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公开(公告)号：CN113837945A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111156447.4
申请日：2021-09-30
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种基于超分辨率重建的显示画质优化方法及系统，该方法包括超分辨率重建过程和对比度增强过程，超分辨率重建过程采用基于生成对抗网络GAN的网络框架对输入的低分辨率图像进行超分辨率重建；GAN网络框架由生成器和判别器两部分组成，生成器包括16个卷积模块，其后设置3个亚像素卷积层和1个升采样层，以得到一个四倍放大率的输出图像；判别器采用8个卷积模块，使用Leaky ReLU作为激活函数；预训练网络以首先针对PSNR进行优化，然后对其进行微调；对比度增强过程采用基于CLAHE的对比度增强算法对超分辨率重建得到的图像进行对比度增强。该方法及系统有利于重建出视觉感受更好、更为真实的图像。
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公开(公告)号：CN113837130A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111150158.3
申请日：2021-09-29
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种人体手部骨架检测方法，首先处理待识别图片，获取目标人体手部骨架的初始姿态，然后获取处理所述待识别图片过程中不同解码层输出的特征图，之后处理所述特征图得到特征图数据，并从所述特征图数据中提取与所述初始姿态对应的位置数据作为输入数据，最后输入所述初始姿态以及所述输入数据至经过训练的图卷积神经网络，获取所述目标手部骨架的最终姿态，其中，所述图卷积神经网络的矩阵表示根据人体手部骨架结构的约束关系确定。该技术方案通过结合人体关节结构之间的基本约束信息以及挖掘出的特征图中包含的被遮挡关键点的相关数据，能够精确地调整被遮挡关键点的位置，因此对于人体手部骨架的检测具有较高的正确率。
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公开(公告)号：CN113436806A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202110519898.3
申请日：2021-05-13
IPC: H01B13/00
Abstract: 本发明涉及一种高稳定性银纳米线图形化导电薄膜的制备方法。所述方法：先在银纳米线导电膜上实现光刻胶的图形化，接着利用半导体氧化物薄膜对未被光刻胶覆盖的银纳米线网络进行加固，最后通过超声使图形化光刻胶粘附底部银纳米线一起剥离出基板，从而实现银纳米线导电膜的图形化。本发明制作工艺简单、成本低，容易实现高分辨率的图形化银纳米线导电膜，同时能增强银纳米线的抗氧化能力和在基板上的附着性。
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公开(公告)号：CN110676250B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910982161.8
申请日：2019-10-16
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种无电学接触无巨量转移的全彩化μLED显示器件。包括设置于下透明基板表面的下驱动电极，设置于上透明基板上、下表面的光学微结构和上驱动电极，连接所述上、下透明基板的障壁微结构，设置障壁微结构内的μLED晶粒、波长下转换发光层和绝缘层以及控制模块；障壁微结构沿上驱动电极的方向依次构成红光显示的R单元，绿光显示的G单元及蓝光显示的B单元。本发明上、下驱动电极与μLED晶粒没有电学接触，通过控制模块提供交变驱动信号和电学耦合实现对μLED晶粒点亮，激发波长下转换发光层而实现全彩化显示，可有效地避免全彩μLED器件中三基色μLED芯片复杂制作工艺，及发光芯片与驱动芯片复杂Bonding和巨量转移工艺，缩短μLED显示制作周期，降低制作成本。
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公开(公告)号：CN112951103A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110115072.0
申请日：2021-01-27
Abstract: 本发明涉及一种提升子像素发光均衡的Micro‑LED制造方法，该方法包括：在阵列基板的受光面涂覆光刻胶；调整掩膜版，使掩膜版的透光区对应至每个显示像素；维持掩膜版与阵列基板相对位置不变，采用入射方向不同的三组光源同时透过掩膜版的透光区对不同组别的子像素进行曝光；其中，每组光源对应一组相同颜色的子像素，每组光源的光照强度和光照时间根据与该组光源对应颜色的子像素需填充的量子点胶体体积决定；使用显影液对阵列基板上的光刻胶进行第一时间的溶解；烘干阵列基板，并对子像素进行刻蚀形成三种深度不同的储液槽。该方法有利于提高子像素的发光亮度均衡，提升显示效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112947009A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110106838.9
