公开(公告)号：CN103367142B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201210581650.0

申请日：2012-12-27

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 石黑哲郎 ,  山田敦史 ,  中村哲一 ,  今西健治

IPC: H01L21/335 ,  H01L29/778 ,  H01L29/06

CPC classification number: H01L29/66477 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02505 ,  H01L21/0251 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/0262 ,  H01L23/49562 ,  H01L29/045 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/207 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/7787 ,  H01L29/78 ,  H01L2224/0603 ,  H01L2224/32245 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48257 ,  H01L2224/48472 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

Abstract: 本发明涉及化合物半导体及其制造方法。所述制造化合物半导体器件的方法的一个实施方案包括：在衬底上形成初始层；在初始层上形成缓冲层；在缓冲层上形成电子传输层和电子供给层；以及在电子供给层上形成栅电极、源电极和漏电极。形成初始层包括：在流量比为第一值的情况下形成第一化合物半导体膜，流量比为V族元素源气体的流量与III族元素源气体的流量的比；以及在流量比为不同于第一值的第二值的情况下在第一化合物半导体膜上形成第二化合物半导体膜。该方法还包括在缓冲层和电子传输层之间形成Fe掺杂区域。

公开(公告)号：CN102637587B

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201210032005.3

申请日：2012-02-13

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 中村哲一 ,  山田敦史 ,  武田正行 ,  渡部庆二 ,  今西健治

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L29/66462 ,  C11D11/0041 ,  C23C16/4405

Abstract: 一种用于半导体制造设备的清洗设备包括：氧化物移除装置，其移除粘附于半导体制造设备的构件的沉积物的表面上的氧化物；以及沉积物移除装置，其在通过氧化物移除装置移除表面上的氧化物之后移除沉积物。

公开(公告)号：CN103367142A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201210581650.0

申请日：2012-12-27

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 石黑哲郎 ,  山田敦史 ,  中村哲一 ,  今西健治

IPC: H01L21/335 ,  H01L29/778 ,  H01L29/06

CPC classification number: H01L29/66477 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02505 ,  H01L21/0251 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02581 ,  H01L21/0262 ,  H01L23/49562 ,  H01L29/045 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/207 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/7787 ,  H01L29/78 ,  H01L2224/0603 ,  H01L2224/32245 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48257 ,  H01L2224/48472 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

Abstract: 本发明涉及化合物半导体及其制造方法。所述制造化合物半导体器件的方法的一个实施方案包括：在衬底上形成初始层；在初始层上形成缓冲层；在缓冲层上形成电子传输层和电子供给层；以及在电子供给层上形成栅电极、源电极和漏电极。形成初始层包括：在流量比为第一值的情况下形成第一化合物半导体膜，流量比为V族元素源气体的流量与III族元素源气体的流量的比；以及在流量比为不同于第一值的第二值的情况下在第一化合物半导体膜上形成第二化合物半导体膜。该方法还包括在缓冲层和电子传输层之间形成Fe掺杂区域。

公开(公告)号：CN101794815B

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201010111011.9

申请日：2010-02-02

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 吉川俊英 ,  今西健治

IPC: H01L29/778 ,  H01L21/335

CPC classification number: H01L29/7783 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/7787

Abstract: 本发明提供了一种化合物半导体器件及其制造方法，该化合物半导体器件具有：衬底；形成在衬底上方的AlN层；形成在AlN层上方并且在电子亲和力方面大于AlN层的AlGaN层；形成在该AlGaN层上方并且在电子亲和力方面小于该AlGaN层的另一个AlGaN层。此外，还提供了形成在后一个AlGaN层上方的i-GaN层以及形成在i-GaN层上方的i-AlGaN层和n-AlGaN层。

公开(公告)号：CN103035672A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201210313580.0

申请日：2012-08-29

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 今西健治

IPC: H01L29/06 ,  H01L29/778 ,  H01L21/335 ,  H02M5/458 ,  H03F3/189

CPC classification number: H03F1/3247 ,  H01L29/1066 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/7787 ,  H02M3/33592 ,  Y02B70/1475

Abstract: 本发明提供化合物半导体器件及其制造方法。实施方案的化合物半导体器件包括：衬底；形成在衬底之上的电子沟道层和电子供给层；形成在电子供给层上或上方的栅电极、源电极和漏电极；形成在电子供给层和栅电极之间的p型半导体层；和形成在电子供给层和p型半导体层之间的空穴阻挡层，空穴阻挡层的带隙大于电子供给层的带隙。

公开(公告)号：CN103022117A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210262950.2

申请日：2012-07-26

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 中村哲一 ,  山田敦史 ,  尾崎史朗 ,  今西健治

