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公开(公告)号：CN110491943B
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201910706223.2
申请日：2019-08-01
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L29/78 , G11C11/22 , H03K17/687
Abstract: 本发明涉及一种可擦除全铁电场效应晶体管及其操作方法，所述场效应晶体管包括基底、源电极、漏电极、栅电极、铁电凸块和衬底，所述源电极和漏电极通过铁电凸块相隔离地设置于基底上，栅电极和源电极、漏电极隔离设置，所述栅电极设置于铁电凸块的上方，所述基底由具有畴壁导电特性的铁电材料制成，所述基底与铁电凸块的电畴极化方向均与栅电极平面法线方向存在夹角不为0并且使所述电畴在源漏电极的连线方向上有分量。与现有技术相比，本发明具有能够实现亚阈值摆幅接近为零，并大幅度降低系统的静态功耗等优点。
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公开(公告)号：CN110534573A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910706362.5
申请日：2019-08-01
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L29/78 , H01L21/336 , H01L27/11585
Abstract: 本发明涉及一种集存算一体的全铁电场效应晶体管，包括基底、源电极、漏电极、栅电极和铁电凸块，所述源电极和漏电极通过铁电凸块相隔离地设置于基底上，栅电极和源电极、漏电极隔离设置，所述基底由具有畴壁导电特性的铁电材料制成。与现有技术相比，本发明从根本上解决了铁电体的高度集成化的问题。
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公开(公告)号：CN110429085A
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201910700991.7
申请日：2019-07-31
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L27/11507 , H01L27/11509 , G11C11/22
Abstract: 本发明涉及一种铁电三位存储器、制备方法及其操作方法，所述铁电三位存储器包括铁电薄膜层、铁电存储单元和读写电极层，所述铁电存储单元设置于铁电薄膜层上方，所述读写电极层被间隙分割成两部分，形成第一电极和第二电极，所述第一电极和第二电极中至少之一搭在所述铁电存储单元表面的长度大于零且小于铁电存储单元的宽度。与现有技术相比，本发明具有三位信息存储功能，能够提高存储单元的存储密度，具有制备简单、成本低廉等优点。
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公开(公告)号：CN116076163A8
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202080103591.9
申请日：2020-09-29
IPC: H10B53/50
Abstract: 一种三维存储器及其制备方法、电子设备。三维存储器包括互连的第一芯片和第二芯片。第一芯片包括层叠设置的三维存储阵列和第一键合层，第一键合层中的多个第一表面电极与三维存储阵列对应耦接。第二芯片包括层叠设置的读写电路和第二键合层，第二键合层中的多个第二表面电极与读写电路对应耦接。第一芯片和第二芯片的互连，通过第一键合层和第二键合层的键合实现。并且，第一键合层中的第一表面电极与第二键合层中的第二表面电极一一对应的耦接。
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公开(公告)号：CN112768348B
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202110059078.0
申请日：2021-01-18
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L21/306 , H01L21/3063 , H01L21/3065 , H01L21/308
Abstract: 本发明属于存储材料制备技术领域，具体为一种铌酸锂材料刻蚀及提高侧壁角度的优化方法。本发明方法包括：硬掩膜制作、倾斜刻蚀、金属黑化修正侧壁以及湿法腐蚀清洗。与传统的直接利用干法刻蚀铌酸锂图形不同，本方法将干法刻蚀与湿法刻蚀相结合，不仅能够获得刻蚀角度陡直、侧壁光滑的铌酸锂图形，而且刻蚀效率也极高，同时可对铌酸锂图形进行后期修正。本发明方法对基于铌酸锂材料的纳米加工具有极大意义，并且不会破坏材料的铁电特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113421881A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110577778.9
申请日：2021-05-26
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L27/11507
