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公开(公告)号：CN103837708B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210492775.6
申请日：2012-11-27
Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。
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公开(公告)号：CN107385504B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
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公开(公告)号：CN107385504A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
CPC classification number: C25F7/00 , B23H3/00 , B23H3/04 , B81B7/04 , B81C1/00373 , B81C2201/0185 , B81C2201/0191 , B82Y40/00 , C25F3/02
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
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公开(公告)号：CN103837708A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201210492775.6
申请日：2012-11-27
Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。
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公开(公告)号：CN110316695B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201910368975.2
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块，所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针，其中：所述电容式位移传感器固定在电容固定座；所述电容固定座固定在调节座上方；所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方；所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上；所述调节座固定在锁紧支座；所述锁紧支座固定在支架上；所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能，相比较与商业化AFM，具有更大的加工尺寸及材料适用范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110699653B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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公开(公告)号：CN108051265B
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201711233122.5
申请日：2017-11-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开一种基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法，包括机架和位于机架内的试剂缸；机架下设置水平支撑轮，其上缠绕水平链条，水平链条上连接水平驱动轮；水平链条上固定水平直线轴承，水平直线轴承穿设于水平下导轨上，水平下导轨固定于机架上；水平直线轴承连接升降模块，升降模块上安装吊篮，吊篮用来盛装生物组织样本。本发明提供的基于链传动的生物组织脱水方法，吊篮在试剂缸中停留时间与酒精浓度成反比，吊篮停留时间与酒精浓度的乘积为固定常值，吊篮能根据试剂缸中酒精浓度的变化调整停留时间，本发明提供的基于链传动的生物组织脱水装置及其脱水方法，提高了生物组织脱水工艺效率，生物组织脱水效率高且传动精度高。
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公开(公告)号：CN110747433A
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201911046706.0
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶，本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接，多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合，每个隔离圈均由两个半圆环体组成，每两个半圆环体扣合设置在支撑管上，每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接，多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置，异形靶材中部设有空腔，异形靶材的外形为柱状，异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧，水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接，异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应，镀制的薄膜均匀性可以保证，异形靶与多面共体反射镜之间无需运动，缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。
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公开(公告)号：CN110699653A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201911046675.9
申请日：2019-10-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。
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公开(公告)号：CN110262309A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910368973.3
申请日：2019-05-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G05B19/042 , B82B3/00 , B82Y40/00 , G01B7/02 , G01B7/28
Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法，所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心，利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点，实现宏-微联动控制，采用模拟信号方式，保证信号处理、传输的实时性，满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理，作为闭环控制参考信号，该方式测试结果精确、对测试环境要求较低，可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号，利于闭环精确控制。
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