X射线产生装置
    141.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109427520B

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN201811030902.4

    申请日:2018-09-05

    Abstract: 本发明涉及X射线产生装置。将在旋转靶的内部利用隔离物设置制冷剂流入路径和制冷剂流出路径的X射线产生装置中减轻扭矩的负担以及减轻振动作为目的。在X射线产生装置中,在靶进行旋转时,隔离物向与该靶的旋转方向相同的方向进行旋转,所述X射线产生装置具有:靶,接收电子而产生X射线;隔离物,将靶的内部空间分成制冷剂流入路径和制冷剂流出路径;电动机,使靶旋转;以及制冷剂流入路径和制冷剂流出路径,向制冷剂流入路径供给制冷剂,通过制冷剂流出路径回收制冷剂。

    单晶X射线结构解析装置用试样保持架组件

    公开(公告)号:CN113287003A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN201980088744.4

    申请日:2019-11-21

    Inventor: 佐藤孝

    Abstract: 提供一种能够迅速且容易地进行向晶体海绵的试样的吸藏、迅速且准确地进行单晶X射线结构解析的试样保持架组件。所述试样保持架具备:基台部,安装于单晶X射线结构解析装置的测角仪;保持部,形成于基台部,保持能够在形成于内部的多个微细孔吸藏试样的细孔性络合物结晶;以及试样导入结构,形成于基台部,导入用于使细孔性络合物结晶吸藏的试样,敷料器(300)具备:收纳试样保持架的收纳空间以及开口部(302);密封部(304),设置在与收纳于收纳空间的试样保持架的接触面;以及防脱部(305),与收纳于收纳空间的试样保持架卡合,阻止试样保持架从开口部(302)的脱出。

    散射测量分析方法、散射测量分析装置及信息存储介质

    公开(公告)号:CN113049615A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202011565438.6

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤,在所述理论散射强度取得步骤中,通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献,所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献,所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。

    热分析装置和电炉的控制方法

    公开(公告)号:CN112824882A

    公开(公告)日:2021-05-21

    申请号:CN202011310975.6

    申请日:2020-11-20

    Abstract: 一种热分析装置和电炉的控制方法,其不会强迫用户进行用于修正的事前的作业,以使实际的试样的温度变化迅速地到达预先设定的目标速率且追随该目标速率的方式控制电炉。具备修正部(20),该修正部(20)基于相对于试样(S1)的温度变化的目标速率和相对于试样(S1)的实际的温度变化的实际速率的差量对设定在温度程序中的程序温度进行修正。

    X射线测定装置以及系统
    145.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112611771A

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202011029075.4

    申请日:2020-09-25

    Abstract: 本发明提供X射线测定装置以及系统,不转移视线或使身体移动去确认,仅用作业现场中的视觉信息就能认识应交换的部件或交换了的部件的适合与否。X射线测定装置(X射线衍射装置2)通过多个部件来构成X射线分析的测定系统,具备:装置主体;直接或间接安装于装置主体、能对应于测定类别从多种类中选择应安装的种类的对象部件(选择狭缝41)以及不能选择种类的非对象部件;和针对测定类别显示所安装的对象部件的适合与否的显示部(选择狭缝用显示部41a)。

    荧光X射线分析装置
    146.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112534248A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN201980052429.6

    申请日:2019-06-06

    Abstract: 本发明的荧光X射线分析装置根据多路波高分析器(13)所输出的微分曲线、与针对作为一次射线的分析射线的规定的分析波高宽度和狭于该分析波高宽度的规定的狭小波高宽度,同时地获得作为二次X射线(7)的强度相对于联动机构(10)的扫描角度(20)的分布的分析波高宽度曲线和狭小波高宽度曲线。接着,针对分析波高宽度曲线以及狭小波高宽度曲线,进行分析射线的鉴定,在于分析波高宽度曲线中鉴定的分析射线中追加仅在狭小波高宽度曲线中鉴定的分析射线,形成分析射线的鉴定结果。

    X射线荧光分析装置用的试样夹持器、试样夹持器制作夹具和X射线荧光分析装置用的试样制作方法

    公开(公告)号:CN109642881B

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN201880003006.0

    申请日:2018-03-09

    Inventor: 松田涉 井上稔

    Abstract: 本发明提供一种X射线荧光分析装置用的试样夹持器,其当利用上照射型的X射线荧光分析装置进行测定时能够对少量且无法滴干的液体状试样进行测定。X射线荧光分析装置用的试样夹持器具有第一基板和第二基板,其中,所述第一基板具有:支持基板,其具有配置液体状试样的孔;第一树脂薄膜,其粘结在该支持基板的X射线入射侧的表面上以覆盖该孔;以及粘结层,其设置在该支持基板的粘结有该第一树脂薄膜的表面的背面,所述第二基板具有:固定基板,其在与所述支持基板所具有的孔的对应位置上具有孔;以及第二树脂薄膜,其粘结在该固定基板的所述X射线入射侧的表面上,并且所述第二基板通过所述粘结层与所述第一基板粘结。

    应力解析装置、方法以及程序

    公开(公告)号:CN106970098B

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201610821660.5

    申请日:2016-09-13

    Inventor: 安川昇一

    Abstract: 提供一种能够提高应力值的精度的应力解析装置、方法以及程序。用于计算试样(S)的残留应力的应力解析装置(100),具备:解析部,其在与试样(S)的表面垂直的方向的应力为恒定时,采用包含误差的项且表示应力与应变的关系的方程式,利用基于针对多个散射向量的衍射X射线的测量值和暂定值,将误差计算为解之一;和暂定值补正部,其利用所计算出的所述误差来补正暂定值,解析部以及补正部反复进行误差的计算以及暂定值的补正。

    晶相识别方法、晶相识别装置、以及X射线衍射测定系统

    公开(公告)号:CN107421971B

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201710373083.2

    申请日:2017-05-24

    Abstract: 本发明涉及晶相识别方法、晶相识别装置、以及X射线衍射测定系统。使用注册有关于多个晶相的X射线衍射图案的峰位置和峰强度比的数据的数据库,根据包含多个环状的衍射图案的数据的样品的X射线衍射数据来识别样品所包含的晶相。根据X射线衍射数据针对多个衍射图案检测峰位置和峰强度(步骤102),制作各衍射图案的周向的角度对强度的数据(步骤103)。然后,基于周向的角度对强度的数据来将各衍射图案分类为多个群组(步骤105)。然后,基于分类为相同的群组的衍射图案的峰位置和峰强度比的组来从数据库检索样品所包含的晶相候补(步骤106)。

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