公开(公告)号：CN108022861A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201711066490.5

申请日：2017-11-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 五师源太郎 ,  江头佳祐 ,  川渕洋介 ,  清濑浩巳 ,  增住拓朗 ,  大野广基 ,  束野宪人 ,  丸本洋 ,  北山将太郎

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67034 ,  B01J3/008 ,  B01J3/06 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。防止处于图案的凹部内的液体在被置换为超临界状态的处理流体之前蒸发。包括以下工序：升压工序，将表面附着有液体的基板容纳于处理容器后向处理容器供给被加压后的处理流体，来使处理容器内的压力上升至比处理流体的临界压力高的处理压力；流通工序，在处理容器内至少维持使处理流体维持超临界状态的压力，并一边向处理容器供给处理流体一边从处理容器排出处理流体。在升压工序中，停止从第二流体供给部供给所述处理流体，从第一流体供给部向处理容器内供给处理流体，直到至少处理容器内的压力达到处理流体的临界压力为止。在流通工序中，从第二流体供给部向处理容器内供给处理流体。