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公开(公告)号：CN115816305A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211528017.5
申请日：2022-11-30
Applicant: 大连理工大学
IPC: B24B53/017 , B24B49/12 , B24B47/20
Abstract: 本发明公开了一种研磨盘面形修测一体的双面研磨机，包括机床主体和面形修整测量系统；所述机床主体至少包括上研磨盘、上研磨盘固定座、上研磨盘固定装置和处理器；所述面形修整测量系统包括修盘砂轮、精密进给装置、位移传感器和龙门式位移装置。本发明根据实测的三维云图对研磨盘的凸出部分进行针对性的修整，极大地提高了修整效率。同时避免了对研磨盘进行全面修磨而导致研磨盘寿命快速缩短的问题。本发明对研磨盘表面面形进行精准测量，并绘制出研磨盘面形云图，便于探求双面研磨中不同工艺参数对研磨盘磨损规律的影响，保持研磨盘的面形精度。同时，也可减少硬脆材料工件在加工过程中因研磨盘面形恶化导致应力集中而出现的崩碎现象。
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公开(公告)号：CN118325480A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202410450207.2
申请日：2024-04-15
Applicant: 大连理工大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种氟化钙晶体化学机械抛光液，组分和质量百分比含量如下：氧化铈1％；氢氧化钾0.1％～0.2％；氧化石墨烯0.015％～0.05％；pH调节剂；分散剂；防腐剂；去离子水。本发明通过pH调节剂调节抛光液pH在9.5‑10以及5‑5.5范围内；调节剂作为络合剂存在在溶液中，促进抛光过程中发生络合反应，提高抛光效率和表面质量。本发明的氧化石墨烯为单层碳原子排列的蜂窝状结构，具有较大表面积及孔隙结构，可均匀分散在抛光液中，并填充到晶体表面微观凹凸处，并在表面形成一层润滑薄膜，降低晶体表面的摩擦；氧化石墨烯结构紧密又软且有较高强度，能承受较大拉伸力及摩擦力，从而减少抛光晶体表面划痕的产生。
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公开(公告)号：CN118456284A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410770728.6
申请日：2024-06-14
Applicant: 大连理工大学
IPC: B24B49/00 , B24B37/005 , B24B37/08
Abstract: 本发明公开了一种双面研磨工艺中工件自转速度的测量方法，包括以下步骤：设计专用牺牲环和游星轮；安装工件；安装振动传感器；采集振动数据；计算工件平均转速。本发明通过测量振动数据进而计算工件平均转速，与传统的工件转速测量方法相比，本发明对工件的材质和尺寸没有特别要求，适用性广；本发明采用在工件外圈加装牺牲环的方法，与现有的采用接触式磁感应侦测器测量晶圆转速的方法相比，在不干涉正常加工的同时可一定程度抑制工件表面的塌边现象；本发明利用配套的上位机实时记录振动传感器检测的振动数据，从而能够对采集的振动数据进行分析计算，操作简单，可行性好，同时测量精度较高。
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公开(公告)号：CN117111406A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311010604.X
申请日：2023-08-11
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于仿形模具的曲面涂覆光刻胶方法，包括以下步骤：仿形模具加工；表面处理；注胶；封装；曝光；脱模。本发明通过制作曲面元件仿形模具，使得曲面元件涂胶面与仿形模具之间可以形成一个密闭的大小固定的空间，通过将空间内注满光刻胶从而避免由于光刻胶流动造成的涂覆不均匀现象，进而一步到位实现胶膜的均匀性涂抹，避免了由于重力导致光刻胶滴流造成的涂胶不均匀的问题。避免了因涂胶不均匀导致的曝光区域光强分布不均所导致的结构缺陷多、精度差的问题。本发明采用凹凸模的方式涂胶，除胶膜生成过程的必须用量外基本无需额外的光刻胶。浪费少，成本低廉。
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公开(公告)号：CN104703142A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201510105542.X
申请日：2015-03-10
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明涉及一种基于博弈论的车联网位置追踪的车辆功率控制方法，它将车联网车辆功率控制问题抽象为一个博弈论中的非合作博弈问题，求出纳什均衡条件下的最优解，也就是当前状态下每一车辆最优的发射功率。另外，本发明采用了周期式和触发式相结合的HELLO广播策略，而且无需将车辆发射功率由低逐步调高反复试探，而直接计算得出每一车辆的最优发射功率，减少了由于广播HELLO数据包造成的信道拥塞。本发明由于得出了每一车辆最优发射功率，有利于降低发射功率引起的干扰并且提供车辆位置追踪精度。因此，本发明可以广泛应用于交通安全领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117140197A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311010603.5
