-
公开(公告)号：CN106311524A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610514611.7
申请日：2016-07-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位的液滴排出装置。该液滴排出装置(1)包括液滴排出头(34)、工件载置台(20)和第1拍摄装置(41)，工件(W)沿主扫描方向(X轴方向)移动了规定的距离时基于由第1拍摄装置(41)取得的拍摄图像来检测形成在工件(W)上的基准标记的位置，并且基于由移动量检测机构(23)检测的工件载置台(20)的移动量来推测基准标记的位置，接着，基于图像检测出的基准标记的位置与基于工件载置台(20)的移动量推测的基准标记的位置的相关关系，修正工件(W)与液滴排出头(34)的相对位置。由此，能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位。
-
公开(公告)号：CN101431008A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810174786.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/06 , G03F7/16 , B05C13/02 , B05C5/00 , B05D1/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111001539A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201910909737.8
申请日：2019-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 筱崎贤哉
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括保持部、输送部、调节部、涂敷部和控制部。保持部具有吸附基片的下表面的多个吸附垫，用于保持基片。输送部沿输送方向输送保持部。调节部调节保持部的倾斜度。涂敷部对基片涂敷处理液。控制部用调节部控制涂敷部的正下方的保持部的倾斜度。本发明能够均匀地形成涂敷膜。
-
公开(公告)号：CN106311524B
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201610514611.7
申请日：2016-07-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位的液滴排出装置。该液滴排出装置(1)包括液滴排出头(34)、工件载置台(20)和第1拍摄装置(41)，工件(W)沿主扫描方向(X轴方向)移动了规定的距离时基于由第1拍摄装置(41)取得的拍摄图像来检测形成在工件(W)上的基准标记的位置，并且基于由移动量检测机构(23)检测的工件载置台(20)的移动量来推测基准标记的位置，接着，基于图像检测出的基准标记的位置与基于工件载置台(20)的移动量推测的基准标记的位置的相关关系，修正工件(W)与液滴排出头(34)的相对位置。由此，能够使功能液滴排出头与工件上的围堤部高精度地对位。
-
公开(公告)号：CN101431008B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200810174786.3
申请日：2008-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/027 , B65G49/06 , G03F7/16 , B05C13/02 , B05C5/00 , B05D1/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
-
公开(公告)号：CN101192008B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200710196021.5
申请日：2007-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，其在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而能够正确稳定地控制基板的浮起高度，使涂敷膜的膜厚品质提高。基板搬送部(84)包括：平行地配置在利用气体压力的力在空中使基板G浮起的浮起式台(80)的两侧的左右一对导轨(100L、100R)；沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨(100L、100R)上的左右一对滑动件(102L、102R)；使两滑动件(102L、102R)在两导轨(100L、100R)上同时或平行地直进移动地搬送驱动部；和为了可装卸保持基板(G)的四角而搭载在两滑动件(102L、102R)上的保持部(106)。
-
公开(公告)号：CN101192008A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200710196021.5
申请日：2007-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，其在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而能够正确稳定地控制基板的浮起高度，使涂敷膜的膜厚品质提高。基板搬送部(84)包括：平行地配置在利用气体压力的力在空中使基板G浮起的浮起式台(80)的两侧的左右一对导轨(100L、100R)；沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨(100L、100R)上的左右一对滑动件(102L、102R)；使两滑动件(102L、102R)在两导轨(100L、100R)上同时或平行地直进移动地搬送驱动部；和为了可装卸保持基板(G)的四角而搭载在两滑动件(102L、102R)上的保持部(106)。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.017 seconds)
