-
公开(公告)号：CN107414221B
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201710243275.1
申请日：2017-04-14
IPC: B23H5/06
Abstract: 一种三维微纳结构电化学诱导加工方法，属于微纳米结构加工领域。所述的加工方法包括如下步骤：将被加工工件固定于电化学体系中电解池底部，再将电解池固定于X‑Y方向水平位移台上；将微纳米尺寸刀具电极固定于夹具上，再将夹具固定于Z方向位移台上；向电解池中注入电解液，使电解液没过被加工工件；控制微纳米尺寸刀具电极逼近被加工材料；Z方向微动位移台设定为闭环模式，微纳米尺寸刀具电极电化电流作为其闭环信号；微纳米尺寸刀具电极在扫描运动时，根据预加工结构三维形貌实时调制刀具电极的电化学电流，最终在被加工工件表面加工出预定的三维微纳结构。本发明的加工方法属于一次成型，从而大大减少加工复杂度，提高了加工效率。
-
公开(公告)号：CN107486601A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710675817.2
申请日：2017-08-09
Abstract: 一种利用异形电极刀具进行电化学加工的方法，涉及微纳米加工领域。方法是：根据需要加工的特定形貌结构，设计制作异形电极刀具；将异形电极刀具固定于夹具上，再将夹具固定于多维操纵装置的Z方向位移台上；将被加工工件固定于电解池底部，向电解池注入电解液，控制异形电极刀具逼近被加工工件，并利用多维操纵装置的XY方向位移台调整异形电极刀具与被加工工件相对位置；将辅助电极和参比电极浸入电解液中，电化学工作站的工作电极线连接异形电极刀具，启动电化学工作站，产生电化学电流；控制C方向转台使被加工工件进行旋转运动，同时加工进行；加工结束后，被加工工件表面产生要求的形貌结构。本发明用于对工件进行电化学加工。
-
公开(公告)号：CN107414221A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201710243275.1
申请日：2017-04-14
IPC: B23H5/06
CPC classification number: B23H5/06
Abstract: 一种三维微纳结构电化学诱导加工方法，属于微纳米结构加工领域。所述的加工方法包括如下步骤：将被加工工件固定于电化学体系中电解池底部，再将电解池固定于X-Y方向水平位移台上；将微纳米尺寸刀具电极固定于夹具上，再将夹具固定于Z方向位移台上；向电解池中注入电解液，使电解液没过被加工工件；控制微纳米尺寸刀具电极逼近被加工材料；Z方向微动位移台设定为闭环模式，微纳米尺寸刀具电极电化电流作为其闭环信号；微纳米尺寸刀具电极在扫描运动时，根据预加工结构三维形貌实时调制刀具电极的电化学电流，最终在被加工工件表面加工出预定的三维微纳结构。本发明的加工方法属于一次成型，从而大大减少加工复杂度，提高了加工效率。
-
公开(公告)号：CN103837708B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201210492775.6
申请日：2012-11-27
Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。
-
公开(公告)号：CN107486601B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201710675817.2
申请日：2017-08-09
Abstract: 一种利用异形电极刀具进行电化学加工的方法，涉及微纳米加工领域。方法是：根据需要加工的特定形貌结构，设计制作异形电极刀具；将异形电极刀具固定于夹具上，再将夹具固定于多维操纵装置的Z方向位移台上；将被加工工件固定于电解池底部，向电解池注入电解液，控制异形电极刀具逼近被加工工件，并利用多维操纵装置的XY方向位移台调整异形电极刀具与被加工工件相对位置；将辅助电极和参比电极浸入电解液中，电化学工作站的工作电极线连接异形电极刀具，启动电化学工作站，产生电化学电流；控制C方向转台使被加工工件进行旋转运动，同时加工进行；加工结束后，被加工工件表面产生要求的形貌结构。本发明用于对工件进行电化学加工。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107385504B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
-
公开(公告)号：CN107385504A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
CPC classification number: C25F7/00 , B23H3/00 , B23H3/04 , B81B7/04 , B81C1/00373 , B81C2201/0185 , B81C2201/0191 , B82Y40/00 , C25F3/02
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
-
公开(公告)号：CN103837708A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201210492775.6
申请日：2012-11-27
Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。
-
公开(公告)号：CN116007535A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211389338.1
申请日：2022-11-08
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/26
Abstract: 本发明提供了一种阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，涉及光学技术领域。本发明所述的阵列式光束聚焦组件的基准校核装置，包括自准直仪组件、标准镜组件和阵列式光束聚焦组件，所述标准镜组件位于所述自准直仪组件和所述阵列式光束聚焦组件之间，所述标准镜组件适于位于所述自准直仪组件视野内，所述自准直仪组件和所述标准镜组件适于在所述自准直仪组件与所述阵列式光束聚焦组件准直时对所述阵列式光束聚焦组件定轴。本发明所述的技术方案，通过自准直仪组件和标准镜组件调整阵列式光束聚焦组件的姿态，实现对阵列式光束聚焦组件定轴，有效提高了阵列式光束聚焦组件的聚焦能力；同时有效避免了在线调整方式对于靶场区聚焦环境洁净度的要求。
-
公开(公告)号：CN114000180B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202111287845.X
申请日：2021-11-02
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明属于冶金技术领域，具体涉及一种铝基材料的特殊表面处理方法，尤其涉及一种通过表面处理方法降低红外激光环境下铝合金腔体内侧的红外光致损伤的方法。本发明所述防护的方法，通过在铝合金工件表面进行阳极氧化的方式并在纳米孔内沉积能够吸收近红外光的材料，形成纳米级的柱状吸收阵列，可以有效降低反射率，再进一步通过向孔内经电沉积并填满导热金属的方式，使得吸收的能量迅速以热的形式分散给基体，防止吸收单元温度过高而被烧蚀；而最外层形成的封孔层则可以起到防止膜内外物质交换的目的，减少即使产生落尘，扩散到膜外的可能。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
75
records
(took 0.026 seconds)
