荧光X射线分析装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118541600A

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202280088828.X

    申请日:2022-11-09

    Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置具有:真空室(17),该真空室(17)至少包括配置有探测器的检测室并被抽真空;多个驱动部(18A~H),该多个驱动部(18A~H)在真空室(17)外具有驱动源并进行真空室(17)内的机械动作;以及真空泄漏部位指定机构(23A、23B),该真空泄漏部位指定机构(23A、23B)在监视上述真空室(17)的真空度的同时,使驱动部(18A~H)一个一个地动作,在各动作的前后,在真空室(17)的真空度的变化为规定的域值以上的情况下,将该驱动部(18A~H)指定为真空泄漏部位,并将该情况显示在显示机构(19)上并且/或者记录在记录机构(21)上。

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