公开(公告)号：CN101669195A

公开(公告)日：2010-03-10

申请号：CN200880012254.8

申请日：2008-05-09

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 堂浦真人 ,  广濑纯司 ,  中村贤治 ,  福田武司 ,  佐藤彰则

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供制造能够防止漏浆、并且光学检测精度优良的研磨垫的方法。本发明的研磨垫制造方法，包括：在研磨层的研磨背面一侧形成用于注入光透过区域形成材料的沟的工序；通过在所述沟内注入光透过区域形成材料并使其固化而形成光透过区域的工序；和通过对研磨层的研磨表面一侧进行抛光而使所述光透过区域在研磨表面露出的工序。

公开(公告)号：CN106165187B

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：CN201480077667.X

申请日：2014-11-27

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  重藤纯一

IPC: H01M10/48 ,  H01M2/10

Abstract: 本发明的密闭型二次电池用变形检测传感器为用于密闭型二次电池的单电池、电池模块或电池组的密闭型二次电池用变形检测传感器，其具有贴附于单电池、电池模块的磁性树脂层，和能够检测由该磁性树脂层造成的磁场变化而安装于外装容器的内壁或外壁的磁传感器，该磁性树脂层由磁性填料分散于高分子基质而成。能够提供能以更高的灵敏度检测密闭型二次电池的膨胀而可以得到稳定的检测特性的变形检测传感器。

公开(公告)号：CN104919271A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201380070432.3

申请日：2013-11-27

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 重藤纯一 ,  福田武司 ,  安西弘行 ,  罗志伟

IPC: G01B7/24 ,  C08G18/00 ,  C08G18/10 ,  G01L1/12 ,  C08G101/00

CPC classification number: C08J9/0014 ,  B29C44/02 ,  C08G18/10 ,  C08G2101/00 ,  C08J9/0061 ,  C08J9/0066 ,  C08J9/0095 ,  C08J9/30 ,  C08J2201/022 ,  C08J2205/06 ,  C08J2207/00 ,  C08J2375/08 ,  G01D5/12 ,  G01L1/12 ,  G01L1/122

Abstract: 本发明提供比以往的传感器更轻质化、更柔韧，并且灵敏度和精确度提高的传感器及其制造方法。本发明涉及一种传感器，所述传感器包括含有磁性填料的树脂泡沫和检测由树脂泡沫的变形引起的磁场变化的磁性传感器，其中该树脂泡沫为含有多异氰酸酯成分、活性氢成分、催化剂和泡沫稳定剂的聚氨酯树脂泡沫，该树脂泡沫在与硬度计的加压面接触后一秒后的JIS-C硬度(H1)和60秒后的JIS-C硬度(H60)的硬度变化(H1-H60)为0至10。

公开(公告)号：CN102227289B

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN200980148107.8

申请日：2009-12-24

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  石坂信吉

IPC: B24B37/24 ,  B24D18/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  Y10T428/249978

Abstract: 本发明的目的在于提供研磨速度大、并且至研磨速度稳定为止的时间短、进而厚度精度优良的研磨垫。一种研磨垫，在基材层上设置有研磨层，其特征在于，所述研磨层由具有平均气泡直径为35～200μm的近似球形的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体形成，所述研磨层，40℃下的储能弹性模量E’(40℃)为130～400MPa，30℃下的储能弹性模量E’(30℃)与60℃下的储能弹性模量E’(60℃)之比[E’(30℃)/E’(60℃)]为1以上且小于2.5，并且30℃下的储能弹性模量E’(30℃)与90℃下的储能弹性模量E’(90℃)之比[E’(30℃)/E’(90℃)]为15～130。

公开(公告)号：CN101952943B

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN200980106103.3

申请日：2009-02-26

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 广濑纯司 ,  福田武司

IPC: B24B37/00 ,  C08G18/65 ,  C08G101/00

CPC classification number: B24B37/24 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/4018 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6607 ,  C08G18/6611 ,  C08G18/664 ,  C08G18/6644 ,  C08G18/6677 ,  C08G18/797 ,  C08G2101/00 ,  C08L83/00 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/249975 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/31551

Abstract: 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨速度的稳定性优良的研磨垫。本发明涉及一种研磨垫，在基材层上设置有研磨层，其特征在于，所述研磨层由热固性聚氨酯发泡体形成，所述热固性聚氨酯发泡体包含具有开口的近似球形的连续气泡，而且含有异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物作为原料成分，所述异氰酸酯成分含有二苯基甲烷二异氰酸酯和/或其改性物90重量％以上，所述含活性氢基团的化合物含有聚己内酯多元醇60～98重量％、以及与异氰酸酯基反应的官能团数为3的化合物15～40重量％，且相对于异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物的总量的异氰酸酯基浓度为10～15重量％，所述研磨层的干燥状态的压缩率A与湿润状态的压缩率B的变化率[{(B-A)/A}×100]的绝对值为100以下。

