一种适用于探索共体反射镜上薄膜制备工艺参数的装置

    公开(公告)号:CN111665580B

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202010538180.4

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 一种适用于探索共体反射镜上薄膜制备工艺参数的装置,属于金属薄膜制备与检测技术领域。本发明包括外部框架、多个支撑柱和多个平面基底,所述外部框架上的四个竖直设置的支撑板上分别设有多个定位孔,所述多个定位孔、多个支撑柱以及多个平面基底数量均相同;每个所述支撑柱一端可拆卸固定插入定位孔内,每个支撑柱另一端设置在外部框架内并与平面基底一端可拆卸固定连接,所述平面基底另一端的端面与自由曲面相切。本发明具有与多面共体反射镜相同的表面粗糙度与相近的空间结构,而且便于检测,可以较为简单、准确、经济地获得沉积的工艺参数和靶基运动。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶

    公开(公告)号:CN110747433A

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201911046706.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体扣合设置在支撑管上,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证,异形靶与多面共体反射镜之间无需运动,缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种适用于微纳双模检测加工模块的控制系统及方法

    公开(公告)号:CN110262309A

    公开(公告)日:2019-09-20

    申请号:CN201910368973.3

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法,所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心,利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点,实现宏-微联动控制,采用模拟信号方式,保证信号处理、传输的实时性,满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理,作为闭环控制参考信号,该方式测试结果精确、对测试环境要求较低,可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号,利于闭环精确控制。

    基于液态金属的可变刚度柔性软连续体机器人

    公开(公告)号:CN116728392A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310958856.9

    申请日:2023-08-01

    Abstract: 一种基于液态金属的可变刚度柔性软连续体机器人,属于软体机器人技术领域。本发明针对现有软连续体机器人控制精度差、难以小型化,在经自然腔道进入人体的过程中,容易造成血管破裂、组织损伤的问题。包括两根相同并且并行排布的硅胶管或者两根同轴套接的硅胶管;其中一根硅胶管作为主动硅胶管,另一根硅胶管作为随动硅胶管;两根硅胶管内均填充液态金属,并设置加热丝;主动硅胶管内部液态金属填充腔的前端头部设置永磁体;通过控制加热丝为液态金属加热,并配合外磁场与永磁体的作用,使主动硅胶管向前运动,并使随动硅胶管跟随主动硅胶管的运动。本发明可实现机器人形状的主动管控。

    一种适用于微纳双模检测加工模块的控制系统及方法

    公开(公告)号:CN110262309B

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN201910368973.3

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳检测加工模块的控制系统及方法,所述系统包括微纳双模检测加工模块、三坐标工作台、PZT驱动器、UMAC、电荷放大器、锁相放大器、XY压电扫描台、路由器、上位机、CCD、XY向位移传感器和Z向位移传感器。本发明选用UMAC作为控制核心,利用其高性能伺服环、可扩展性强、集成度高特点,实现宏‑微联动控制,采用模拟信号方式,保证信号处理、传输的实时性,满足设计需求。本发明通过对电容式位移传感器信号放大、锁相处理,作为闭环控制参考信号,该方式测试结果精确、对测试环境要求较低,可以实现μN级闭环控制。锁相放大器的使用排除了电容式位移传感器测试结果中的噪声信号,利于闭环精确控制。

    一种适用于探索共体反射镜上薄膜制备工艺参数的装置

    公开(公告)号:CN111665580A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010538180.4

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 一种适用于探索共体反射镜上薄膜制备工艺参数的装置,属于金属薄膜制备与检测技术领域。本发明包括外部框架、多个支撑柱和多个平面基底,所述外部框架上的四个竖直设置的支撑板上分别设有多个定位孔,所述多个定位孔、多个支撑柱以及多个平面基底数量均相同;每个所述支撑柱一端可拆卸固定插入定位孔内,每个支撑柱另一端设置在外部框架内并与平面基底一端可拆卸固定连接,所述平面基底另一端的端面与自由曲面相切。本发明具有与多面共体反射镜相同的表面粗糙度与相近的空间结构,而且便于检测,可以较为简单、准确、经济地获得沉积的工艺参数和靶基运动。

    基于液态金属的可变刚度柔性软连续体机器人

    公开(公告)号:CN116728392B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202310958856.9

    申请日:2023-08-01

    Abstract: 一种基于液态金属的可变刚度柔性软连续体机器人,属于软体机器人技术领域。本发明针对现有软连续体机器人控制精度差、难以小型化,在经自然腔道进入人体的过程中,容易造成血管破裂、组织损伤的问题。包括两根相同并且并行排布的硅胶管或者两根同轴套接的硅胶管;其中一根硅胶管作为主动硅胶管,另一根硅胶管作为随动硅胶管;两根硅胶管内均填充液态金属,并设置加热丝;主动硅胶管内部液态金属填充腔的前端头部设置永磁体;通过控制加热丝为液态金属加热,并配合外磁场与永磁体的作用,使主动硅胶管向前运动,并使随动硅胶管跟随主动硅胶管的运动。本发明可实现机器人形状的主动管控。

    基于多级电磁铁的高频强磁场发生装置及磁场控制方法

    公开(公告)号:CN112959311B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202110205992.1

    申请日:2021-02-24

    Abstract: 一种基于多级电磁铁的高频强磁场发生装置及磁场控制方法,属于执行器驱动技术领域。本发明为解决现有磁场发生装置产生的磁场不可控且工作空间大小不可调整的问题。装置包括四个磁场发生单元沿圆周方向依次间隔90°排布;每个磁场发生单元包括底座和两个电磁铁模块,两个电磁铁模块在底座上呈镜像对称设置,两个电磁铁模块天顶角的取值范围为45°~60°;八个电磁铁模块两两相对,并且四对电磁铁模块的轴线相交于一点;采用梯形丝杠、螺母、T型轴承座、联轴器和步进电机构成调整机构,可调整磁场内部空间的大小。本发明可以驱动各类型的微执行器。

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