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公开(公告)号：CN101515112A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006470.8
申请日：2009-02-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/10 , C08L33/08
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种正型抗蚀剂组合物，它是含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性增大的基材成分(A)和通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)的正型抗蚀剂组合物，其特征在于，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，该高分子化合物(A1)具有下述通式(a0－1)表示的结构单元(a0)，式中，R1是氢原子、低级烷基或卤代低级烷基，A是2价的连接基团，B是2价的连接基团，R2是酸解离性溶解抑制基团。
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公开(公告)号：CN114245923A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202080055346.5
申请日：2020-08-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 信息处理系统，其具备：存储部，其存储将表示组合物的材料的材料信息、使用所述组合物的规定工艺中的工艺条件与通过所述工艺得到的组合物的性能信息赋予关联的对应信息；性能推定部，其基于输入的所述材料信息、所述工艺条件和所述对应信息，取得所述性能信息；以及输出部，其输出所述性能信息。
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公开(公告)号：CN103969952B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201410152054.X
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1‑1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN103969952A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410152054.X
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN101470349B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200810173347.0
申请日：2008-11-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D497/08 , C08K5/36 , C08K5/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
Abstract: 本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q1是2价连接基团或单键；Y1是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO2-键。M+是碱金属离子。A+是有机阳离子。)x-Q1-Y1-SO3- M+ …(I)X-Q1-Y1-SO3- A+ …(b1-1)。
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公开(公告)号：CN101408728B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200810212866.3
申请日：2008-09-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物式，其中，X是-O-、-S-、-O-R3-或-S-R4-，R3和R4分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R2是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q1是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M+是碱金属离子；A+是有机阳离子。
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公开(公告)号：CN100572422C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由下述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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公开(公告)号：CN1918217A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200580004964.2
申请日：2005-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08G85/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C07C69/54 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F290/06 , C08F290/061 , C09D133/14 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供高分子化合物、使用了该高分子化合物的光致抗蚀剂组合物、和使用了该光致抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法，所述高分子化合物能够构成具有优异的析像清晰性、能够形成矩形性良好的微细图案、同时由酸发生剂产生的酸弱时也能得到良好的抗蚀特性、感光度也良好的抗蚀剂组合物。所述光致抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法使用如下的高分子化合物：具有碱可溶性基团(i)，该碱可溶性基团(i)是选自醇羟基、羧基、和酚羟基的至少1种的取代基，这些基团由上述通式(1)(式中，R1为可以具有氧、氮、硫、或卤素原子的碳原子数小于等于20的脂环基，n表示0或1～5的整数)所示的酸解离性溶解抑制基团(ii)保护。
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