申请日：2023-08-11
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于掩膜保护及非接触抛光工艺的微细结构制造方法，包括以下步骤：预处理；涂胶；曝光；显影；非接触抛光；除胶检测。本发明在微细结构加工过程中，光刻胶未覆盖的基材区域被抛光，产生材料去除，而受到光刻胶保护的区域，即掩膜保护区域，基材未产生材料去除，只有光刻胶被去除。由于光刻胶的材料去除率小于基材的材料去除率，因而掩膜保护区域与未被保护区域之间产生高差，即所需制造的微细结构。本发明利用非接触抛光工艺材料去除机理为剪切去除，不会对微细结构的侧壁产生影响，即不会产生侧蚀现象，因而加工出的微细结构面形精度较高。本发明不涉及到刀具、砂轮等工具的机械去除，因而制造出的表面不存在毛刺、刀纹等缺陷。
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公开(公告)号：CN111644949B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202010492314.3
申请日：2020-06-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种柴油机曲轴的抛光装置，属于精密/超精密加工领域。该装置利用曲轴在抛光液中的周向转动，保证抛光液发生剪切增稠现象。装置包括抛光系统、抛光液循环冷却系统、振动装置系统、曲轴随动系统。所述抛光系统含有抛光液且与抛光液循环冷却系统通过管路相连接；所述抛光液循环冷却系统用于保证整个系统中的抛光液温度恒定，使抛光工作顺利进行；所述振动装置系统能够提升曲轴的加工效率和表面质量；所述曲轴随动系统用于实现抛光系统沿曲轴径向、周向、轴向三个方向的运动，从而可以对曲轴主轴颈、连杆颈进行全方位的抛光。本发明提供一种抛光装置，设备简单、抛光质量较好，可以实现曲轴高效率低成本的表面抛光。
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公开(公告)号：CN112743448A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202110001565.1
申请日：2021-01-04
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种金属平板件的固结磨料研磨方法，属于机械研磨抛光加工领域，能够解决在塑性金属材料研磨加工的过程中出现的磨粒嵌入现象和固结磨料研磨盘堵塞现象。采用的主要技术方案是加工过程中使用固结磨料研磨垫并在研磨垫上开槽。该技术方案的主要好处是在加工过程中，金刚石磨粒由研磨垫把持，因此磨粒不会出现脱落现象，从而避免加工过程中磨粒嵌入构件表面的现象；同时，在研磨垫上开槽，使得加工过程中，废屑能够有效流动到沟槽中，而不是留在研磨区域表面，防止研磨垫发生堵塞现象。
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公开(公告)号：CN112444178A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011265900.0
申请日：2020-11-13
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01B5/06
Abstract: 一种用于检测透镜厚度的万能治具，属于机械领域，包括治具外壳、V型块、导向滑块、丝杆螺母座、双螺纹螺杆；其治具外壳内部空间用于放置内部传动部件，上表面带有燕尾滑槽，用于放置导向滑块；下表面为镂空形式；侧面设有通孔，用于穿过双螺纹螺杆。两个V型块对称设于治具外壳上方，下方与导向滑块连接。两个导向滑块与双螺纹螺杆通过螺纹连接，且螺杆上设有螺纹旋向相反的双螺纹。本发明在同一个螺杆上设置双螺纹，可避免由于两个滑块连接不同螺杆，在两个螺杆转动时其转动角速度差异导致的透镜中心位置产生偏移的问题；v型块则有较高适应性，对不同口径的透镜都可以完成定心、加紧的工作。
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公开(公告)号：CN111644949A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010492314.3
申请日：2020-06-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 一种柴油机曲轴的抛光装置，属于精密/超精密加工领域。该装置利用曲轴在抛光液中的周向转动，保证抛光液发生剪切增稠现象。装置包括抛光系统、抛光液循环冷却系统、振动装置系统、曲轴随动系统。所述抛光系统含有抛光液且与抛光液循环冷却系统通过管路相连接；所述抛光液循环冷却系统用于保证整个系统中的抛光液温度恒定，使抛光工作顺利进行；所述振动装置系统能够提升曲轴的加工效率和表面质量；所述曲轴随动系统用于实现抛光系统沿曲轴径向、周向、轴向三个方向的运动，从而可以对曲轴主轴颈、连杆颈进行全方位的抛光。本发明提供一种抛光装置，设备简单、抛光质量较好，可以实现曲轴高效率低成本的表面抛光。
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