一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜

    公开(公告)号:CN105938259B

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201610388269.0

    申请日:2016-06-02

    Abstract: 本发明公开了一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面纳尖簇线密集排布构成的一层图案化阳极和一层平面金属纳膜阴极/阳极,它们被分别制作在透光的纳米厚度的基膜/光学介质层的两个外表面上;在加电态下,图案化阳极中的金属平面纳尖与金属纳膜阴极/阳极间形成局域弯曲的锐化电场阵,阴极/阳极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的阵列化纳电场驱控,向各纳电场中电场强度最强部位聚集。本发明基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜可对宽谱域内的强功率入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活及调光响应快的特点。

    一种双路电控纳线簇电极的电调光透射薄膜

    公开(公告)号:CN105929567B

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201610392288.0

    申请日:2016-06-03

    Abstract: 本发明公开了一种双路电控纳线簇电极的电调光透射薄膜,其包括:由纳米尺度间隔的纳线簇高密度排布构成的图案化公共电极以及分布在其上端和下端的顶面阴极和底面金属纳膜阴极,顶面阴极和图案化公共电极均由透光的纳米厚度的同材质膜制成,底面金属纳膜阴极由纳米厚度的金属膜制成;顶面阴极和图案化公共电极以及图案化公共电极与底面金属纳膜阴极间均填充有纳米厚度的同材质光学介质材料。本发明双路电控纳线簇电极的电调光透射薄膜,可对入射光波的透射行为执行精细电控调变,具有适用于宽谱域及较强光束、偏振不敏感、调光响应快的特点。

    一种基于金属平面微纳线尖电极的电调透光率薄膜

    公开(公告)号:CN105938260A

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201610390204.X

    申请日:2016-06-02

    CPC classification number: G02F1/0102

    Abstract: 本发明公开了一种基于金属平面微纳线尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面微纳线尖有序密集排布构成的一层图案化阴极和一层平面阳极,它们被分别制作在一层纳米厚度的透光基膜/电绝缘膜的上下表面;在加电态下,阴极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的电场驱控,向金属平面微纳线尖簇其各纳线尖顶聚集,纳线尖金属电连接线上的自由电子分布密度因部分甚至绝大多数电子被纳线尖顶抽走而减少甚至急剧降低。本发明基于金属平面微纳线尖簇电极的电调透光率薄膜可对较宽谱域内的入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活以及调光响应快等特点。

    一种电调平面与三维光场双模成像探测芯片

    公开(公告)号:CN105791645A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201610147937.0

    申请日:2016-03-15

    CPC classification number: H04N5/2254 H04N5/2253 H04N5/23245

    Abstract: 本发明公开了一种电调平面与三维光场双模成像探测芯片。包括电控液晶微光学结构和面阵光敏探测器;在电控液晶微光学结构上加载的信号电压的均方幅值高于某一阈值时,电控液晶微光学结构等效为面阵电控液晶微透镜,双模成像探测芯片呈现三维光场成像模式,在电控液晶微光学结构上加载的信号电压的均方幅值低于所述阈值或不加载信号电压时,电控液晶微光学结构等效为对入射光波具有延迟作用的液晶相移板,双模成像探测芯片被调变或切换为具有高空间分辨率的常规平面成像模式。本发明具有成像模式切换灵活,调光响应快,以及目标的高空间分辨率平面图像与其局域三维形态/姿态特征兼容获取的特点。

    一种电调光反射率薄膜

    公开(公告)号:CN105759464A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610145778.0

    申请日:2016-03-15

    CPC classification number: G02F1/0121

    Abstract: 本发明公开了一种电调光反射率薄膜。包括第一光学介质层,依次设置在第一光学介质层上表面的第一阳极、第二光学介质层和第二阳极,以及设置在第一光学介质层下表面的阴极,阴极为匀质导电膜结构,第一阳极和所述第二阳极均由其上布有M×N元阵列分布的纳孔的导电膜构成;通过调变加载在第一阳极和阴极间的第一时序电压信号以及加载在第二阳极和阴极间的第二时序电压信号,调变阴极上的阵列化电子的密度和分布形态,进而调变电调光反射率薄膜的光反射率。本发明能对宽谱入射波束的光反射率执行电控调变,具有动态范围大、偏振不敏感、驱控灵活精细、调光响应快、光反射态可电控切入与调换的特点。