Abstract: 本发明属于铁电存储器件技术领域，具体为一种通过金属扩散调节铁电存储器表面层有效厚度的方法。本发明是在铁电存储单元表面层与电极接触部位间增加金属扩散层，使金属原子扩散进入部分或全部铁电表面层区域，从而调减表面层有效厚度，实现对表面层选择管开启电压大小的连续调节。本发明在金属扩散层制备完成后，采用高温保温或后热退火的方法调控扩散层金属向铁电材料内部的扩散深度。本发明实现了开启电压连续可调，甚至可降低至接近零；同时，开态电流增大，存储器读写操作电压减小，可提高器件可缩微性或存储密度，实现功耗的大幅度降低，开关比可达105，存储器性能获得大幅度提升。本发明为深化高密度铁电存储器的商业化开拓了思路。
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公开(公告)号：CN112310214A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201910701759.5
申请日：2019-07-31
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L29/78 , H01L27/11502 , H01L21/336
Abstract: 本发明涉及一种非易失性铁电存储器及其制备方法，所述铁电存储器包括铁电存储层、第一电极和第二电极，所述铁电存储层中的电畴的极化方向基本不平行所述铁电存储层的法线方向；所述第一电极和第二电极结构相同，均包括在所述铁电存储层的表层中构图形成的埋入式导电层以及形成在所述埋入式导电层上的电极层；在所述第一电极和第二电极之间施加在某一方向上的写信号时使能位于一对埋入式导电层之间的部分铁电存储层的电畴反转，以至于能够建立连接第一电极和第二电极的畴壁导电通道。与现有技术相比，本发明能够避免刻蚀过程容易对铁电材料产生的破坏，提高铁电存储器的存储性能，在数据保持性能、开态读电流等方面表现优异。
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公开(公告)号：CN116472581A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202080104665.0
申请日：2020-11-20
IPC: G11C11/22
Abstract: 一种铁电存储器及电子设备，涉及铁电存储技术领域，用于对铁电存储元件(20)的开启电压进行调节。该铁电存储器包括基底(200)以及设置在基底(200)上的第一电压线、第二电压线以及铁电存储元件(20)；铁电存储元件(20)包括设置在基底(200)上的铁电薄膜层(201)；铁电薄膜层(201)包括向远离基底(200)一侧凸起的铁电存储单元(2011)；铁电存储元件(20)还包括相对设置于铁电存储单元(2011)两侧的第一电极(202)和第二电极(203)；第一电极(202)与铁电存储单元(2011)的第一表面和侧面均接触，第二电极(203)与铁电存储单元(2011)的第一表面和/或侧面接触；第一表面为铁电存储单元(2011)的与基底(200)平行且远离基底(200)的表面；其中，第一电极(202)与第一电压线电连接；第二电极(203)与第二电压线电连接。
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公开(公告)号：CN115497924A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211209910.1
申请日：2022-09-30
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L23/64 , H01L21/8242 , H01L27/108 , H01L27/11568 , H01G11/00 , H01G11/84
Abstract: 本发明公开了一种具有超高介电常数和/或铁电剩余极化强度的介质薄膜和器件的制备方法及器件。该方法包含：步骤a，在衬底上或附有第二电极的衬底上形成介质薄膜；该介质薄膜包含Hf1‑xZrxO2薄膜，其为晶体或非晶态薄膜；0≤x≤1；步骤b，在所述介质薄膜上形成第一电极；步骤c，将第一电极分割为若干离散的微结构，每个微结构的横向尺寸为1nm～50μm；步骤d，退火处理，使得所述介质薄膜中低介电常数相减少，高介电常数相增加。采用本发明的方法提供的超高介电常数和/或铁电剩余极化强度的介质薄膜和器件，最高介电常数和铁电剩余极化强度分别可大于921和404μC/cm2，信息存储密度高，能够有效地降低器件的操作电压和漏电流，且与CMOS集成工艺兼容性良好，应用前景良好。
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公开(公告)号：CN113421881B
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202110577778.9
申请日：2021-05-26
Applicant: 复旦大学
IPC: H01L27/11507
Abstract: 本发明属于铁电存储器件技术领域，具体为一种通过金属扩散调节铁电存储器表面层有效厚度的方法。本发明是在铁电存储单元表面层与电极接触部位间增加金属扩散层，使金属原子扩散进入部分或全部铁电表面层区域，从而调减表面层有效厚度，实现对表面层选择管开启电压大小的连续调节。本发明在金属扩散层制备完成后，采用高温保温或后热退火的方法调控扩散层金属向铁电材料内部的扩散深度。本发明实现了开启电压连续可调，甚至可降低至接近零；同时，开态电流增大，存储器读写操作电压减小，可提高器件可缩微性或存储密度，实现功耗的大幅度降低，开关比可达105，存储器性能获得大幅度提升。本发明为深化高密度铁电存储器的商业化开拓了思路。
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