公开(公告)号：CN1167265A

公开(公告)日：1997-12-10

申请号：CN96113232.9

申请日：1996-07-12

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉川俊明 ,  龟山诚 ,  铃木博幸 ,  小佐野永人 ,  松久裕英 ,  岩田研逸

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02F1/133512 ,  C03C17/30 ,  C03C17/38 ,  C03C23/006 ,  G02F1/133516

Abstract: 本申请公开的是一种制造用于图象装置的彩色滤光器基板的方法，该基板通过在透明衬底上有选择地配置挡光元件和大量具有彼此不同的光谱特性的着色元件构成，其步骤包括在部分地方有挡光元件形成的基底上形成由硅烷偶合剂组成的防水层，将基底的表面暴露在氧等离子体下，并在基底的透明区域配置大量具有彼此不同的光谱特性的着色元件。

公开(公告)号：CN105847670A

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201610070018.8

申请日：2016-02-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小林诚治 ,  井崎优子 ,  龟山诚 ,  近藤一隆 ,  高桥智昭

IPC: H04N5/232 ,  G06F3/0481 ,  G06F3/0484 ,  G06F3/0488 ,  G09G5/38

Abstract: 本发明提供电子设备、摄像控制装置及其控制方法。所述电子设备根据用户操作设置多个对象中的哪一个要用来在设定画面上显示特定设定项目。所述多个对象包括第一对象和第二对象，所述第二对象的显示尺寸、要显示的信息量和能操作的设定值的类型的数量大于所述第一对象。在所述第一对象被显示在所述设定画面的情况下，所述电子设备根据对第一或第二操作构件中的一者的操作，来改变关于所述特定设定项目的第一设定值。在所述第二对象被显示在所述设定画面的情况下，所述电子设备根据对所述第一和第二操作构件的操作，来分别改变所述第一设定值和第二设定值。

公开(公告)号：CN102761690A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201210135039.5

申请日：2012-05-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 龟山诚 ,  吉田幸司

IPC: H04N5/225 ,  H04N5/235 ,  H04N5/238

CPC classification number: H04N5/23209 ,  H04N5/23212 ,  H04N5/35536

Abstract: 本发明提供一种摄像设备及其控制方法，其在多重曝光摄像操作中根据摄像条件进行与适当显示类型相对应的信息显示。该摄像设备包括：显示类型设置单元，用于将多个显示类型中的任一个设置为要与直通图像一起进行显示的信息显示用的显示类型；模式设置单元，用于设置多重曝光摄像模式；以及控制单元，用于当设置了多重曝光摄像模式且能够获取到要与直通图像进行多重合成的图像时，进行控制以将显示类型改变为多重曝光摄像模式专用的显示类型，其中多重曝光摄像模式专用的显示类型用于显示多重曝光摄像的预定图像数量、多重曝光摄像的完成图像数量、达到多重曝光摄像的预定图像数量的剩余图像数量以及表示设置了多重曝光摄像模式的图标至少之一。

公开(公告)号：CN1453391A

公开(公告)日：2003-11-05

申请号：CN03122058.4

申请日：2003-04-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 石仓淳理 ,  龟山诚 ,  斎藤康行

IPC: C23C14/30

CPC classification number: C23C14/228 ,  C23C14/325 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/483 ,  H05H2245/124

Abstract: 提供一种超微粒子膜制造装置及使用超微粒子的膜形成方法，使用电弧加热来形成超微粒子，无论是否施加电弧电压都可以将生成的超微粒子高效率地吸入到运送管中，获得稳定的膜。通过电弧加热进行蒸发，将构成超微粒子的蒸发材料(8)连接设置在一个电极上，同时作为另一个电极在前端区域设置多个带有放电部的棒(17)，配置各棒(17)，使得对蒸发材料(8)的方向分别朝向不同的方向。

公开(公告)号：CN1070434A

公开(公告)日：1993-03-31

申请号：CN92110361.1

申请日：1992-09-08

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 早川菜 ,  龟山诚 ,  寺田顺司 ,  铃木博幸

IPC: C23C14/24

Abstract: 一种真空蒸发设备，包括一真空容器，一蒸发源和一夹持装置。蒸发源位于真空容器内。一基片由位于蒸发源上方的夹持装置夹持。一防沉积板设置于设备内。真空容器由防沉积板划分成一包括蒸发源的部分和一包括夹持装置的部分。防沉积板带有位于蒸发源上方的孔。孔这样成型，即当从蒸发源看夹持装置时孔与夹持装置重叠。