlCrN中间层和AlCrSiN中间层交替沉积形成AlCrN/AlCrSiN纳米复合多层功能层成分为Al：18～32at.％，Cr：10～25at.％，Si：1～10at.％，N：45～57at.％。纳米多层结构细化了柱状晶尺寸，具有良好的高硬度、高韧性、高耐磨性和高温抗氧化性能，是一种具有良好应用前景的刀具涂层。
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公开(公告)号：CN109023266A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201811222570.X
申请日：2018-10-19
Applicant: 广东工业大学
CPC classification number: C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/022 , C23C14/0641 , C23C14/16
Abstract: 本发明公开了一种沉积有AlTiN涂层的微型钻头，包括AlTiN涂层，所述AlTiN涂层包括依次层叠的Cr结合层、CrN过渡层和AlTiN功能层；该AlTiN涂层具有极强的结合力，能够牢固地结合在微型钻头的表面，不易发生剥落现象，且涂层表面平滑、大颗粒数量少，可使微型钻头具有更高的硬度和高温耐磨性，在长期的高速运转中仍能保持极高的性能；本发明还公开了一种沉积有AlTiN涂层的微型钻头的制备方法，其利用脉冲电弧技术在微型钻头表面制备AlTiN涂层，其通过控制氮气和氩气流量以及脉冲电弧峰值、占空比、频率，使得在脉冲放电期间能够产生更高密度的等离子体，使功能层沉积速率更快，该沉积工艺简单，重复性好，可应用在工业上的大批量上产，具有良好的经济效益。
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