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公开(公告)号：CN115279549A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202180021045.5
申请日：2021-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 去除加工装置具有台、多个卡盘、喷嘴以及台罩。所述台水平地配置，并以铅垂的旋转中心线为中心旋转。多个所述卡盘绕所述台的旋转中心线空开间隔地配置。所述喷嘴对由所述卡盘保持着的基板供给加工液。所述台罩在所述台的上方承接所述加工液。所述台罩具有越远离所述台的旋转中心线高度越低、且在所述台的旋转方向上高度一定的圆锥形状的倾斜部。
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公开(公告)号：CN112602173A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201980053516.3
申请日：2019-07-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 児玉宗久
IPC: H01L21/304 , B08B1/04 , B24B7/04 , B24B41/047 , H01L21/677
Abstract: 一种基板处理系统，该基板处理系统包括：第1主表面磨削装置，其以使基板的第1主表面朝上的方式自下方保持所述基板，并且磨削所述基板的所述第1主表面；第1反转装置，其使利用所述第1主表面磨削装置磨削后的所述基板上下反转；以及第2主表面磨削装置，其以使所述基板的第2主表面朝上的方式自下方保持所述基板的磨削后的所述第1主表面，并且磨削所述基板的所述第2主表面。
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公开(公告)号：CN115279549B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202180021045.5
申请日：2021-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 去除加工装置具有台、多个卡盘、喷嘴以及台罩。所述台水平地配置，并以铅垂的旋转中心线为中心旋转。多个所述卡盘绕所述台的旋转中心线空开间隔地配置。所述喷嘴对由所述卡盘保持着的基板供给加工液。所述台罩在所述台的上方承接所述加工液。所述台罩具有越远离所述台的旋转中心线高度越低、且在所述台的旋转方向上高度一定的圆锥形状的倾斜部。
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公开(公告)号：CN108962809B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN201810515992.X
申请日：2018-05-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置以及基板保持部的制造方法，能够高效地进行伴随紫外线处理的基板处理。所述基板处理装置具有：第一保持部，其保持被处理基板(W)；第二保持部，其与第一保持部相向配置，并对支承基板(S)进行静电吸附来保持支承基板(S)；以及紫外线照射部，其对设置在被第一保持部保持的被处理基板(W)与被第二保持部保持的支持基板(S)之间的粘接剂(G)照射紫外线。支承基板(S)和第二保持部分别由透过紫外线的材料构成。在第二保持部的内部设置有用于对支承基板(S)进行静电吸附的电极。在第二保持部的内部中的比电极靠支承基板(S)侧的位置形成有用于使紫外线的透过方向扩散的扩散层。
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公开(公告)号：CN115621153A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210757085.2
申请日：2022-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , B08B1/04 , B08B1/00
Abstract: 本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种使用清洗刷均匀地清洗卡盘的吸附面的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附面接触。在自与所述吸附面正交的方向观察时，由在第1方向上空开间隔地排列的多个所述接触部构成的列在与所述第1方向相交的第2方向上空开间隔地设有多个。所述第2方向是所述刷台的长度方向。所述清洗刷具备摆动部。所述摆动部以各所述接触部在所述卡盘的径向上的移动距离为相邻的两个所述列之间的所述第2方向上的间隔以上的方式使所述刷台摆动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114096379A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202080050049.1
申请日：2020-07-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B24B7/06 , B24B7/22 , B24B27/00 , B24B41/06 , B24B47/12 , B24B47/22 , B24B49/12 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 一种基板加工装置，其具有：一对第1基板卡盘，其以基板的第1主表面朝上的状态从下方保持基板；一对第2基板卡盘，其以基板的与第1主表面相反的一侧的第2主表面朝上的状态从下方保持基板；旋转台，其将一个所述第1基板卡盘、一个所述第2基板卡盘、另一个所述第1基板卡盘、以及另一个所述第2基板卡盘依次等间隔地保持在铅垂的旋转轴线的周围，该旋转台绕所述旋转轴线旋转；第1加工单元，其安装对由所述第1基板卡盘保持着的状态的基板的第1主表面进行加工的第1加工工具；以及第2加工单元，其安装对由所述第2基板卡盘保持着的状态的基板的第2主表面进行加工的第2加工工具。
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公开(公告)号：CN111656494A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN201980010636.5
申请日：2019-01-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 児玉宗久
IPC: H01L21/304 , B24B7/00 , B24B37/10 , H01L21/677
Abstract: 一种基板处理系统，其用于处理基板，该基板处理系统具有：送入送出部，在其与外部之间送入送出基板；加工部，其用于加工基板的加工面；清洗部，其在俯视时设于所述送入送出部和所述加工部之间，该清洗部对被所述加工部加工后的基板的加工面进行清洗；第1输送部，其与所述清洗部层叠地设置，该第1输送部用于输送基板；以及第2输送部，其在俯视时设于所述加工部和所述第1输送部之间，该第2输送部用于输送基板，所述第1输送部在所述送入送出部和所述第2输送部之间输送基板，所述第2输送部在所述第1输送部和所述加工部之间输送基板，且在所述加工部和所述清洗部之间输送基板。
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公开(公告)号：CN111052313A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880050347.3
申请日：2018-08-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/301 , B65G49/07 , H01L21/304 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 基板处理方法具有：加工工序，自基板的与粘贴有保护带的第1主表面相反的一侧的第2主表面侧对所述基板进行加工；以及输送工序，将能够利用静电吸附力进行吸附的静电支承件安装于在加工工序中进行了加工的基板并进行输送。以将静电支承件安装于施加了加工后的基板的状态对其进行输送，因此，能够利用静电支承件针对基板的脆弱性进行加强，能够良好地防止输送时的基板的变形、破损。
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公开(公告)号：CN110809816A
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201880043516.0
申请日：2018-07-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B7/04 , B24B49/12
Abstract: 磨削基板的磨削装置具有：基板保持部，其保持基板；和环状的磨削部，其与保持到所述基板保持部的基板的至少中心部以及周缘部抵接，并磨削该基板，所述基板保持部和所述磨削部分别设置有多个，多个所述磨削部中的、至少一个磨削部的直径与其他磨削部的直径不同。
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公开(公告)号：CN110718495A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910628978.5
申请日：2019-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种接合装置和接合方法，能够在将基板彼此接合的接合装置中抑制基板间的位置偏离。基于本公开的接合装置具备第一保持部、第二保持部、摄像单元以及移动机构。第一保持部保持第一基板。第二保持部与第一保持部相向地配置，用于保持与第一基板接合的第二基板。摄像单元包括：第一摄像部，其拍摄在第一基板的与第二基板相向的面形成的第一对准标记；以及第二摄像部，其拍摄在第二基板的与第一基板相向的面形成的第二对准标记。移动机构使摄像单元在第一保持部与第二保持部之间的平面区域内沿第一方向以及与第一方向交叉的第二方向移动。
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