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公开(公告)号:CN101539753A
公开(公告)日:2009-09-23
申请号:CN200810181660.9
申请日:2008-12-02
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/1353 , G11B7/1395
Abstract: 本发明提供了一种光学再现装置、光学记录/再现装置、以及光学再现方法。该光学再现装置对通过信号光以及和该信号光共轴的参考光之间的干涉而记录在光学记录介质上的全息图进行再现。该光学再现装置包括:相干光源;光分配单元,其将来自该光源的光分配到信号光光路和参考光光路;空间光调制器,其包括信号光区域和参考光区域;第一照射光学系统,其对分配到该参考光光路的光和分配到该信号光光路的光进行空间分离,使得这两束光的光轴重合,并且将这两束光都照射到该空间光调制器上;以及第二照射光学系统,其将参考光作为读取光照射到该光学记录介质上,并且对所述全息图进行再现。
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公开(公告)号:CN101281760A
公开(公告)日:2008-10-08
申请号:CN200710095844.9
申请日:2007-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/02 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/267 , G03H2240/26 , G03H2250/38 , G03H2250/43 , G03H2260/31 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/25 , G11B7/251 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2542 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供了一种全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法。所述全息记录材料用于至少通过光照射来记录信息。所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
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公开(公告)号:CN1310012C
公开(公告)日:2007-04-11
申请号:CN02131908.1
申请日:2002-09-05
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G01D5/34715
Abstract: 从激光源所发射出的激光照射于透射型标尺。通过透射型标尺的移动,透射光的偏振角度根据沿纵长方向所排列的1/2波长片的方位变化而变化。此一偏振角度不容易受外界光等噪声因素的影响。由于透射过检偏镜并靠光检测器所检测的偏振分量的光强度根据偏振角度而变化,所以随着透射型标尺的移动而变化,检测信号向移动量运算装置输出。如果基于此一信号来运算移动量,则可以检测准确的移动量。
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公开(公告)号:CN111869021A
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN201980018986.6
申请日:2019-03-26
Applicant: 富士施乐株式会社
Abstract: 发光元件阵列具有:发光元件组,其包含多个发光元件;以及多个透镜,该多个透镜与多个发光元件对应地设置于多个发光元件的射出面侧,根据与多个发光元件之间的位置关系使来自多个发光元件的光偏转。随着从发光元件组的中心侧朝向端部侧,多个发光元件的发光中心轴和与多个发光元件对应的多个透镜的中心轴之间的距离变大,并且距离的变化程度变小。
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公开(公告)号:CN106557005A
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201610204683.1
申请日:2016-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03H1/26
CPC classification number: G03H1/268 , G03H1/0402 , G03H1/041 , G03H1/265 , G03H2001/0426 , G03H2001/2685 , G03H2210/441 , G03H1/28 , G03H2001/0415 , G03H2001/2239 , G03H2223/14
Abstract: 图像记录装置。一种图像记录装置包括:激光束源,其发射激光束;分离单元,其将从所述激光束源发射的所述激光束分成两个激光束;显示装置,其在被划分为多个区段的显示区域上显示图像;显示控制器,其控制所述显示装置的显示,使得用于形成全息立体图的多个图像被显示在所述显示区域的所述区段上,并且使得由所述分离单元分离的所述激光束中的一个通过在所述显示装置上显示的所述多个图像来调制,以变为多个物体光束;光学系统,其使所述多个物体光束以所述物体光束一个叠加在另一个上的方式在全息图记录介质上成像;以及照射单元,除了所述多个物体光束以外,其还利用由所述分离单元分离的另一激光束作为参考光束来照射所述全息图记录介质。
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公开(公告)号:CN102681399B
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201110350148.4
申请日:2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括:至少一个发光元件,其在基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上;以及至少一个光抑制部,其设置在连接发光元件和聚光点的直线上,使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处,从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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公开(公告)号:CN102681399A
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN201110350148.4
申请日:2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括:至少一个发光元件,其在基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上;以及至少一个光抑制部,其设置在连接发光元件和聚光点的直线上,使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处,从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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公开(公告)号:CN102163026A
公开(公告)日:2011-08-24
申请号:CN201010275032.4
申请日:2010-09-06
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/451 , G02B5/32 , G02B26/123 , G03G15/04054 , G03G15/0435 , G03G15/326 , G03G2215/0129
Abstract: 本发明涉及曝光设备和图像形成装置。该曝光设备包括:多个发光元件的发光元件阵列,多个发光元件沿预定方向以第一间隔成排地排列;以及全息元件阵列,在所述全息元件阵列中的多个全息元件被多路记录在记录层中,该记录层设置在所述发光元件阵列的上方,所述多个全息元件对应于所述多个发光元件中的每一个,使得从所述多个发光元件发出的光的衍射光束会聚,以在待曝光的表面处以比所述第一间隔小的第二间隔沿预定方向成排地形成聚束光点。
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公开(公告)号:CN100395513C
公开(公告)日:2008-06-18
申请号:CN02142198.6
申请日:2002-08-30
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01D5/38
Abstract: 从激光源所输出的激光照射于透射型标尺,被所记录的偏振光全息图所衍射。衍射光当中仅±1级衍射光的偏振方向旋转90°。这些±1级衍射光相互干涉,在光检测器的受光表面上形成干涉条纹。±1级衍射光的干涉光透射起偏镜,透射光的一部分通过狭缝片的各狭缝,照射于光检测器,照射光的强度被检测。另一方面,偏振方向未旋转的0级衍射光、±2级衍射光等不能透射起偏镜,在靠光检测器检测之前被遮断。
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公开(公告)号:CN1435675A
公开(公告)日:2003-08-13
申请号:CN02142198.6
申请日:2002-08-30
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G01B11/00
CPC classification number: G01D5/38
Abstract: 从激光源所输出的激光照射于透射型标尺,被所记录的偏振光全息图所衍射。衍射光当中仅±1级衍射光的偏振方向旋转90°。这些±1级衍射光相互干涉,在光检测器的受光表面上形成干涉条纹。±1级衍射光的干涉光透射起偏镜,透射光的一部分通过狭缝片的各狭缝,照射于光检测器,照射光的强度被检测。另一方面,偏振方向未旋转的0级衍射光、±2级衍射光等不能透射起偏镜,在靠光检测器检测之前被遮断。
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