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公开(公告)号:CN104345577B
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201310347666.X
申请日:2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种对准装置,包括照明模块、干涉模块和探测模块,所述干涉模块至少包括一组科斯特(Koster)棱镜,多个波长的光源发出的光束通过所述照明模块输出照明光束,所述照明光束通过所述干涉模块入射到对准标记,所述干涉模块还通过所述科斯特(Koster)棱镜将所述对准标记衍射得到的对称的正负极衍射光进行重合形成探测光,所述探测光被所述探测模块转化为干涉信号并进行收集,从而通过收集得到的干涉信号的信息可以得到所述对准标记的位置信息。本发明在干涉模块中使用了科斯特(Koster)棱镜(Koester棱镜),相比于空间多面体结构的屋脊棱镜,可有效的降低加工制造、装调难度。
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公开(公告)号:CN106290390A
公开(公告)日:2017-01-04
申请号:CN201510268934.8
申请日:2015-05-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明公开了一种缺陷检测装置及方法,该装置包括:照明单元,用于提供所需的辐射光;成像单元,设置有多组,用于对待测物的不同区域成像;探测单元,与成像单元连接,用于将待测物的图像转换为数值信号;以及水平调节机构,用于调节所述多组成像单元的光轴的间距,其中,成像单元光轴的间距的调整距离△l满足公式L+△l=K×P或公式L+△l=K×(n×P);式中,L表示两成像单元光轴的间距、P表示单个芯片的周期,K为整数,n为单个成像视场水平方向容纳的单个芯片个数。本发明通过增设水平调节机构,以调节成像单元光轴之间的距离,并给出成像单元光轴间距的调节量与芯片(die)周期的关系,使其能够适应die周期变化,提高了物镜的使用效率。
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公开(公告)号:CN105700296A
公开(公告)日:2016-06-22
申请号:CN201410693199.0
申请日:2014-11-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种硅片表面高度和倾斜度检测装置及方法,该检测装置从探测光线路径看包括依次排列的光源、准直扩束镜、狭缝阵列、角度调节单元、第一透镜、待测硅片、第二透镜、探测器和信号处理单元,还包括位于所述直扩束镜和所述狭缝阵列间的偏振调制单元、位于所述第二透镜和所述探测器之间的多色光分离单元,探测器由若干个探测单元组成。本发明通过增加多色光分离单元,将宽波段的反射光分离成多个独立的波段,通过相应的探测单元对每个波段进行单独探测,并对各波段的探测信息进行综合处理,以更好的消除硅片底层图案的影响,得到更准确的硅片表面位置信息,同时使用宽波段光源提高了光源能量的利用率和检测装置对不同硅片的工艺适用性。
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公开(公告)号:CN105448681A
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201410243344.5
申请日:2014-07-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/268 , B23K26/064
CPC classification number: B23K26/064 , B23K26/0006 , B23K26/0608 , B23K26/352 , B23K26/704 , B23K2101/40 , B23K2103/56 , H01L21/268
Abstract: 本发明揭示了一种激光退火装置。包括激光光源、前端光学器件及能量补偿光学单元,激光光源发出的光束经所述前端光学器件整形、偏振调节成P偏振光或S偏振光入射能量补偿光学单元,通过能量补偿光学单元实现入射光束多次入射硅片。本发明通过将反射光补偿使得表面最大吸收,最小化光学吸收差异,解决了入射角度的局限性,且S偏振光和P偏振光都能够被使用,因此提高了激光退火装置的适应性。
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公开(公告)号:CN105372256A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201410411988.0
申请日:2014-08-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明提供了一种表面检测系统,包括载物台、光源、探测单元和回收单元,所述回收单元用于收集待检测物表面的镜面反射光,并将所述镜面反射光再次投射至所述待检测物表面。本发明还提供了一种表面检测方法,采用此方法进行缺陷检测时,经待检测物表面反射的光得以再次利用,提高了光能利用率的同时,对待检测物表面的再次投射也能提高检测的灵敏度。
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