申请日：2021-01-27
Abstract: 本发明涉及一种提升子像素发光均衡的Micro‑LED光刻系统，包括：光源模组，用于提供入射方向不同的三组光源；掩膜版模组，包括掩膜版，掩膜版包括透光区和非透光区；阵列基板，阵列基板包括阵列排布的显示像素，每个显示像素包括红、绿、蓝色子像素；装载平台，用于装载阵列基板；显影机，用于喷洒显影液对阵列基板上的光刻胶进行溶解；刻蚀机，用于对子像素进行刻蚀形成三种深度不同的储液槽。在维持掩膜版与阵列基板相对位置不变的情况下，三组光源在同一时间透过透光区对不同颜色的子像素进行曝光，每组光源的光照强度和光照时间根据与该组光源对应颜色的子像素需填充的量子点胶体体积决定。该系统有利于提高子像素的发光亮度均衡，提升显示效果。
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公开(公告)号：CN108847190B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201810753896.9
申请日：2018-07-10
Applicant: 福州大学
IPC: G09G3/34
Abstract: 本发明涉及一种电润湿电子纸显示器的驱动方法。根据电润湿电子纸显示器件反射率或开口率或灰度与驱动电压在上升和下降过程中函数关系的不同，确定预定灰度值与拐点电压区间，再根据像素点当前帧和下一帧的灰度值与拐点区间的关系，确定是否启用该驱动方法，若启用则将像素点当前帧的灰度值驱动到极端灰度后再驱动到该像素点的下一帧灰度，否则就直接将像素点当前帧的灰度直接驱动到像素点的下一帧灰度，实现了灰度的平缓变化和精准调制。
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公开(公告)号：CN111834390A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010535701.0
申请日：2020-06-12
Abstract: 本发明涉及一种全彩化三极发光管显示器件及制造方法，包括缓冲层、设置于缓冲层上的第一半导体层、以及设置于第一半导体层上的第一接触电极、用以显示红光的R单元、用以显示绿光的G单元和用于显示蓝光的B单元。在所述第一接触电极和R单元、G单元、B单元中的第二接触电极之间分别施加一个小功率可变输入信号，在所述第一接触电极和R单元、G单元、B单元中的第三接触电极之间分别施加一个正向偏置电压，使得R单元、G单元和B单元发光。本发明可以实现用小功率输入信号驱动发光芯片发光而激发色彩转换层，从而实现全彩化显示。
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公开(公告)号：CN108020958B
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201711257072.4
申请日：2017-12-04
Applicant: 福州大学
IPC: G02F1/13357
Abstract: 本发明提供一种直下式量子点背光源的封装结构及其制作方法，该封装结构为叠层式结构，包含阻隔层、量子点微结构阵列调光层、封装层以及反射层。这种封装结构采用全喷墨打印型制作工艺流程制作，具体是：对基板进行预处理形成阻隔层；把混合均匀的量子点浆料通过扫描型喷墨打印的方法印刷在基板的下表面并固化形成调光层；再在附有量子点网点的基板上通过点对点喷墨打印一层透明阻隔材料并固化形成封装层，再以喷涂、蒸镀等方式在外延附以高反射率材料形成反射层。本发明解决直下式量子点微结构阵列离散式分布的封装问题，与其他封装形式相比，具有功能完整、结构简化、工艺简单和降低成本的优势，可进一步推广应用于其他照明领域。
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公开(公告)号：CN111146367A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010062209.6
申请日：2020-01-20
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种微纳复合结构光提取膜的制备方法，包括步骤：步骤S1：采用软印刷方法制备具有有序微米结构的PDMS模板；步骤S2：将有序微米结构的PDMS模板进行拉伸，并进行等离子处理，在微米结构的PDMS模板上获得不同形状和尺寸的纳米图案，形成具有与所需微纳米复合结构相反的PDMS微纳米复合图案；步骤S3：将PDMS微纳米复合图案转移到所需聚合物上，得到光提取膜。本发明制作效率高，成本低，同时制备的光提取膜在有序微米结构图案嵌套无序纳米结构，可以避免器件衬底与空气界面的光损失，在不改变OLED器件的视角特性的同时，具有较强的光提取效果。
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