公开(公告)号：CN104655662A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201410683606.X

申请日：2014-11-25

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 挂札康治 ,  飞田一郎

IPC: G01N23/207

CPC classification number: G01N23/207 ,  G01N23/20016 ,  G01N2223/303

Abstract: 本发明涉及用于X射线分析器的光轴调整方法和X射线分析器。提供了一种用于X射线分析器的光轴调整方法，所述X射线分析器包括入射侧臂、接收侧臂、X射线源、入射侧狭缝、以及具有在直线上的X射线强度位置分辨的一维X射线检测器。所述方法包括2θ调整步骤，其中将接收侧臂的旋转的0°位置和衍射角2θ的0°位置对准；Zs轴调整步骤，其中调整沿着与从X射线源入射到样本上的X射线的中心线正交的方向的入射侧狭缝的位置；以及θ调整步骤，其中调整从X射线源入射到样本上的X射线的中心线和样本的表面从而使其平行。在2θ调整步骤、Zs轴调整步骤和θ调整步骤中，由一维X射线检测器具有的针对在直线上的X射线强度位置分辨的能力被用于执行2θ调整、Zs轴调整和θ调整。

公开(公告)号：CN104076050A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410109755.5

申请日：2014-03-24

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 迫幸雄 ,  川久航介

IPC: G01N23/223

CPC classification number: G01T1/16 ,  G01T1/40 ,  G01T7/00

Abstract: 本发明涉及一种X射线分析装置，其包括：第1补偿机构(13A、13B)，该第1补偿机构(13A、13B)基于通过计数机构(10A、10B)所求得的计数率的总数，推测出通过计数机构(10A、10B)得到的能量谱中的波峰位置，并输出初始值，该初始值是用于将该推测出的波峰位置与基准位置一致化的增益值；第2补偿机构(14A、14B)，该第2补偿机构(14A、14B)在通过计数机构(10A、10B)得到的能量谱中，在包括基准位置的规定的能量范围内检测波峰位置，输出动态增益补偿值，该动态增益补偿值是用于将该检测出的波峰位置与基准位置一致化的增益值。

公开(公告)号：CN103415766A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201280010736.6

申请日：2012-04-03

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  井上央 ,  川久航介

IPC: G01N23/223

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N23/2076 ,  G01N2223/076

Abstract: 本发明涉及一种波长色散型荧光X射线分析装置，其中，计数损失补偿机构(11)在根据检测器(7)的无感时间对通过计数机构(10)而求出的脉冲的计数率进行补偿时，预先存储通过波高分选器(9)而分选的规定的波高范围和无感时间的相关性，根据该已存储的相关性，按照与测定时的规定的波高范围相对应的方式确定上述无感时间。

公开(公告)号：CN103364424A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310005481.0

申请日：2013-01-08

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 多田正市 ,  谷向贤

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明提供一种荧光X射线分析装置，其在采用液体试样溢流的试样容器的分析中，可快速地进行精度良好的分析。该装置包括：试样容器(5)，该试样容器(5)将从下方注入的液体试样(S)从顶端(51)溢流，该试样容器内部的空间的水平截面伴随从规定深度朝向上方延伸而变宽；试样注入机构(7)，该试样注入机构将液体试样(S)注入到试样容器(5)中；X射线源(1)，该X射线源对注入到试样容器(5)中的液体试样(S)的顶面照射一次X射线(2)；检测机构(4)，该检测机构检测从液体试样(S)产生的二次X射线(3)；控制机构(8)，该控制机构控制试样注入机构(7)、X射线源(1)和检测机构(4)，使得当注入到上述试样容器(5)中的液体试样(S)从试样容器(5)溢流时，则停止注入，开始测定。

公开(公告)号：CN1932493B

公开(公告)日：2012-01-04

申请号：CN200610127560.9

申请日：2006-09-12

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 片冈由行 ,  古泽卫一 ,  河野久征

IPC: G01N23/223 ,  G01B15/02

CPC classification number: G01B15/02 ,  G01N23/223 ,  G01N2223/076

Abstract: 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置，其可充分正确地对镀合金化熔融锌的钢板的组分沿深度方向不均匀的镀膜的附着量和组分进行分析。该装置包括X射线源(7)，该X射线源(7)按照规定的入射角(φ)，对试样(1)照射1次X射线(6)；检测机构(9)，该检测机构(9)测定按照规定的取出角(α，β)，由试样(1)产生的荧光X射线(8)的强度，在上述入射角(φ)和取出角(α，β)的组合中，以至少1者不同的2个组合，测定荧光X射线(8)的强度，针对由荧光X射线(8)的强度为增加测定对象膜的附着量时的上限值的99％的附着量表示的测定深度，按照上述2个组合的测定深度均大于上述镀膜(3)的附着量的方式，设定各组合的入射角(φ)和取出角(α，β)。

