一种双滚转跟踪去耦控制方法及系统

    公开(公告)号:CN112946879A

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN202110157182.3

    申请日:2021-02-04

    Abstract: 一种双滚转跟踪去耦控制方法,步骤如下:S1计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在惯性系的投影;S2计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在弹体系的投影;S3计算弹体相对于惯性空间的旋转角速度在成像系统系的投影;S4将该速度作为负反馈,闭环到双滚转控制回路中,抵消弹体摆动引起的光轴晃动,实现去耦。利用惯组测量的弹体姿态信息进行去耦解算,无需成像系统内部安装惯性测量元件。相对于框架式产品,双滚转结构上不需要安装速率陀螺等测量元件,既减轻了重量,也减小了制造成本,满足现代产品小型化设计需求。

    一种基于雷达红外双模融合的抗雷达型干扰方法

    公开(公告)号:CN111679251A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010549510.X

    申请日:2020-06-16

    Abstract: 本发明公开了一种基于雷达红外双模融合的抗雷达型干扰方法,其中,该方法包括如下步骤:雷达子系统、红外子系统分别完成对目标的搜索定位,建立各自的目标航迹;对雷达航迹和红外航迹进行时间配准;对时间配准后的雷达航迹和红外航迹进行关联判断;对关联航迹进行干扰检测;分别对雷达红外子系统进行干扰识别与对抗;对抗干扰后的雷达红外航迹进行融合输出。本发明通过对干扰的判断以及系统工作模式的合理切换,提高了系统的抗干扰能力,保证了系统对目标跟踪的稳定性和连续性。

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