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公开(公告)号：CN1309028C
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN02827916.6
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67109 , C23C16/46
Abstract: 本发明提供容易进行加热元件的更换等的维护操作，谋求提高维护性的立式热处理装置，其特征为，配备以下部件：即收容多个被处理体(W)、用于热处理的处理容器(4)，和覆盖该处理容器(4)周围的筒状加热器(6)，和设置该加热器6的加热器设置部(7)，和从一侧可维护地收容所述加热器(6)的筐体(11)，所述加热器(6)可单个更换地具有多个加热元件(31)，在所述加热器设置部(7)上设置可旋转地支持加热器6的旋转支持机构(40)。
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公开(公告)号：CN116581053A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310094499.6
申请日：2023-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 提供一种能够将具有多个批量处理部的基板处理装置的设置面积设定为较小,并且能够容易地实施批量处理部的维护的技术。本发明的一个方式的基板处理装置包括:运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧面；基板输送部,其沿与上述第二侧面正交的第一方向延伸；以及多个批量处理部,其沿上述基板输送部的长度方向相邻,上述多个批量处理部分别具有:处理容器,其容纳多个上述基板而进行处理；气体供给单元,其向上述处理容器内供给气体；以排气单元,其对上述处理容器内的气体进行排气,上述气体供给单元以及上述排气单元设于上述处理容器的相同侧。
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公开(公告)号：CN111430269A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010027599.3
申请日：2020-01-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 门部雅人
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一方案的处理装置包括：处理部，其包含：多个加工模块，其在第1室相连地配置；以及装载模块，其配置于所述第1室，用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块处理的基板；以及多个泵单元，其在与所述第1室相邻的第2室，与所述多个加工模块一一对应地配置，所述多个泵单元的设置面积为所述处理部的设置面积以下。
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公开(公告)号：CN111430268A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010026896.6
申请日：2020-01-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括：多个加工模块，其相连地配置；以及装载模块，其用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板，所述多个加工模块均具有：热处理单元，其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器；以及气体供给单元，其配置于所述热处理单元的一侧面，并向所述处理容器内供给气体。
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公开(公告)号：CN108231625A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711384007.8
申请日：2017-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。本发明提供不吹送冷却气体就能够缩短晶圆的冷却时间的基板处理装置和基板的冷却方法。具有：处理容器；基板保持器具，其保持多个基板，被装载于所述处理容器和从所述处理容器卸载；以及吸气管道，其具备吸气口，该吸气管道与处于从所述处理容器卸载后的卸载位置处的所述基板保持器具的周围相向地配置，其中，所述吸气管道具有构成所述吸气管道的主体的固定管道部和容纳于所述固定管道部并构成所述吸气口的可动管道部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117878031A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202311254699.X
申请日：2023-09-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板处理装置。提供一种能够在不使输送装置大型化的情况下增加盒的保管量的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备：送入送出部，其具有供收容有基板的容器送入送出的第1侧面和与第1侧面相反的一侧的第2侧面；基板输送部，其沿着与第2侧面正交的第1方向延伸；以及多个批量处理部，它们沿着基板输送部的长度方向相邻，送入送出部具有：第1输送装置和第2输送装置，它们能够输送容器；第1区域，第1输送装置可相对于第1区域进行交接，第1区域包含保管容器的多个第1保管搁板；第2区域，第2输送装置可相对于第2区域进行交接，第2区域包含保管容器的多个第2保管搁板；以及可动搁板，其能够在第1区域与第2区域之间移动。
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公开(公告)号：CN111430268B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202010026896.6
申请日：2020-01-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及处理装置。提供一种能够减少具有多个加工模块的处理装置的占用面积的技术。本公开的一技术方案的处理装置包括：多个加工模块，其相连地配置；以及装载模块，其用于收容载体，该载体收纳利用所述多个加工模块进行处理的基板，所述多个加工模块均具有：热处理单元，其包含收容多张基板并进行热处理的处理容器；以及气体供给单元，其配置于所述热处理单元的一侧面，并向所述处理容器内供给气体。
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公开(公告)号：CN116581054A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310118747.6
申请日：2023-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 提供一种能够将具有多个批量处理部的基板处理装置的设置面积设定为较小,并且能够容易地实施批量处理部的维护的技术。本发明的一个方式的基板处理装置包括:运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧面；基板输送部,其沿与上述第二侧面正交的第一水平方向延伸；以及多个批量处理部,其沿上述基板输送部的长度方向相邻,上述多个批量处理部分别具有:处理容器,其容纳多个上述基板而进行处理；气体供给单元,其向上述处理容器内供给气体；以排气单元,其对上述处理容器内的气体进行排气,在上述排气单元的上方,设置用于进行上述多个批量处理部的维护的第一维护区域。
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公开(公告)号：CN108231625B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201711384007.8
申请日：2017-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。本发明提供不吹送冷却气体就能够缩短晶圆的冷却时间的基板处理装置和基板的冷却方法。具有：处理容器；基板保持器具，其保持多个基板，被装载于所述处理容器和从所述处理容器卸载；以及吸气管道，其具备吸气口，该吸气管道与处于从所述处理容器卸载后的卸载位置处的所述基板保持器具的周围相向地配置，其中，所述吸气管道具有构成所述吸气管道的主体的固定管道部和容纳于所述固定管道部并构成所述吸气口的可动管道部。
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公开(公告)号：CN115132611A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210264760.8
申请日：2022-03-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开提供一种能够将多个配管的传导性设为一定并且改善占地面积效率性的配管构造和处理装置。一种配管构造，其将在第1室相邻配置的多个处理组件和在位于所述第1室的下层的第2室配置、并与所述多个处理组件对应地设置的多个真空泵连接，其中，该配管构造具有多个配管，该多个配管将所述多个处理组件和与所述多个处理组件对应设置的所述多个真空泵分别连接，所述多个配管在高度方向上分割成多个模块，在相同高度的模块中使用的所述多个配管具有相同形状。
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