IPC: H01L29/778 ,  H01L21/335 ,  H02M5/458 ,  H03F3/189

CPC classification number: H01L29/0607 ,  H01L21/02115 ,  H01L21/02266 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02513 ,  H01L21/0254 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/41766 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/778 ,  H01L29/7787 ,  H03F1/3247 ,  H03F3/19 ,  H03F3/245

Abstract: 本发明提供一种化合物半导体器件及其制造方法。一个化合物半导体器件的实施方案包括：衬底；形成在衬底上的化合物半导体堆叠结构；和形成在衬底和化合物半导体堆叠结构之间的非晶绝缘膜。

公开(公告)号：CN102569377A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110402797.4

申请日：2011-12-02

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 金村雅仁 ,  吉川俊英 ,  今西健治

IPC: H01L29/778 ,  H01L29/51 ,  H01L21/335

CPC classification number: H01L29/7787 ,  H01L29/41766 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/47 ,  H01L29/513 ,  H01L29/66462

Abstract: 本发明公开一种化合物半导体器件及其制造方法，该化合物半导体器件包括：化合物半导体层；第一膜，形成在化合物半导体层的上方，第一膜在与化合物半导体层的界面处处于带负电状态或非带电状态；第二膜，形成在第一膜的上方，第二膜在与第一膜的界面处处于带正电状态；以及栅极，被嵌入在第二膜中形成的开口中。

公开(公告)号：CN102487081A

公开(公告)日：2012-06-06

申请号：CN201110402775.8

申请日：2011-12-02

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 宫岛豊生 ,  吉川俊英 ,  今西健治 ,  多木俊裕 ,  金村雅仁

IPC: H01L29/778 ,  H01L21/335

CPC classification number: H01L29/66462 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/4236 ,  H01L29/7787

Abstract: 一种化合物半导体器件及制造方法，该半导体器件包括：电子传输层，形成在衬底上方；电子供应层，形成在电子传输层上方；及覆盖层，形成在电子供应层上方。该覆盖层包括：包含GaN的第一化合物半导体层；包含AlN的第二化合物半导体层，其形成在第一化合物半导体层上方；包含GaN的第三化合物半导体层，其形成在第二化合物半导体层上方；及第一包含AlGaN层和第二包含AlGaN层中的至少一个，第一包含AlGaN层形成在第一化合物半导体层和第二化合物半导体层之间且其中Al含量朝第二化合物半导体层增大，第二包含AlGaN层形成在第二化合物半导体层和第三化合物半导体层之间且其中Al含量朝第二化合物半导体层增大。本发明可抑制栅极漏电流和耐压降低、及/或可抑制电流崩塌。

公开(公告)号：CN106057648A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610536760.3

申请日：2011-12-02

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 清水早苗 ,  今西健治 ,  山田敦史 ,  宫岛豊生

IPC: H01L21/02 ,  H01L29/778 ,  H01L21/335

CPC classification number: H01L29/7787 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02507 ,  H01L21/0254 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/66462

Abstract: 一种化合物半导体器件及其制造方法，该器件包括：衬底；电子渡越层，形成在衬底的上方；电子供应层，形成在电子渡越层的上方；以及缓冲层，形成在衬底与电子渡越层之间且包括AlxGa1‑xN(0≤x≤1)，其中，x值表示沿缓冲层的厚度方向的多个最大值和多个最小值，所述x值沿所述缓冲层的任意厚度方向连续变化，并且在缓冲层中具有1nm厚度的任何区域中x的变化为0.5或更小。本发明具有良好的结晶度。

公开(公告)号：CN102487080B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201110342604.0

申请日：2011-10-28

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 今西健治 ,  吉川俊英

IPC: H01L29/778 ,  H01L29/06 ,  H01L21/335

CPC classification number: H01L29/201 ,  H01L29/0692 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/42376 ,  H01L29/66462 ,  H01L29/7787

Abstract: 本发明提供一种化合物半导体器件，其中设置有：第一AlGaN层，形成在衬底的上方；第二AlGaN层，形成在第一AlGaN层的上方；电子渡越层，形成在第二AlGaN层的上方；以及电子供应层，形成在电子渡越层的上方。当第一AlGaN层的构成由Alx1Ga1-x1N表示，第二AlGaN层的构成由Alx2Ga1-x2N表示时，“0≤x1＜x2≤1”的关系成立。存在于AlGaN层的上表面的负电荷多于存在于AlGaN层的下表面的正电荷。根据本发明的化合物半导体器件，在电子渡越层的下方设置有其中电荷被适当分布的第二AlGaN层，因此可以容易地进行常关操作。