存储单元及其数据读写方法、制备方法及存储器

    公开(公告)号:CN114864582A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210417384.1

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本发明公开了一种存储单元及其数据读写方法、制备方法及存储器,存储单元包括:第一晶体管与第二晶体管;第一晶体管包括:第一栅极、位于第一栅极底面的第一介电层以及位于第一介电层底面的第一沟道层、第一源极与第一漏极;第二晶体管包括:第二栅极、位于第二栅极顶面的第二介电层以及位于第二介电层顶面的第二沟道层、第二源极与第二漏极;第二栅极与第一漏极连接;第二介电层包括:铁电层,铁电层位于第二源极与第二漏极的底面。本发明采用两个晶体管堆叠的存储单元结构进行数据读写,不仅消除了存储电容对尺寸缩小的影响,还避免了存储电容的结构互连的长度较长的问题,从而减小了互连线的距离,减小了电路延迟,提高了存储器的整体性能。

    双栅晶体管存储单元、数据读写方法、制作方法及存储器

    公开(公告)号:CN114863967B

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202210417396.4

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本发明公开了一种双栅晶体管存储单元、数据读写方法、制作方法及存储器,其中,双栅晶体管存储单元包括:第一栅极;第一介电层,设置在所述第一栅极的顶面;沟道层,设置在所述第一介电层的顶面;源极与漏极,所述源极与所述漏极设置在所述第一介电层的顶面并位于所述沟道层两侧;其中,所述第一介电层包括铁电层,所述铁电层位于所述源极与所述漏极的底面;第二介电层,设置在所述沟道层的顶面;第二栅极,设置在所述第二介电层的顶面。本发明采用一个晶体管作为存储单元,消除了存储电容限制存储单元缩小面积的缺陷,使得铁电存储器可以很好的应用在三维集成技术中。

    存储器
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115835774A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202210871271.9

    申请日:2022-07-22

    Inventor: 张国飙 宋志棠

    Abstract: 本发明提出一种存储器,包括多个一次编程存储元,每个一次编程存储元含有存储膜(30)。在一实施例中,存储膜(30)含有一层OTS(Ovonic阈值开关)膜(30A)和一层反熔丝膜(30B)。在另一实施例中,存储膜(30)含有一层OTS膜(30A),OTS膜(30A)的首次翻转电压Vform大于后续翻转电压Vth。该存储器是三维一次编程存储器,包括三维横向一次编程存储器和三维纵向一次编程存储器。

    双栅晶体管存储单元、数据读写方法、制作方法及存储器

    公开(公告)号:CN114863967A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210417396.4

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本发明公开了一种双栅晶体管存储单元、数据读写方法、制作方法及存储器,其中,双栅晶体管存储单元包括:第一栅极;第一介电层,设置在所述第一栅极的顶面;沟道层,设置在所述第一介电层的顶面;源极与漏极,所述源极与所述漏极设置在所述第一介电层的顶面并位于所述沟道层两侧;其中,所述第一介电层包括铁电层,所述铁电层位于所述源极与所述漏极的底面;第二介电层,设置在所述沟道层的顶面;第二栅极,设置在所述第二介电层的顶面。本发明采用一个晶体管作为存储单元,消除了存储电容限制存储单元缩小面积的缺陷,使得铁电存储器可以很好的应用在三维集成技术中。

    一种散热结构和散热系统
    15.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210403704U

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201921504912.7

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本实用新型公开了一种散热结构和散热系统。该散热结构包括:散热通道;散热翅片,设置于散热通道的至少一侧;位于散热通道同一侧的散热翅片沿散热通道的延伸方向排列;散热通道与散热翅片均形成为空腔结构;散热翅片包括相对设置的第一端和第二端,第一端为封闭端,第二端为开口端,第二端与散热通道连通。本实用新型实施例提供的技术方案通过设置空腔结构的散热通道和散热翅片,可增大散热面积,可以在较小的散热结构的体积上将散热面积增大,从而可提高散热效率,有利于避免器件和芯片的热失控损坏。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    存储单元及存储器
    16.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217544619U

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202220921103.1

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本实用新型公开了一种存储单元及存储器,存储单元包括:第一晶体管与第二晶体管;第一晶体管包括:第一栅极、位于第一栅极底面的第一介电层以及位于第一介电层底面的第一沟道层、第一源极与第一漏极;第二晶体管包括:第二栅极、位于第二栅极顶面的第二介电层以及位于第二介电层顶面的第二沟道层、第二源极与第二漏极;第二栅极与第一漏极连接;第二介电层包括:铁电层,铁电层位于第二源极与第二漏极的底面。本实用新型采用两个晶体管堆叠的存储单元结构进行数据读写,不仅消除了存储电容对尺寸缩小的影响,还避免了存储电容的结构互连的长度较长的问题,从而减小了互连线的距离,减小了电路延迟,提高了存储器的整体性能。

    双栅晶体管存储单元及存储器

    公开(公告)号:CN217544163U

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202220939684.1

    申请日:2022-04-20

    Abstract: 本实用新型公开了双栅晶体管存储单元及存储器,其中,双栅晶体管存储单元包括:第一栅极;第一介电层,设置在所述第一栅极的顶面;沟道层,设置在所述第一介电层的顶面;源极与漏极,所述源极与所述漏极设置在所述第一介电层的顶面并位于所述沟道层两侧;其中,所述第一介电层包括铁电层,所述铁电层位于所述源极与所述漏极的底面;第二介电层,设置在所述沟道层的顶面;第二栅极,设置在所述第二介电层的顶面。本实用新型采用一个晶体管作为存储单元,消除了存储电容限制存储单元缩小面积的缺陷,使得铁电存储器可以很好的应用在三维集成技术中。

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