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公开(公告)号：CN115621153A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210757085.2
申请日：2022-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , B08B1/04 , B08B1/00
Abstract: 本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种使用清洗刷均匀地清洗卡盘的吸附面的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附面接触。在自与所述吸附面正交的方向观察时，由在第1方向上空开间隔地排列的多个所述接触部构成的列在与所述第1方向相交的第2方向上空开间隔地设有多个。所述第2方向是所述刷台的长度方向。所述清洗刷具备摆动部。所述摆动部以各所述接触部在所述卡盘的径向上的移动距离为相邻的两个所述列之间的所述第2方向上的间隔以上的方式使所述刷台摆动。
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公开(公告)号：CN115151378A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016713.5
申请日：2021-02-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 若松孝彬
Abstract: 磨削装置具有旋转台、卡盘、旋转驱动部、磨削位置罩、清洗部和装卸位置罩。所述旋转台是以铅垂的旋转中心线为中心旋转的水平的旋转台。所述卡盘绕所述旋转台的旋转中心线以等间隔配置有多个。所述旋转驱动部使所述卡盘在装卸位置与磨削位置之间移动。所述磨削位置罩覆盖所述磨削位置的上方和侧方。所述清洗部在所述装卸位置对所述卡盘或所述基板供给清洗液。所述装卸位置罩覆盖所述装卸位置的上方和侧方。所述装卸位置罩在侧面具有所述基板的输送口，在内部收纳所述卡盘和所述清洗部。
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公开(公告)号：CN115052712A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202180012578.7
申请日：2021-02-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 若松孝彬
IPC: B23Q11/00 , B24B7/00 , B24B55/06 , B23Q11/08 , H01L21/304
Abstract: 一种加工装置，其具有：卡盘，其保持基板；可动部，其供加工所述基板的加工工具安装；喷洒器，其自所述可动部的外部喷洒对所述可动部进行清洗的清洗液；以及壳体，其收纳所述卡盘、所述加工工具和所述喷洒器。所述喷洒器具有：固定部，其固定于所述壳体的内部；以及旋转部，其旋转自如地支承于所述固定部。所述旋转部包括：喷嘴，其喷射所述清洗液；以及旋转块，其保持所述喷嘴。
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公开(公告)号：CN114946013A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202180008697.5
申请日：2021-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 若松孝彬
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，其对基板进行处理，其中，该基板处理装置具有：基板输送机构，其保持所述基板的一面并进行输送；以及清洗机构，其设于所述基板输送机构输送所述基板的输送路径的下方，对所述基板的另一面进行清洗，所述清洗机构具有：吸水性辊，其构成为利用驱动机构旋转自如，至少在周面的表层具备吸水层；清洗液喷嘴，其向所述吸水性辊供给清洗液；以及挤压辊，其在所述吸水性辊的旋转方向上设于比所述清洗液喷嘴靠下游侧的位置，构成为相对于所述吸水性辊在接近远离方向上移动自如，通过使所述吸水性辊与所述基板的另一面接触，从而对所述基板的另一面进行清洗。
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公开(公告)号：CN119816397A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202380063279.5
申请日：2023-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B24B55/06 , B23Q11/00 , B24B7/04 , H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板；驱动机构，其驱动对保持于所述基板保持部的所述基板进行加工的工具；壳体，其容纳所述基板保持部和所述工具；以及喷雾器，其向所述壳体的内部呈雾状喷出液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119422239A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380049662.5
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , B24B41/06 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备：基板吸附部，其对基板进行吸附；供给部，其向所述基板吸附部的内部供给流体；吸引部，其从所述基板吸附部的内部吸引流体；第一搬送部，其从与所述基板吸附部相反的一侧保持所述基板；以及控制部，其控制所述供给部、所述吸引部以及所述第一搬送部。所述控制部进行以下控制：利用所述第一搬送部从与所述基板吸附部相反的一侧保持由所述基板吸附部吸附了的所述基板；向所述基板吸附部的内部供给液体；通过使所述第一搬送部移动设定距离，来使所述基板从所述基板吸附部分离设定距离；以及在使所述基板从所述基板吸附部分离了设定距离的状态下，将残留于所述基板吸附部与所述基板之间的所述液体吸引到所述基板吸附部的内部。
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公开(公告)号：CN115052712B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202180012578.7
申请日：2021-02-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 若松孝彬
IPC: B23Q11/00 , B24B7/00 , B24B55/06 , B23Q11/08 , H01L21/304
Abstract: 一种加工装置，其具有：卡盘，其保持基板；可动部，其供加工所述基板的加工工具安装；喷洒器，其自所述可动部的外部喷洒对所述可动部进行清洗的清洗液；以及壳体，其收纳所述卡盘、所述加工工具和所述喷洒器。所述喷洒器具有：固定部，其固定于所述壳体的内部；以及旋转部，其旋转自如地支承于所述固定部。所述旋转部包括：喷嘴，其喷射所述清洗液；以及旋转块，其保持所述喷嘴。
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公开(公告)号：CN115621155A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210759850.4
申请日：2022-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , B08B1/04 , B08B1/00
Abstract: 本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种提高清洗刷对微粒的去除效率的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附面接触。在自与所述吸附面正交的方向观察时，由在第1方向上空开间隔地排列的多个所述接触部构成的列在与所述第1方向相交的第2方向上空开间隔地设有多个。所述第2方向是所述刷台的长度方向。在各所述列中，至少两个所述接触部的种类不同。
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公开(公告)号：CN115621154A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202210757095.6
申请日：2022-06-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/683 , B08B1/04 , B08B1/00
Abstract: 本发明涉及清洗刷、基板加工装置以及基板加工方法。提供一种抑制清洗刷妨碍清洗液的排出的技术。清洗刷对卡盘的吸附面进行清洗。所述清洗刷具备：刷台，其自所述卡盘的旋转中心线向径向外侧呈直线状延伸；以及多个接触部，其自所述刷台突出，并与所述吸附面接触。在自与所述吸附面正交的方向观察时，由在第1方向上空开间隔地排列的多个所述接触部构成的列在与所述第1方向相交的第2方向上空开间隔地设有多个。所述第2方向是所述刷台的长度方向。所述第1方向是与所述第2方向倾斜地相交的方向，且是越自所述卡盘的旋转方向上游侧去向旋转方向下游侧越自所述卡盘的径向内侧向径向外侧倾斜的方向。
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公开(公告)号：CN220971725U
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202322386022.3
申请日：2023-09-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及基板处理装置，提供一种抑制主轴罩的内部空间的污垢的附着的技术。基板处理装置具备驱动机构，该驱动机构用于驱动对基板进行加工的工具。所述驱动机构具备马达、利用所述马达进行旋转的铅垂的主轴、包围所述主轴的主轴罩。所述主轴罩具备：第1圆筒部，其包围所述主轴；第2圆筒部，其包围所述第1圆筒部；以及环状的顶板部，其自上方堵塞形成于所述第1圆筒部与所述第2圆筒部之间的内部空间。在所述顶板部或所述第2圆筒部的上部设有用于自所述主轴罩的外部空间向所述内部空间吸入气体的吸入口。
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