公开(公告)号：CN116917081A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202180094402.0

申请日：2021-03-22

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  松冈立马 ,  栗原浩 ,  山口早月 ,  高见泽大和

IPC: B24B37/24

Abstract: 研磨垫，其具备聚氨酯片材作为研磨层，该聚氨酯片材的、在频率1.6Hz的弯曲模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’B40相对于在频率1.6Hz的拉伸模式条件下进行的动态粘弹性测定中的40℃的储能模量E’T40之比(E’B40/E’T40)为0.60～1.60。

公开(公告)号：CN115397614A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180023262.8

申请日：2021-03-19

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  松冈立马 ,  栗原浩 ,  鸣岛早月 ,  高见沢大和

IPC: B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B32B5/02 ,  B32B5/24 ,  B32B7/022 ,  H01L21/304 ,  B24B37/10 ,  B24B37/12

Abstract: 提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。

公开(公告)号：CN104321370B

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：CN201380026114.7

申请日：2013-03-26

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  宫坂博仁 ,  松冈立马 ,  金泽香枝 ,  宫泽文雄

IPC: C08J5/14 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/44 ,  C08G18/4825 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/7671 ,  C08L75/04 ,  C08L75/06

Abstract: 一种研磨垫的制造方法，所述研磨垫在膜基材上具有聚氨酯树脂薄膜作为研磨层，该方法包括如下工序：将含有聚氨酯树脂和添加剂的聚氨酯树脂薄膜形成用组合物溶解在所述树脂的可溶性溶剂中的工序；除去不溶成分，使所述溶液中的不溶成分相对于聚氨酯树脂薄膜形成用组合物的总质量小于1质量％的工序；相对于树脂的固体成分质量1g，以通过式1：聚氨酯树脂相对于不良溶剂的凝固值(ml)×A(A＝0.007～0.027)而计算的量(ml)向除去了所述不溶成分的溶液中添加不良溶剂并混合的工序；以及通过湿式凝固法使所述混合溶液在成膜基材上成膜，制作聚氨酯树脂薄膜的工序。通过该方法，提供一种能够进行研磨损伤少的研磨，并且能够形成稳定的膜的抛光用研磨垫的制造方法以及研磨垫。

公开(公告)号：CN104321370A

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201380026114.7

申请日：2013-03-26

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 立野哲平 ,  宫坂博仁 ,  松冈立马 ,  金泽香枝 ,  宫泽文雄

IPC: C08J5/14 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/4238 ,  C08G18/44 ,  C08G18/4825 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/7671 ,  C08L75/04 ,  C08L75/06

Abstract: 一种研磨垫的制造方法，所述研磨垫在膜基材上具有聚氨酯树脂薄膜作为研磨层，该方法包括如下工序：将含有聚氨酯树脂和添加剂的聚氨酯树脂薄膜形成用组合物溶解在所述树脂的可溶性溶剂中的工序；除去不溶成分，使所述溶液中的不溶成分相对于聚氨酯树脂薄膜形成用组合物的总质量小于1质量％的工序；相对于树脂的固体成分质量1g，以通过式1：聚氨酯树脂相对于不良溶剂的凝固值(ml)×A(A＝0.007～0.027)而计算的量(ml)向除去了所述不溶成分的溶液中添加不良溶剂并混合的工序；以及通过湿式凝固法使所述混合溶液在成膜基材上成膜，制作聚氨酯树脂薄膜的工序。通过该方法，提供一种能够进行研磨损伤少的研磨，并且能够形成稳定的膜的抛光用研磨垫的制造方法以及研磨垫。