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公开(公告)号:CN102681399B
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:CN201110350148.4
申请日:2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括:至少一个发光元件,其在基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上;以及至少一个光抑制部,其设置在连接发光元件和聚光点的直线上,使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处,从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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公开(公告)号:CN102681399A
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN201110350148.4
申请日:2011-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G15/043 , G03G15/00
CPC classification number: G03G15/04054 , G03G15/0435
Abstract: 本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括:至少一个发光元件,其在基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上;以及至少一个光抑制部,其设置在连接发光元件和聚光点的直线上,使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处,从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。
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