公开(公告)号：CN104051299B

公开(公告)日：2019-01-25

申请号：CN201410090605.4

申请日：2014-03-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵庸真 ,  高镛璿 ,  金庆燮 ,  金光秀 ,  金石训 ,  吴政玟 ,  李根泽 ,  张原浩 ,  田溶明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开提供了基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法。该基板处理系统可以包括构造为用超临界流体处理基板的处理装置以及构造为提供超临界流体到处理装置的供给装置。处理装置可以包括超临界工艺区和预超临界工艺区，在该超临界工艺区中基板用超临界流体处理，在预超临界工艺区中超临界流体膨胀然后被提供到超临界工艺区中以在超临界工艺区中产生超临界状态。

公开(公告)号：CN103997366A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201410054221.7

申请日：2014-02-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金光秀 ,  姜龙辰 ,  韩禹真 ,  梁先镐

IPC: H04B7/24 ,  H04L29/06 ,  H04R27/00

CPC classification number: H04R3/00 ,  H04L12/2809 ,  H04L2012/2841 ,  H04L2012/2849 ,  H04W4/80 ,  H04W8/005 ,  H04W12/04

Abstract: 本发明提供了无线网络音频系统中的自动配对系统和方法。所述自动配对方法包括：响应于向音频源设备供电，音频源设备进入自动配对模式；音频源设备检索外围无线扬声器；以及响应于音频源设备检索到无线扬声器，音频源设备提供用于与无线扬声器配对的归属标识符ID。

公开(公告)号：CN103151285A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201210524045.X

申请日：2012-12-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李晓山 ,  高镛璿 ,  金庆燮 ,  金光秀 ,  金石训 ,  李根泽 ,  田溶明 ,  赵庸真

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B5/04 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 本申请提供了一种基片干燥装置和基片处理方法。该装置可包括：配置为具有内部空间的处理室；布置于所述处理室内用于支撑基片的基片支撑件；第一供应口，其配置为向位于所述基片以下的所述内部空间的一个区域提供超临界流体；第二供应口，其配置为向位于所述基片以上的所述内部空间的另一个区域提供超临界流体；和排出口，其配置为将超临界流体从所述处理室排出到外部区域。

公开(公告)号：CN101085580A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。