公开(公告)号：CN118974533A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202380031004.3

申请日：2023-03-30

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 佐藤孝 ,  松本崇 ,  长谷川智一

IPC: G01N1/10 ,  G01N1/00

Abstract: 一种微流路装置，从包含作为分析的对照物使用的第1成分和成为分析对象的第2成分的试样溶液分离成包含所述第1成分的溶液与包含所述第2成分的溶液。

公开(公告)号：CN118758984A

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202411009269.6

申请日：2020-01-08

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 松岛直树 ,  尾形洁 ,  吉原正 ,  伊藤义泰 ,  表和彦 ,  本野宽 ,  浅野繁松 ,  洞田克隆 ,  安田千水

IPC: G01N23/20016 ,  G01N23/20025 ,  G01N23/201

Abstract: 本发明的透射式小角度散射装置配备有包括旋转臂(11)的测角器(10)。旋转臂(11)在以铅垂方向的配置状态作为原点，围绕从该原点沿水平方向延伸的θ轴自由转动。并且，将X射线照射单元(20)搭载于旋转臂(1)的下侧端部，并且，将二维X射线检测器搭载于旋转臂(11)的上侧端部。

公开(公告)号：CN118541600A

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202280088828.X

申请日：2022-11-09

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 名越泰彦 ,  上月利晃 ,  藤本悠城

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置具有：真空室(17)，该真空室(17)至少包括配置有探测器的检测室并被抽真空；多个驱动部(18A～H)，该多个驱动部(18A～H)在真空室(17)外具有驱动源并进行真空室(17)内的机械动作；以及真空泄漏部位指定机构(23A、23B)，该真空泄漏部位指定机构(23A、23B)在监视上述真空室(17)的真空度的同时，使驱动部(18A～H)一个一个地动作，在各动作的前后，在真空室(17)的真空度的变化为规定的域值以上的情况下，将该驱动部(18A～H)指定为真空泄漏部位，并将该情况显示在显示机构(19)上并且/或者记录在记录机构(21)上。

公开(公告)号：CN118401829A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202280080026.4

申请日：2022-11-09

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  田中伸 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置包括通过FP法计算试样(13)中的元素含有率的计算机构(10)，为了考虑不测定荧光X射线的非测定元素的影响，对于该计算机构(10)，作为由检测机构(9)测定强度的散射线，使用波长为0.05nm以上0.075nm以下的短波长侧的一次X射线的散射线以及波长为0.11nm以上0.23nm以下的长波长侧的一次X射线的散射线，同时，对于非测定元素中除氢以外的元素，假定平均原子序数，对于氢，假定其含有率。

公开(公告)号：CN113287003B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN201980088744.4

申请日：2019-11-21

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 佐藤孝

IPC: G01N23/20025 ,  G01N23/205 ,  G01N23/207 ,  G01N1/28

Abstract: 提供一种能够迅速且容易地进行向晶体海绵的试样的吸藏、迅速且准确地进行单晶X射线结构解析的试样保持架组件(400)。所述试样保持架组件包含试样保持架(214)和敷料器(300)。敷料器(300)具备：收纳试样保持架的收纳空间以及开口部(302)；密封部(304)，设置在与收纳于收纳空间的试样保持架的接触面；以及防脱部(305)，与收纳于收纳空间的试样保持架卡合，阻止试样保持架从开口部(302)的脱出。

公开(公告)号：CN117716231A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202280052823.1

申请日：2022-03-25

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 太田卓见

IPC: G01N23/046

Abstract: 提供能够降低用于对CT图像的重构中的由射束硬化效应引起的伪像进行校正的计算成本的校正装置、系统、方法以及程序。一种对CT图像的重构中的由射束硬化效应引起的伪像进行校正的校正装置(400)，具备：入射X射线分布取得部(410)，其取得入射X射线分布；线吸收系数模型取得部(420)，其取得用包含参数的比例因子表示出线吸收系数的能量依赖性的线吸收系数模型；投影像取得部(430)，其取得投影像；以及校正部(440)，其使用所述入射X射线分布和所述线吸收系数模型对所述投影像进行校正。

公开(公告)号：CN117647558A

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202311125206.2

申请日：2023-09-01

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 则武弘一郎

IPC: G01N25/20 ,  G01N1/00 ,  G01N1/22 ,  G01N1/24 ,  G01N25/02 ,  G01N25/00 ,  G01N1/28 ,  G01N1/44 ,  G01N33/00

Abstract: 本发明构成为将外部的空气作为载气而取入到载气流动路径。在成分气体检测部(70)设置有用于检测从试样脱离的CO2气体的CO2传感器(特定气体检测传感器)(71)。另外，另行设置有用于检测由送风风扇(51)取入到载气流动路径的空气中含有的CO2气体的CO2传感器(含空气特定气体检测传感器)(54)。并且，从特定气体检测传感器(71)检测出的CO2气体检测量中减去含空气特定气体检测传感器(54)检测出的CO2气体检测量，并求出从试样脱离的CO2气体的检测量。

公开(公告)号：CN114787616B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202080086958.0

申请日：2020-12-04

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  日下部宁

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供能考虑几何效应的影响进行高精度的定量分析的定量分析方法、定量分析程序和荧光X射线分析装置。一种定量分析方法包括：用于取得被设定为各分析成分含量的代表的代表组成的步骤、用于取得代表组成的分析成分的含量每个成分仅变更规定含量的多个比较组成的步骤、用于使用FP法计算表示具有预设的厚度并由代表组成和比较组成表示的虚拟样品在几何效应的影响下检测的荧光X射线的强度的检测强度的检测强度计算步骤以及用于基于检测强度而计算每个分析成分的基体校正系数的步骤，通过使用包含成分i的检测强度Ii、用于表示成分i的质量分率的Wi、用于表示共存成分j的质量分率的Wj、常数a、b和c以及用于表示成分i的共存成分j的基体校正系数的αj的校正曲线公式来计算αj。

公开(公告)号：CN116507943B

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202180079303.5

申请日：2021-09-14

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  名越泰彦 ,  古泽卫一

IPC: G01T1/17

Abstract: 在本发明的荧光X射线分析装置中设置的计数时间计算机构(13)将X射线强度的综合精度设为因统计变动以及漏计数引起的计数精度，并且将计数精度设为进行漏计数修正前的强度即修正前强度的精度、与修正后强度相对于该修正前强度的梯度之积，由此针对各测定线(5)，根据已指定的X射线强度的综合精度、所给予的漏计数修正系数以及所给予的修正后强度来计算计数时间。

公开(公告)号：CN114207421B

公开(公告)日：2023-09-26

申请号：CN202180004650.1

申请日：2021-03-24

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 山本悦久 ,  山田康治郎 ,  原真也

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供一种荧光X射线分析装置及荧光X射线分析装置的控制方法，即使在荧光X射线分析装置发生异常的情况下，也能够防止样品的劣化、破损、装置内部污染。荧光X射线分析装置具备：测量部，包括在待机位置和测量位置之间移动样品的移动机构、向样品照射1次X射线的X射线源、检测入射的荧光X射线的强度的检测器和控制移动机构及X射线源动作的第一控制部；以及信息处理部，其具有基于检测器测量出的荧光X射线的强度对样品进行分析的分析部、和与第一控制部进行通信并控制测量部的第二控制部，第一控制部具有退让单元，在第一控制部与第二控制部之间的通信被切断时，对移动机构进行退让控制，以使得在测量位置的样品退让至待机位置。