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公开(公告)号:CN2594277Y
公开(公告)日:2003-12-24
申请号:CN03200996.8
申请日:2003-01-15
Applicant: 北京师范大学
IPC: C23C14/32
Abstract: 一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源,采用磁过滤方法传输真空弧产生的等离子体到视线外的真空室中,从而消除液滴或颗粒到达处理工件导致镀层缺陷。为了得到高质量的沉积薄膜,过滤器管道内壁有特殊的凹槽设计以防止液滴或颗粒的反射,过滤器可串联。过滤器管道上加正偏压以提高过滤器的等离子体传输效率。同时在过滤器管道出口附加桶形磁场等离子体均化器。本实用新型适用于高光洁度、高密度、良好的薄膜与基体结合等高质量快速沉积薄膜。
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公开(公告)号:CN2112891U
公开(公告)日:1992-08-12
申请号:CN91224854.8
申请日:1991-09-14
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种金属蒸汽真空弧离子源的新型阴极结构,触发电极的端面低于阴极和绝缘套的端面,绝缘套经过导电化处理,降低了触发电压,减少了金属蒸汽对绝缘套的污染,提高了触发次数和离子源工作的稳定性。由于采用了推进式阴极,使单个阴极的寿命延长了大约一个数量级。
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公开(公告)号:CN201478252U
公开(公告)日:2010-05-19
申请号:CN200920216016.0
申请日:2009-09-11
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种用于金属蒸汽真空弧离子源的加热式阴极。要点是采用电加热器加热阴极,同时采用导热性能差的材料制作底环,从而保证阴极处于合适的高温状态,温度由埋入底环内的热电偶测量。在工字形骨架上用电阻丝绕制电加热器,骨架的内径与阴极材料外径配合。阴极材料通过内压环和外压环固定在底环上,套上电加热器后再装配绝缘套和触发电极即可。电加热器和热电偶的引线选用合适的高温绝缘导线,并通过密封插座与离子源外的加热控制器连接,从而方便地进行温度测量和控制。由于阴极可以处于合适的高温状态,一些低温导电性差高温导电性好的材料和一些高熔点的材料可以用于金属蒸汽真空弧离子源,增加金属蒸汽真空弧离子源产生的离子种类。
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公开(公告)号:CN2122437U
公开(公告)日:1992-11-18
申请号:CN91224855.6
申请日:1991-09-14
Applicant: 北京师范大学
IPC: H01J37/317 , H01J37/302
Abstract: 一种多离子源强流离子注入装置,可以安装两个或两个以上金属蒸汽真空弧离子源或气体离子源,并以多工作模式进行注入,即产生至少一种元素的离子束,由人工或计算机控制,按一定的程序,改变离子束的能量、强度、注入时间和顺序,在工件表面一定的深度形成不同组分的合金或化合物,使工件表面性能,如耐磨、抗蚀、润滑等得到明显的改善。
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公开(公告)号:CN201089792Y
公开(公告)日:2008-07-23
申请号:CN200620139256.1
申请日:2006-09-08
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 一种利用金属离子注入进行材料表面改性处理的大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机。其特征在于至少一台强束流大束斑金属蒸汽真空弧离子源倾斜安装在真空大靶室的顶侧部,靶室内设计有多个水平布置、可灵活运动的靶盘。靶室内一次性可装入大量的待处理工件。靶盘的布置以尽量利用离子束为原则。进行离子注入加工的工件固定在多个水平分布的靶盘上,这些靶盘具有不同的直径和灵活的运动方式。适合处理多种形状的工件。通过调节靶盘在离子束照射下的运动方式,得到均匀的注入效果。
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