公开(公告)号：CN105575775A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510426921.9

申请日：2015-07-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  宋炫知 ,  姜善惠 ,  金成旻 ,  金瑆焕 ,  金永珉 ,  金润俊 ,  金惠廷 ,  南沇希 ,  白载烈 ,  尹星莉 ,  尹龙云 ,  李忠宪 ,  郑瑟基 ,  赵妍熹 ,  洪承希 ,  黄善民 ,  黄元宗 ,  李松世 ,  金命九 ,  刘奈莉

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/308 ,  G03F1/46 ,  G03F1/76 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种层结构及制造其的方法、形成图案的方法以及半导体装置，其中，制造层结构的方法包含通过将包含第一有机化合物的第一组合物涂覆到具有多个图案的衬底上形成第一有机层(S1)；将溶剂涂覆到第一有机层上以去除第一有机层的一部分(S2)；以及将包含第二有机化合物的第二组合物涂覆到其中的一部分被去除的第一有机层上并且经由固化过程形成第二有机层(S3)；从而可制造具有卓越平坦化特征的层结构，且无需单独的回蚀刻制程或化学机械抛光制程。

公开(公告)号：CN105093833A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510046738.6

申请日：2015-01-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 崔有廷 ,  金润俊 ,  金永珉 ,  文俊怜 ,  朴裕信 ,  宋炫知 ,  尹龙云 ,  李忠宪

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供了一种硬掩模组合物和使用所述硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。本发明的硬掩模组合物能满足耐蚀刻性，同时确保对于溶剂的可溶性、间隙填充特征以及平面化特征。[化学式1]在以上化学式1中，M1、M2、a以及b与具体实施方式中所定义相同。

公开(公告)号：CN109923451A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201780067419.0

申请日：2017-09-27

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 魏东镐 ,  金永珉 ,  吴泳 ,  郑容云 ,  朱荣贤

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  G02B1/11

Abstract: 提供一种偏光板与包含其的液晶显示器，其中所述偏光板包括：依序层压的偏光片、对比率改善膜、黏合层、及抗反射膜，所述对比率改善膜包括第一保护层、及彼此相对的第一树脂层以及第二树脂层，所述第一树脂层在面向所述第二树脂层的一个表面上包括具有平坦区段的图案部分的光学图案，且所述黏合层具有为约5％至约40％的雾度。

公开(公告)号：CN106243326B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201610393116.5

申请日：2016-06-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金兑镐 ,  崔有廷 ,  姜善惠 ,  权孝英 ,  金相均 ,  金永珉 ,  南沇希 ,  宋炫知 ,  尹星莉 ,  李东槿 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/12 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106336372A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610457786.9

申请日：2016-06-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 权孝英 ,  姜善惠 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  许柳美 ,  金永珉 ,  文秀贤

IPC: C07D209/12 ,  C07D209/60 ,  C07D209/86 ,  C07D311/82 ,  C07D333/56 ,  G03F1/46 ,  G03F1/56

Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1] 。