公开(公告)号：CN102227289A

公开(公告)日：2011-10-26

申请号：CN200980148107.8

申请日：2009-12-24

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  石坂信吉

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  Y10T428/249978

Abstract: 本发明的目的在于提供研磨速度大、并且至研磨速度稳定为止的时间短、进而厚度精度优良的研磨垫。一种研磨垫，在基材层上设置有研磨层，其特征在于，所述研磨层由具有平均气泡直径为35～200μm的近似球形的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体形成，所述研磨层，40℃下的储能弹性模量E’(40℃)为130～400MPa，30℃下的储能弹性模量E’(30℃)与60℃下的储能弹性模量E’(60℃)之比[E’(30℃)/E’(60℃)]为1以上且小于2.5，并且30℃下的储能弹性模量E’(30℃)与90℃下的储能弹性模量E’(90℃)之比[E’(30℃)/E’(90℃)]为15～130。

公开(公告)号：CN101583464B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200780049906.0

申请日：2007-11-27

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  广濑纯司 ,  中村贤治 ,  堂浦真人 ,  佐藤彰则

IPC: B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨层与基材层的粘合性良好的研磨垫。本发明的第一发明是在基材层上设置研磨层的研磨垫，其特征在于，所述研磨层包含具有平均气泡直径20～300μm的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体，所述聚氨酯发泡体含有异氰酸酯成分和含活性氢化合物作为原料成分，所述含活性氢化合物含有30～85重量％官能团数2～4、羟值20～100mg KOH/g的高分子量多元醇。

公开(公告)号：CN101511536A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033122.9

申请日：2007-04-23

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  丸山觉史 ,  广濑纯司 ,  中村贤治 ,  堂浦真人

IPC: B24B37/00 ,  C08G18/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: C08G18/4277 ,  B24B37/24 ,  B24D3/26 ,  B24D11/001 ,  C08G18/4072 ,  C08G18/632 ,  C08G18/6607 ,  C08G2101/00 ,  C08G2101/0008

Abstract: 本发明的目的在于提供能廉价且容易地制造耐久性优异的抛光垫的方法。本发明的抛光垫的制造方法包括：利用机械发泡法制备气泡分散聚氨酯组合物的工序；在基材层上涂布气泡分散聚氨酯组合物的工序；使气泡分散聚氨酯组合物固化而形成具有近似球状的连续气泡的聚氨酯发泡层的工序；以及将聚氨酯发泡层的厚度调节至均匀的工序。

公开(公告)号：CN101448607A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200780017994.6

申请日：2007-05-15

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  广濑纯司 ,  中井良之 ,  木村毅

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供在宽波长范围(特别是短波长侧)内光学检测精度优良的抛光垫。另外，本发明的目的在于提供包括使用该抛光垫对半导体晶片的表面进行抛光的工序的半导体器件制造方法。一种抛光垫，具有包含抛光区域和光透过区域的抛光层，其特征在于，所述光透过区域由芳环浓度为2重量％以下的聚氨酯树脂形成，并且所述光透过区域的光透过率在波长300～400nm的整个范围内为30％以上。

公开(公告)号：CN101223016A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200680025943.3

申请日：2006-07-07

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 广濑纯司 ,  福田武司

IPC: B29C39/12 ,  B24B37/04 ,  B29C67/20 ,  B32B5/20 ,  C08G18/40 ,  C08J9/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/683 ,  B29K75/00

CPC classification number: B29C44/06 ,  B32B5/022 ,  B32B5/20 ,  B32B5/245 ,  B32B7/12 ,  B32B27/065 ,  B32B27/12 ,  B32B27/36 ,  B32B2262/0246 ,  B32B2266/0278 ,  B32B2266/06 ,  B32B2307/724 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/14 ,  B32B2551/00 ,  B32B2551/08 ,  C08G18/12 ,  C08G18/4072 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6564 ,  C08G18/6607 ,  C08G2101/00 ,  C08G2101/0008 ,  C08J9/30 ,  C08J2375/04 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2924/01012 ,  Y10T428/249975 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/249991 ,  C08G18/3206

Abstract: 第1发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高的层叠片的方法。第2发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片的方法。第3发明的目的在于提供保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片及其制造方法。第4发明的目的在于提供被研磨材料的吸附性优异且耐久性优异的层叠片。本发明的层叠片包括基材片和聚氨酯发泡层。