减压干燥装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102074456A

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN201010516316.8

    申请日:2010-10-18

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置,通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出,在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承,并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内,利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且,在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100),能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。

    涂敷装置和涂敷方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108372079B

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN201810100699.7

    申请日:2018-02-01

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制质量测量器的破损的涂敷装置。在基片上描绘功能液的描绘图案的涂敷装置,其包括:保持上述基片的基片保持部;液滴排出部,其向保持于上述基片保持部的上述基片排出上述功能液的液滴;移动部,其使上述基片保持部与上述液滴排出部在主扫描方向和副扫描方向相对地移动,质量测量部,其包含接收由上述液滴排出部排出的液滴的杯和对存积在上述杯的内部的上述功能液的质量进行测量的质量测量器;和排液部,其将存积在上述杯的内部的上述功能液从上述杯排出。

    液滴释放装置和位置调整方法
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113909041A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202110726624.1

    申请日:2021-06-29

    Abstract: 本发明涉及液滴释放装置和位置调整方法,其在液滴释放装置中进行头部的位置调整。本发明的液滴释放装置包括释放单元、运送单元和调整单元。释放单元具有:形成有多个开口部的承载器;多个头部,其以覆盖开口部的方式设置在承载器,能够释放功能液的液滴;和能够相对于承载器对头部进行固定和固定解除的多个固定部。运送单元配置在释放单元的下方,沿水平方向运送基片。调整单元从释放单元的下方访问以调整头部的位置。

    减压干燥装置和减压干燥方法

    公开(公告)号:CN102012643A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN201010277683.7

    申请日:2010-09-07

    Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法,能够在对被处理基板上的涂敷膜迅速地进行减压干燥处理的工艺和缓慢地进行减压干燥处理的工艺之间有选择性地进行切换。在该减压干燥单元(214)中,气流控制部(260)包括:位于下部腔室(224)的沿Y方向相对的侧壁224(2)、224(4)的内侧、并配置在载置台(230)的两侧的第一分隔板(262A、262B);使该第一分隔板(262A、262B)在第一高度位置和第二高度位置之间升降移动的第一升降机构(264)。而且,气流控制部(260)包括:配置在载置台(230)的周围或旁边的、横截面呈コ字状的第二分隔板(276);使该第二分隔板(276)在第三高度位置和第四高度位置之间升降移动的第二升降机构(278)。

    基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法

    公开(公告)号:CN101431008B

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN200810174786.3

    申请日:2008-11-05

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法,其特征在于:在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R),具有:分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R);沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R);使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。

    液滴释放装置
    17.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217411165U

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN202220582362.6

    申请日:2022-03-17

    Inventor: 三根阳介

    Abstract: 本实用新型的液滴释放装置能够稳定地进行液滴的释放状态的检查。液滴释放装置包括输送机构、多个释放头、检查台、介质输送部和拍摄部。输送机构沿着输送方向输送工件。多个释放头对工件释放功能液的液滴。检查台吸附检查用介质,该检查用介质接收从多个释放头释放的检查用的液滴。介质输送部在与输送方向正交的方向上输送检查用介质。拍摄部拍摄被释放到检查用介质的液滴。检查台具有多个第一分割台和多个第二分割台。多个第一分割台沿着正交的方向彼此连结。多个第二分割台相对于多个第一分割台在输送方向上相邻地配置,且沿着正交的方向彼此连结,多个第二分割台的接缝位于与多个第一分割台的接缝在输送方向上不重叠的位置。

    处理用载体基板
    18.
    外观设计

    公开(公告)号:CN309218158S

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202430460051.7

    申请日:2024-07-23

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:处理用载体基板。
    2.本外观设计产品的用途:本产品是用于承载例如多个芯片、半导体晶圆、玻璃基板等的载体。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:参考图3以及A部放大参考图中斜线所表示的部分是透明的。

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