一种微纳双模检测加工模块

    公开(公告)号:CN110316695B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN201910368975.2

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块,所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针,其中:所述电容式位移传感器固定在电容固定座;所述电容固定座固定在调节座上方;所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方;所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上;所述调节座固定在锁紧支座;所述锁紧支座固定在支架上;所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能,相比较与商业化AFM,具有更大的加工尺寸及材料适用范围。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶

    公开(公告)号:CN110747433A

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201911046706.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体扣合设置在支撑管上,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证,异形靶与多面共体反射镜之间无需运动,缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种适用于微纳双模检测加工模块的控制系统及方法

    公开(公告)号:CN110262309A

    公开(公告)日:2019-09-20

    申请号:CN201910368973.3

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法,所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心,利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点,实现宏-微联动控制,采用模拟信号方式,保证信号处理、传输的实时性,满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理,作为闭环控制参考信号,该方式测试结果精确、对测试环境要求较低,可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号,利于闭环精确控制。

    一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法

    公开(公告)号:CN109179313A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201811002922.0

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法,所述方法步骤如下:一、基于原子力显微镜的纳沟槽加工:应用AFM探针在金属样品表面进行纳米沟槽的加工;二、光刻法微沟槽加工:采用光刻法在单晶硅基底上进行微沟槽的加工;三、PDMS微纳沟槽转印:通过PMDS两次转印得到分别带有微、纳沟槽的PDMS单片;四、PDMS片键合:采用氧等离子体清洗机对具有微、纳沟槽的PDMS单片进行键合,得到所需结构的微纳流控芯片。本发明主要基于AFM的刻划加工,由于AFM刻划加工操作简便且效率高,所以采用本方法制备微纳流控芯片更高效。本发明的方法制备流程相对简单,使用材料为PDMS、单晶铜片等,成本相对较低。

    一种采用AFM探针纳米刻划加工复杂三维微纳米结构的方法

    公开(公告)号:CN105347298B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201510877418.5

    申请日:2014-08-07

    Abstract: 一种采用AFM探针纳米刻划加工复杂三维微纳米结构的方法,属于微纳米结构加工领域。为了解决复杂三维微纳米结构加工问题,所述装置包括AFM、X方向精密工作台、Y方向精密工作台,X方向精密工作台底座固连在Y方向精密工作台的滑块上,X方向定位工作台的滑块进行X方向运动,Y方向精密工作台底座固连在AFM样品台上,Y方向定位工作台的滑块进行Y方向运动。本发明提出的三种方法分别通过对同一套商用AFM以及高精度定位平台系统的不用控制和参数设置,实现采用AFM探针纳米刻划技术加工复杂三维微纳米结构的加工。本发明能够在较低成本下解决复杂三维微纳米结构的加工问题,且方法简单,装置及加工实现成本相对较低。

    基于原子力显微镜在薄壁微小球面加工微纳米结构的五轴加工装置及方法

    公开(公告)号:CN104140077A

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201410385541.0

    申请日:2014-08-07

    Abstract: 本发明公开了一种基于原子力显微镜在薄壁微小球面加工微纳米结构的五轴加工装置及方法。所述装置包括AFM、二维微调心机构、精密气浮轴系、二维高精度定位平台和带动AFM进行转动的电动旋转台,二维微调心机构与精密气浮轴系的上端连接,精密气浮轴系的下端与二维高精度定位平台连接,二维高精度定位平台底座固连在AFM的样品台上,电动旋转台与AFM相连接。本发明利用原子力显微镜AFM的加工的优势,并且改善了在薄壁微球表面加工范围受限的问题,实现了基于AFM在薄壁微小球面加工微纳米结构。本发明加工方法简单,无需复杂的加工系统,操作简单,并且可以在薄壁微球表面上得到精度达到纳米量级的微纳米结构。

    一种精密主轴回转精度检测装置及方法

    公开(公告)号:CN103759941A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410042639.6

    申请日:2014-01-29

    Abstract: 一种精密主轴回转精度检测装置及方法,属于精密主轴回转误差测量技术领域。本发明所述的装置包括原子力显微镜AFM、平面样品、手动二维调整台、二维电动位移台和精密主轴控制器,其中,AFM与平面样品配合使用获得刻划形貌图,平面样品固定在手动二维调整台的上部,手动二维调整台的底部与被测精密主轴的上端连接,被测精密主轴的下端与二维电动位移台连接。本发明实施例将通过原子力显微镜的纳米刻划加工和检测一体化的优势,在检测过程中无需采用基准零件,操作简单,并且可以使测量精度达到纳米量级,同时可检测精密主轴的径向和轴向回转误差,提高了精密主轴回转误差的精度。

    一种基于纳米铣削加工阵列纳通道结构的纳流体忆阻器制备方法

    公开(公告)号:CN119997795A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202510049472.4

    申请日:2025-01-13

    Abstract: 一种基于纳米铣削加工阵列纳通道结构的纳流体忆阻器制备方法,属于忆阻器制备技术领域。所述方法为:上层微通道采用紫外光刻技术制备;下层微通道为通过紫外光刻在硅片表面制备柔性掩膜版,非曝光区域的光刻胶溶解脱落,暴露出硅基底,在硅基底加工得到微通道结构,将光刻胶全部去除后,得带有微通道的硅基底;纳米铣削加工由原子力显微镜系统及二维压电陶瓷促动器实现;将带有凸微通道的硅片作为模板进行转印后,得带有微通道的PDMS片;将带有纳通道阵列的硅片作为模板进行二次转印得带有纳米通道和微米通道的PDMS片;将两个PDMS片通过氧等离子体处理的方式进行键合。本发明方法流程简单、快速高效、结构稳定、一致性好且可大量复制、生物兼容性好。

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