公开(公告)号：CN1877449B

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN200610091557.6

申请日：2006-06-12

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹柱豹 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  吕泰勳 ,  郑义澈 ,  金东明 ,  崔相角 ,  李浩真 ,  申洪大 ,  李东赫

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/027 ,  G02F1/136 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供负型感光性树脂组合物，其粘着力、耐热性、绝缘性、平坦性、耐化学性等性能优异，适用于液晶显示元件的图像形成用材料，并且由于灵敏度、残膜率、UV透过率优异，因而适于用作层间有机绝缘膜；不仅如此，将该组合物用作保护层用等各种抗蚀剂树脂时，可以提高灵敏度和残膜率。本发明的负型感光性树脂组合物含有a)丙烯酸类共聚物、b)光引发剂、c)具有乙烯性不饱和键的多官能性单体、d)含有环氧基或胺基的硅类化合物和e)溶剂；所述a)丙烯酸类共聚物是通过使i)烯丙基丙烯酸类化合物、ii)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物、iii)含有环氧基的不饱和化合物以及iv)烯烃类不饱和化合物进行共聚而得到的。

公开(公告)号：CN1904734B

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN200610072635.8

申请日：2006-04-05

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 吕泰勳 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  郑义澈 ,  金东明 ,  崔相角 ,  李浩真 ,  申洪大 ,  李东赫

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅灵敏度、耐热性、解像度等性能优异，还显著提高了常温保存稳定性和透过性，适于形成LCD制造工序中的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物的特征在于，其含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2-二叠氮醌化合物、c)以化学式1～6中的任意一个来表示的环氧类化合物、和d)溶剂，其中所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iii)共聚后，除去未反应的单体而得到的：i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；ii)含有羟基的烯烃类不饱和化合物；iii)烯烃类不饱和化合物。

公开(公告)号：CN1811597B

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN200610002261.2

申请日：2006-01-27

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 尹赫敏 ,  金柄郁 ,  崔相角 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  金东敏 ,  吕泰勳 ,  郑义澈 ,  金东明 ,  李浩真

IPC: G03F7/012 ,  G03F7/008 ,  G02F1/133

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物不仅透过率、绝缘性、平滑性、耐化学性等性能优异，而且特别地，该组合物由于具有高耐热特性，使得在层间绝缘膜产生的渗气最小化，因而可确保后工序的可靠性，适于用作LCD制造工序的层间绝缘膜。本发明的感光性树脂组合物含有a)丙烯酸类共聚物、b)1，2-二叠氮醌化合物、和c)溶剂，其中所述a)丙烯酸类共聚物是通过使下述i)～iii)共聚得到的：i)苯基马来酰亚胺类化合物；ii)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的混合物；iii)含环氧基的不饱和化合物。

公开(公告)号：CN1873534B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200610083540.6

申请日：2006-06-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  李东基 ,  金载星 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2-醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。

公开(公告)号：CN1873534A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610083540.6

申请日：2006-06-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  李东基 ,  金载星 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2－醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。