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公开(公告)号：CN108359942B
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN201810263024.4
申请日：2018-03-28
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开了一种类金刚石涂层的制备方法，包括以下步骤：S1：利用气体离子源对基体表面进行高低能交替清洗；S2：以碳靶为阴极，利用磁过滤沉积技术在所述基体上进行类金刚石涂层的沉积；该方法沉积速率高，成本低，能实现大批量生产；S3：利用激光器对类金刚石涂层进行表面刻蚀，刻蚀间隔为2‑10微米；S4：利用气体离子源对图形化类金刚石膜进行表面处理。采用该方法制备的涂层为四面体非晶形碳高sp3和低sp3含量交替变化结构；该涂层具备高耐磨损性能，比含氢类金刚石、高sp3含量类金刚石以及低sp3含量类金刚石具备更高的抗裂纹生长能力以及抗摩擦磨损性能。
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公开(公告)号：CN109097744A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201811090717.4
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京师范大学
IPC: C23C14/32
Abstract: 本发明公开了一种脉冲磁过滤装置，包括，脉冲阴极弧头、引出电极、聚焦直管、磁过滤管、栅网以及射频四级杆过滤器。通过实施本发明，到达镀膜工件表面的离子方向性好，同时离子的电荷态相同，非常适合单晶或多晶膜层的精细化调控生长，同时通过控制四级杆过滤器射频频率可方便实现不同价态离子膜层的选择性精确镀制。本发明的脉冲磁过滤装置在超细、超微芯片或者晶圆种晶制备方面有着广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN109082635A
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201811091114.6
申请日：2018-09-19
Applicant: 北京师范大学
IPC: C23C14/32
Abstract: 本发明公开了一种大面积脉冲磁过滤装置，该装置包括：脉冲阴极弧头、引出电极、聚焦直管、磁过滤管道以及扩展管道。通过实施本发明，离子束斑的形状发生明显的改变，由原来的圆形束斑变成长条形束斑，束斑尺寸最大可为60mm×260mm，大大提高了离子束斑的纵向宽度，在长条形部件表面处理时有着非常明显的优势。同时本发明的大面积脉冲磁过滤装置能够实现导电性差点阴极材料膜层的镀制。通过引出电极和聚焦电极的配合使用能使引出束流大大增加，同时在扩散管道和磁过滤管道线包电流的配合下能大幅展开离子束斑尺寸，在相同束流强度下能够大大增加阴极靶材的寿命。
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公开(公告)号：CN107249257A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201710638255.4
申请日：2017-07-31
Applicant: 北京师范大学
Abstract: 本发明公开了新型环保的IC载板制备方法，对基底清洗后在其表面进行离子注入表面金属化，通过两种方法进行用化学镀铜和电镀铜技术在注入层表面镀得铜层；在铜层上涂覆一层正/负性光刻胶，再利用掩模版并经过曝光、显影等处理得到电路图形；最后将芯片等元件装在载板上并封装，再把整个IC载板镶嵌在电路板上。本发明提供的方法中把电镀过程与电解过程组成一个循环，或者仅仅对电路图形部分注入和电镀，因此极大的减少了对环境的污染并提高了金属铜的利用率。同时高精密、小体积、超薄的IC载板的设计不仅优化了电路图形进一步提高了电路板整体性能，也由于陶瓷基板的平整光滑，从而很好的解决了芯片、电阻和电容等元件对基板平整性要求高的问题。
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