公开(公告)号：CN108335998A

公开(公告)日：2018-07-27

申请号：CN201810050019.5

申请日：2018-01-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长谷川孝祐 ,  阿部智昭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/02

Abstract: 能使装到基板保持器具的基板效率良好冷却的基板处理装置和基板的冷却方法。基板处理装置有：处理容器，其底面开口；基板保持器具，其水平保持多张基板并有预定间隔且能在铅垂方向上装载；升降机构，其使基板保持器具升降，能从开口使基板保持器具自处理容器卸载；多个进气管道，其与在卸载后状态下基板保持器具周围相对配置，以预定的多个高度区域分割基板保持器具的高度范围；至少1个排气部件，其与多个进气管道中至少两个共通连通；多个阀，其能单独开闭排气部件和多个进气管道的连通；控制部件，在使基板保持器具下降而从处理容器卸载时，使与多个进气管道相对应的多个阀与基板保持器具的下降联动而以从上到下的顺序从闭依次变成开。

公开(公告)号：CN108231625A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201711384007.8

申请日：2017-12-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 阿部智昭 ,  长谷川孝祐 ,  门部雅人

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。本发明提供不吹送冷却气体就能够缩短晶圆的冷却时间的基板处理装置和基板的冷却方法。具有：处理容器；基板保持器具，其保持多个基板，被装载于所述处理容器和从所述处理容器卸载；以及吸气管道，其具备吸气口，该吸气管道与处于从所述处理容器卸载后的卸载位置处的所述基板保持器具的周围相向地配置，其中，所述吸气管道具有构成所述吸气管道的主体的固定管道部和容纳于所述固定管道部并构成所述吸气口的可动管道部。

公开(公告)号：CN108335998B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201810050019.5

申请日：2018-01-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长谷川孝祐 ,  阿部智昭

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 能使装到基板保持器具的基板效率良好冷却的基板处理装置和基板的冷却方法。基板处理装置有：处理容器，其底面开口；基板保持器具，其水平保持多张基板并有预定间隔且能在铅垂方向上装载；升降机构，其使基板保持器具升降，能从开口使基板保持器具自处理容器卸载；多个进气管道，其与在卸载后状态下基板保持器具周围相对配置，以预定的多个高度区域分割基板保持器具的高度范围；至少1个排气部件，其与多个进气管道中至少两个共通连通；多个阀，其能单独开闭排气部件和多个进气管道的连通；控制部件，在使基板保持器具下降而从处理容器卸载时，使与多个进气管道相对应的多个阀与基板保持器具的下降联动而以从上到下的顺序从闭依次变成开。

公开(公告)号：CN108231625B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201711384007.8

申请日：2017-12-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 阿部智昭 ,  长谷川孝祐 ,  门部雅人

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。本发明提供不吹送冷却气体就能够缩短晶圆的冷却时间的基板处理装置和基板的冷却方法。具有：处理容器；基板保持器具，其保持多个基板，被装载于所述处理容器和从所述处理容器卸载；以及吸气管道，其具备吸气口，该吸气管道与处于从所述处理容器卸载后的卸载位置处的所述基板保持器具的周围相向地配置，其中，所述吸气管道具有构成所述吸气管道的主体的固定管道部和容纳于所述固定管道部并构成所述吸气口的可动管道部。