公开(公告)号：CN1877312B

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN200610083463.4

申请日：2006-05-30

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 河原直树 ,  原真也 ,  堂井真

IPC: G01N23/223 ,  G01N23/22

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N2223/076

Abstract: 本发明的课题在于提供一种荧光X射线分析装置等，其可针对包含多个非测定元素的无法指定其原子序数的各种试样，在更宽的适合范围内充分而正确地进行分析。设置算出机构，其根据假定的元素的浓度计算由试样中的各元素产生的2次X射线的理论强度，按照该理论强度和通过检测机构测定的测定强度一致的方式，对上述假定的元素的浓度进行最佳化计算，算出试样的元素的浓度，上述算出机构针对不测定荧光X射线的非测定元素假定多个非测定元素的浓度，并且代替从试样中的非测定元素产生的2次X射线，采用其数量至少与假定浓度的非测定元素相同的1次X射线的散射线，所采用的1次X射线的散射线包含用试样散射之前的波长不同的散射线。

公开(公告)号：CN101405828B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200780009456.2

申请日：2007-03-16

Applicant: 浜松光子学株式会社 ,  株式会社理学

Inventor： 松浦惠树 ,  高田义博 ,  有井忠 ,  大竹智士

IPC: H01J49/14 ,  G01N27/62 ,  G01N27/64 ,  H01J49/06 ,  H01J49/10

CPC classification number: G01N27/64 ,  H01J27/24 ,  H01J49/107 ,  H01J49/147 ,  H01J49/162

Abstract: 离子化装置(2)，具备：具有用于将试样分子(A)离子化的离子化空间(2b)的离子化室(2a)、用于向离子化空间(2b)内的试样分子(A)施加电子轰击并将试样分子(A)离子化的灯丝(23a、23b)、以及用于向离子化空间(2b)内的试样分子(A)照射紫外光并将试样分子(A)离子化的放电管(29)。

公开(公告)号：CN1534289B

公开(公告)日：2010-04-07

申请号：CN200410008570.1

申请日：2004-03-24

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 表和彦

IPC: G01N23/207

CPC classification number: G01N23/20 ,  G21K1/06

Abstract: 一种X射线衍射装置，从入射光学系统(22)射出的X射线入射到被支撑在试样支撑机构(24)上的试样(60)上，来自此处的衍射X射线被受光光学系统(26)检测到。入射光学系统具有X射线源(66)和多层膜反射镜(61)。试样支撑机构的姿势控制机构(36、40)对按照使试样的法线(61)平行于第1旋转中心线(32)的方式将试样维持在第1姿势的状态、按照与之垂直的方式维持在第2姿势的状态进行切换。当将试样维持在第1姿势而使受光光学系统绕第1旋转中心线旋转时，就可以进行面内衍射测定。另一方面，当将试样维持在第2姿势而使受光光学系统同样地旋转时，就可以进行面外衍射测定。因此利用本发明的X射线衍射装置可以进行面内衍射测定。

公开(公告)号：CN116868048B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202180076558.6

申请日：2021-11-01

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 神户亮 ,  表和彦 ,  樋口稔文 ,  多田勉 ,  藤村一 ,  野野口雅弘 ,  姜立财 ,  鲍里斯·韦尔曼 ,  尤里·普拉托诺夫

IPC: G01N23/223

Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。

公开(公告)号：CN118708869A

公开(公告)日：2024-09-27

申请号：CN202410357935.9

申请日：2024-03-27

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 末永梨绘子 ,  伊藤义泰

IPC: G06F17/18

Abstract: 提供针对测定数据算出表示模型的优化程度的指标的解析装置、系统、方法以及记录介质。一种解析装置(400)，针对测定数据所遵循的概率分布函数为已知的所述测定数据，算出表示包含电子密度分布的信息的模型的优化程度的指标，所述解析装置(400)具备：测定数据取得部(410)，其取得所述测定数据；计算数据取得部(420)，其取得从所述模型计算出的计算数据；以及指标算出部(430)，其针对由包含所述测定数据和所述计算数据的规定的数学式定义的残差、以及基于所述概率分布函数和所述规定的数学式定义的所述残差的期待值，算出包含所述残差与所述残差的期待值之比的指标GOF。