    一种用于消失模铸造铸铁的粉末状涂料

    公开(公告)号:CN101428328B

    公开(公告)日:2010-06-30

    申请号:CN200810236705.8

    申请日:2008-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种粉末状消失模铸造铸铁专用涂料,该粉末涂料的组成为180目至200目的耐火材料为60~70%,悬浮剂2.0~3.0%,粘结剂1.5~2.5%,有机硅消泡剂0.3~0.6%,防腐剂0.01~0.03%,余量为180目至200目的云母粉。制备时将各种粉末状物质按所需比例称取,依次放入粉末搅拌机中低速搅拌20~40分钟,然后出料包装。本涂料使用时按粉水比为1:1.1~1.4的比例称取适量的水放入搅拌容器。开启搅拌容器后,分批量加入称取好的粉末涂料。本涂料制备成浆料后使用,具有悬浮性好、强度高、涂层均匀、触变性好、流平性好、表面光洁、无泡、无裂纹等优点。用户可以浸涂、挂涂、刷涂,涂料粘度变化视用户需要而定,不同的粘度可以得到不同的涂层厚度。

    POLQ抑制剂在治疗多发性骨髓瘤中的用途

    公开(公告)号:CN119236073A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411193985.4

    申请日:2024-08-28

    Abstract: 本发明属于生物医药技术领域,具体公开POLQ抑制剂在治疗多发性骨髓瘤中的用途。本公开涉及POLQ抑制剂在制备提升多发性骨髓瘤美法仑治疗敏感性的药物中的应用,及美法仑联合POLQ抑制剂在制备治疗多发性骨髓瘤的药物中的应用,以及包含美法仑和POLQ抑制剂的治疗多发性骨髓瘤的药物组合。还涉及检测POLQ表达水平的制剂在制备检测多发性骨髓瘤细胞抵抗美法仑杀伤效应的产品中的应用和高表达的POLQ在制备多发性骨髓瘤美法仑治疗抵抗的生物模型中的应用。本公开中POLQ抑制剂可以显著增强美法仑的治疗效果,从而避免了美法仑单独应用时疗效过度依赖于剂量的问题,也能够解决多发性骨髓瘤对美法仑单药反应不佳的问题,为多发性骨髓瘤联合治疗策略的开发提供了新思路。

    一种用于医疗检查辅助装置

    公开(公告)号:CN116807818A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310435059.2

    申请日:2023-04-21

    Inventor: 张波 陈剑英

    Abstract: 本发明涉及医疗器械技术领域,且公开了一种用于医疗检查辅助装置,包括底座装置,底座装置外表面一侧设置有支撑装置,底座装置包括底座板,底座板外表面一侧设置有辅助板,辅助板外表面一侧设置有装置箱,装置箱内部设置有装置管,装置管内部设置有升降杆,装置箱外表面一侧设置有转杆,转杆一端设置有螺纹杆,螺纹杆一端设置有活动板,装置箱内部设置有固定板。该发明,通过设置在底座装置内的转杆,当使得转杆转动时,使得活动板可以上下运动,且活动板外表面一侧与升降杆外表面一侧固定连接,从而使得活动板上下运动时,使得升降杆上下运动,从而使得该装置的使用高度被调节。

    一种胸部术后康复辅助设备

    公开(公告)号:CN115770179A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211500092.0

    申请日:2022-11-28

    Abstract: 本发明涉及一种胸部术后康复辅助设备,包括安装底座、储气囊、氧气供应囊和操作椅,所述安装底座的顶部设置有辅助吸氧按压装置,所述安装底座的内侧安装有两个限位底座和第二限位块,两个所述限位底座相对的一侧均连接有连接板,两个所述连接板的外侧均安装有支撑轮、固定块和踩踏板。该胸部术后康复辅助设备,通过驱动电机带动螺纹杆旋转,使其移动杆根据实际需求完成相对移动,使其操作椅能够适应不同人员体位,患者到位后,调节固定板的对应高度,使其缓冲气囊正对患者胸口,随后利用储气囊对其缓冲气囊进行不间断供气,实现反复按压,进而完成对胸部锻炼的目的,其装置适应能力强,能够根据不同人员完成相对操作。

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